“近场光产生元件”专利关键词查询_检索下载_查询列表_检索列表_行业专利分布_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果3761534个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]近场光产生元件的制造方法和近场光产生元件-CN201210040477.3有效
发明人：筱原阳子;千叶德男;大海学;平田雅一;田边幸子;田中良和 -专利权人：精工电子有限公司
申请日： 2012-02-14 - 公布日： 2012-08-15 - 主分类号： G11B7/26 文献下载
摘要：本发明提供能够高精度地制造芯、包层以及散射体的相对位置、散射体的尺寸的近场光产生元件的制造方法。在设于基板的包层形成凹槽和V槽，将芯和金属构造物成膜于各个槽内部后，对基板表面进行平坦化。
近场产生元件制造方法

[发明专利]检查折射元件清洁状态的方法及近场型光学扫描装置-CN200680033374.7无效
发明人： C·A·弗舒伦 -专利权人：皇家飞利浦电子股份有限公司
申请日： 2006-09-08 - 公布日： 2008-09-10 - 主分类号： G11B7/12 文献下载
摘要：一种检测近场型光学扫描装置的折射元件的光出射面的清洁状态的方法，该方法包含下列步骤：产生近场控制信号，该近场控制信号与从折射元件的光出射面内部反射的光辐射束强度和对应的入射光辐射束强度之间的比率成比例；当折射元件的光出射面远离光盘超过近场距离时，测量近场控制信号；将测得的近场控制信号与预定阈值进行比较；如果测得的近场控制信号超过预定阈值，则将折射元件判断为清洁的。
检查折射元件清洁状态方法近场光学扫描装置

[发明专利]信息记录介质、信息装置及信息记录介质的制造方法-CN201280033257.6无效
发明人：盐野照弘;山田升;松崎圭一 -专利权人：松下电器产业株式会社
申请日： 2012-08-07 - 公布日： 2014-03-19 - 主分类号： G11B7/24035 文献下载
摘要：本发明提供的信息装置是对信息记录介质(3)进行信息的记录或再生的信息装置，包括：光源(14)；具有在与记录区域(4)之间产生等离子共振的共振部(22)的近场光产生元件(9)，其中，共振部(22)通过来自光源的射出光照射到近场光产生元件(9)产生等离子共振，共振增强膜使共振部(22)和记录区域(4)之间的等离子共振增强，共振部(22)产生近场光并将近场光从记录层侧照射到记录区域(4)。
信息记录介质装置制造方法

[发明专利]热辅助磁头检查方法及其装置-CN201210175492.9有效
发明人：张开锋;广濑丈师;渡边正浩;本间真司;中込恒夫;德富照明;中田俊彦;立崎武弘 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2012-05-30 - 公布日： 2012-12-05 - 主分类号： G11B5/455 文献下载
摘要：在热辅助磁头元件检查方法及其装置中，将样品装载到能在扫描探针显微镜装置的平面内移动的工作台上，使样品的近场光发光部产生近场光，通过在使具有探针的扫描探针显微镜的悬臂在样品表面附近上下振动的状态下使工作台在平面内移动，检测近场光引起的散射光，使用基于检测出的散射光的近场光的产生位置信息，检测从样品的近场光发光部发出的近场光的强度分布或者近场光发光部的表面形状。
辅助磁头检查方法及其装置

[发明专利]具有近场光产生层的薄膜磁头-CN200610167767.9无效
发明人：岛沢幸司;田上胜通 -专利权人： TDK株式会社
申请日： 2006-12-18 - 公布日： 2007-06-20 - 主分类号： G11B11/105 文献下载
摘要：提供了一种具有这样一种结构的薄膜磁头，在该结构中，元件成形表面和面对介质的表面彼此垂直，光源足够远离介质表面。该磁头包括至少一个近场光产生层，该至少一个近场光产生层用于在写操作期间通过产生近场光加热部分磁介质，具有向着面对介质的表面侧的头端表面逐渐变细的形状，并且包括一个具有光接收表面和一个尖端的近场光产生部分，该尖端触及面对介质的表面侧的头端表面，该光接收表面相对于元件成形表面倾斜并被设置在使从与面对介质的表面相对的头端表面传播的入射光能够到达该光接收表面的至少一部分的位置。
具有近场产生薄膜磁头

[发明专利]热辅助磁头元件的检查装置及其方法-CN201610181780.3在审
发明人：张开锋;广濑丈师;渡边正浩;杉山敏教;飞田明 -专利权人：株式会社日立高新技术高精细系统
申请日： 2016-03-28 - 公布日： 2016-10-12 - 主分类号： G01Q60/06 文献下载
摘要：本发明提供一种热辅助磁头元件的检查装置及其方法。在热辅助磁头的检查中，即使悬臂的测定探针的直径对于每个悬臂具有偏差，也能够保证进行高精度的检查。热辅助磁头元件的检查装置具备：悬臂；位移检测系统，其检测悬臂的位移；光检测器，其检测来自悬臂的散射光；信号处理部，其接收来自位移检测部的输出信号和来自光检测器的输出信号对信号进行处理；以及控制部，其对整体进行控制，还具备：载置部，其载置近场光产生样本；激光源，其发射激光；激光照射光学系统，其将激光照射到近场光产生样本而产生近场光；以及工作台部，其载置载置部和激光照射光学系统来使近场光产生样本在悬臂正下方与从悬臂离开的位置之间进行移动
辅助磁头元件检查装置及其方法

[发明专利]近场光产生元件、近场光头以及信息记录再现装置-CN200780042853.X有效
发明人：平田雅一;大海学;朴马中 -专利权人：精工电子有限公司
申请日： 2007-11-09 - 公布日： 2009-09-16 - 主分类号： G11B5/02 文献下载
摘要：本发明提供近场光产生元件、近场光头以及信息记录再现装置。近场光产生元件(22)具有：多面体状的芯体(40)，其具有反射面(40a)、光束会聚部(40b)和近场光生成部(40c)，上述反射面(40a)使光束(L)向不同于导入方向的方向反射，上述光束会聚部(40b)以与从一端侧朝向另一端侧的长度方向正交的截面面积逐渐减小的方式收缩成形，并用于使反射后的光束在会聚的同时向另一端侧传播，上述近场光生成部(40c)从上述光束会聚部的端部朝向另一端侧进一步收缩成形，而且用于自会聚起来的光束生成近场光(R)并从另一端侧向外部发出该近场光；以及包层(41)，其与芯体的侧面紧密接触地将芯体封闭在该包层的内部，端面(40d)形成为在光的波长以下的尺寸，近场光生成部的侧面被遮光膜(42)遮挡。
近场产生元件光头以及信息记录再现装置

[发明专利]抑制跳模的影响的热辅助磁记录头-CN201510040982.1有效
发明人：宫本治一 -专利权人： HGST荷兰有限公司
申请日： 2015-01-27 - 公布日： 2018-01-02 - 主分类号： G11B5/127 文献下载
摘要：在一个实施例中，一种器件包括激光单元，所述激光单元被配置为产生激光，所述激光单元在平行于激光发射的方向中具有长度的激光谐振器；以及，滑块，所述滑块在垂直于滑块的面向介质的表面的方向中具有长度，所述滑块包括主磁极，所述主磁极被配置为向磁介质写入数据；近场光生成元件，所述近场光生成元件被配置为当向其提供激光时产生近场光，以在通过加热磁介质的局部区域而向磁介质写入数据中辅助主磁极；以及，波导，所述波导被配置为将激光引导到元件，波导包括围绕芯的包层，其中，激光谐振器的纵模的间隔等于波导的光干涉周期的整数倍的大约5％内。
抑制影响辅助记录

[发明专利]磁记录头以及具备其的磁盘装置-CN201410051683.3在审
发明人：山田裕一 -专利权人：株式会社东芝
申请日： 2014-02-14 - 公布日： 2015-04-29 - 主分类号： G11B5/31 文献下载
摘要：根据实施方式，磁记录头具备：与盘状的记录介质（16）的记录层相对的介质相对面；近场光发生元件（65），其设置成一部分相对于介质相对面露出并产生将记录介质加热的近场光；和磁极（60），其具有相对于介质相对面露出的顶端面（60a）和与近场光发生元件相对的磁极端面（60b），并向记录介质的记录层施加记录磁场。在介质相对面上，磁极端面（60b）形成为相对于在近场光发生元件的中心通过并在介质相对面的长度方向上延伸的中心轴线不对称。
记录以及具备磁盘装置

[发明专利]用于车辆盲点检测的光检测与测距-CN201980071223.8在审
发明人：李浩;张云 -专利权人：纽诺有限公司
申请日： 2019-11-12 - 公布日： 2021-06-18 - 主分类号： G01S17/931 文献下载
摘要：在各种实施例中，该系统包括：光源，被配置为发射光；发射透镜，被定位为获得发射的光并且被配置为产生成形光束；光学元件，被定位为获得成形光束并且将成形光束重定向到近场物体以从近场物体产生散射光，并且获得并重定向散射光的至少一部分；以及收集透镜，被配置为将散射光的至少该部分聚焦在光检测器上。
用于车辆盲点检测测距

[发明专利]写部分、热辅助磁头滑动块、磁头折片组合及制造方法-CN201310057506.1无效
发明人：西岛夏夫;李东升 -专利权人：新科实业有限公司
申请日： 2013-02-22 - 公布日： 2014-08-27 - 主分类号： G11B5/60 文献下载
摘要：本发明公开一种用于热辅助磁头滑动块的写部分，包括：面向磁记录媒介的空气承载面；具有媒介面向表面的写元件；波导路，用于引导由安装于热辅助磁头滑动块的衬底之上的光源模块产生的光；及设置于所述写元件附近的等离子体激元单元，所述等离子体激元单元具有一近场光产生表面以传播近场光至所述空气承载面。其中，仅有所述写元件的媒介面向表面上覆盖有碳层。本发明不仅能防止写部分中的腐蚀性元件被腐蚀，防止写元件磨损，而且可保持等离子体激元单元的热稳定性。
部分辅助磁头滑动组合制造方法

[发明专利]近场光盘驱动器的间隙拉近方法及使用其的光盘驱动设备-CN200810184694.3无效
发明人：朴永在;金重坤;朴鲁喆;梁贤锡 -专利权人：三星电子株式会社;延世大学校产学协力团
申请日： 2008-12-15 - 公布日： 2009-11-25 - 主分类号： G11B7/09 文献下载
摘要：本发明公开了一种近场光盘驱动器的间隙拉近方法及使用该方法的光盘驱动设备。当光聚焦元件在近场光盘驱动器的间隙拉近过程中从开环状态转换为闭环状态时，所述方法可使由于光聚焦元件的移动速度和盘的颤动引起的过冲最小化。所述间隙拉近方法包括以下步骤：当在间隙拉近中开环状态变为闭环状态时，根据光聚焦元件的移动速度产生具有脉冲宽度和脉冲振幅的逆向致动器驱动信号；利用逆向致动器驱动信号驱动致动器。
近场光盘驱动器间隙拉近方法使用光盘驱动设备

[发明专利]近场光产生元件、光头及其制造方法和信息记录再现装置-CN201110272411.2有效
发明人：平田雅一;大海学 -专利权人：精工电子有限公司
申请日： 2011-09-14 - 公布日： 2012-04-04 - 主分类号： G11B5/31 文献下载
摘要：本发明提供可精度良好地对近场光产生部和芯体进行定位来提高近场光的产生效率的近场光产生元件、光头及其制造方法和信息记录再现装置。本发明的特征在于，具有：第1包层形成工序，在基板(120)上形成第1包层(24a)；近场光产生部形成工序，在第1包层(24a)上形成金属膜母材(151)；芯体形成工序，形成芯体母材，以覆盖金属膜母材(151
近场产生元件光头及其制造方法信息记录再现装置

[发明专利]基于径向偏振光束的双加工头激光加工装置-CN201610017166.3有效
发明人：詹秋芳;高秀敏;张荣福 -专利权人：上海理工大学
申请日： 2016-01-12 - 公布日： 2017-05-31 - 主分类号： B23K26/064 文献下载
摘要：本发明涉及一种基于径向偏振光束的双加工头激光加工装置，固态增益介质元件外侧设置有圆形型光泵浦源，圆形型光泵浦源出射的泵浦光照射在固态增益介质元件内；固态增益介质元件的内侧光路上依次设有第一反射镜和高反射腔镜，固态增益介质元件外侧光路上依次设有第二反射镜和圆锥面光场调节元件；高反射腔镜的相对于第一反射镜的另一侧光路上设置有光束会聚部件，圆锥面光场调节元件实现腔内径向偏振矢量光束产生，平行光轴光场在圆锥面光场调节元件的顶端平面发生反射，在圆锥面光场调节元件的顶端平面外侧形成近场激光加工光场。本发明可实现超衍射尺寸近场加工、可实现纵向偏振激光加工、便于构建、可靠性高、灵活性强、应用范围广等特点。
基于径向偏振光束工头激光加工装置

[发明专利]半导体发光元件-CN201510029040.3有效
发明人：邱新智;陈世益;吕志强 -专利权人：晶元光电股份有限公司
申请日： 2015-01-21 - 公布日： 2019-09-03 - 主分类号： H01L33/26 文献下载
摘要：本发明公开一种半导体发光元件，包含一外延叠层具有一第一半导体层、一第二半导体层以及一有源层位于该第一半导体层以及该第二半导体层之间用以产生一光波；以及一主要出光面位于该第一半导体层之上，该光波穿透过该主要出光面；其中，该主要出光面包含一第一出光区域、一第二出光区域以及一最大近场发光强度，该第一出光区域内的近场发光强度分布介于该最大近场发光强度的70％到100％之间，该第二出光区域内的近场发光强度分布介于该最大近场发光强度的
半导体发光元件

1
2
3
4
5
6
7
8
9
10
11
12
13
14
15
16
17
18
19
20
下一页»
尾页
共 100000 条