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- [发明专利]多层反射镜和光刻设备-CN201210091159.X有效
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A·M·雅库尼恩
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ASML荷兰有限公司
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2012-03-30
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2016-11-23
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G03F7/20
- 第一和第二层选自下列项构成的组:U(铀)或其化合物或其氮化物,和B4C层;Th(钍)或其化合物或其氮化物,和B4C层;La(镧)或其化合物或其氮化物,和B9C层;La(镧)或其化合物或其氮化物,和B4C层;U(铀)或其化合物或其氮化物,和B9C层;Th(钍)或其化合物或其氮化物,和B9C层;La(镧)或其化合物或其氮化物,和B(硼)层;U(铀)或其化合物或其氮化物,和B(硼)层;C(碳)或其化合物或其氮化物,和B(硼)层;Th(钍)或其化合物或其氮化物,和B(硼)层。
- 多层反射光刻设备
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