专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]绝缘电线和电缆-CN201680044522.9有效
  • 芦原新吾;矢崎浩贵;青山贵 - 日立金属株式会社
  • 2016-06-20 - 2019-09-13 - H01B7/02
  • 根据本发明的一个实施形态的绝缘电线具备导体、配置在导体的外周上的绝缘层,绝缘层具有包含内层和外层的层叠结构,内层由包含在氯系聚合物(a)上接枝共聚硅烷化合物而成的硅烷接枝氯系聚合物(A)的内层材料构成,外层由包含在氯化聚乙烯(b)上接枝共聚硅烷化合物而成的硅烷接枝氯化聚乙烯(B)、和在聚乙烯(c)上接枝共聚硅烷化合物而成的硅烷接枝聚乙烯(C)的外层材料构成,内层和外层以一体地进行硅烷交联的方式构成。
  • 绝缘电线电缆
  • [发明专利]在微波能照射下制备卤硅烷的方法-CN03808605.0无效
  • 诺贝特·奥纳 - 瓦克化学有限公司
  • 2003-04-15 - 2005-07-27 - C07F7/16
  • 本发明涉及使用微波能制备含有卤素与硅键合的硅烷的方法。将硅与选自以下组中的元素或化合物的混合物反应:卤素或卤素和有机卤素化合物或卤素和氢气或卤素和卤化氢或有机卤素化合物或有机卤素化合物和氢气或有机卤素化合物和卤化氢或卤化氢或氟硅烷和氢气或氟硅烷和卤化氢或含氢的氯硅烷和氢气或含氢的氯硅烷和卤化氢或有机卤硅烷和氢气或有机卤硅烷和卤化氢或烃类和卤化氢
  • 微波照射制备硅烷方法
  • [发明专利]硅烷残液处理工艺-CN201210531271.0有效
  • 王姗 - 成都蜀菱科技发展有限公司
  • 2012-12-11 - 2013-02-27 - C01B33/107
  • 本发明氯硅烷残液处理工艺,将一定浓度的氯硅烷残液送入处理系统,在表面蒸发器内均匀分配、并保持一定的温度、压力,使氯硅烷残液蒸发,回收蒸发出的氯硅烷气体;蒸发后的残液进入螺旋蒸发器,进行二次蒸发。通过两级蒸发、分离,将蒸发得到的氯硅烷气体,通过保温和换热冷凝后,得到氯硅烷产品,回收率达到95%以上。
  • 硅烷处理工艺

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