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[发明专利]真空沉积装置-CN201910382513.6在审
发明人：李都衡 -专利权人：阿普勒斯株式会社
申请日： 2019-05-08 - 公布日： 2020-08-25 - 主分类号： C23C16/505 文献下载
摘要：本发明涉及一种由工程腔室接收在连接到加热器的热交换机中进行热交换的冷却水的流入，借此在维持内部正常工程温度的同时执行特定温度的低温工程，从而在玻璃以及晶圆基板上沉积形成薄膜的真空沉积装置。本发明在包括腔室、基座、喷淋头以及加热器的真空沉积装置中，由腔室接收在连接到加热器的热交换机中进行热交换的一定温度的冷却水，借此在维持正常的工程温度的同时执行特定温度的低温工程，从而在玻璃以及晶圆基板上沉积形成薄膜
真空沉积装置

[发明专利]真空沉积装置-CN201280013425.5无效
发明人：宫川展幸;西森泰辅;安食高志 -专利权人：松下电器产业株式会社
申请日： 2012-03-12 - 公布日： 2014-01-15 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：提供了一种可在沉积材料的沉积期间抑制除要测量膜厚度的沉积材料之外的沉积材料附着于膜厚度计且可提高沉积膜厚度的测量精度的真空沉积装置。在真空室（1）中布置有被沉积体（4）和多个蒸发源（2），所述真空室包括包围被沉积体（4）和多个蒸发源（2）之间的空间的筒状体（3）、以及膜厚度计（10）。所述装置被构造成使得从多个蒸发源（2）蒸发的沉积材料（9）穿过筒状体（3）内部，到达被沉积体（4）的表面，并且沉积在该表面上。在膜厚度计（10）与所述多个蒸发源（2）中的至少一个蒸发源（2）之间布置有导管（7），所述导管用于将从所述蒸发源（2）蒸发的沉积材料（9）引导至膜厚度计（10）。
真空沉积装置

[发明专利]真空沉积设备和用于真空沉积的方法-CN201410318375.2有效
发明人：韩政洹 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2014-07-04 - 公布日： 2018-06-19 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：公开了一种真空沉积设备和一种用于真空沉积的方法。所述真空沉积设备包括真空沉积装置、掩模、真空室和控制单元。真空沉积装置在基底上沉积薄膜层。掩模设置在基底和真空沉积装置之间，使用掩模在基底上选择性地沉积薄膜层。真空室围绕真空沉积装置和掩模。控制单元设置在真空室的外部，控制单元与真空沉积装置连接并控制施加在掩模上的拉力和压缩力。 1
真空沉积装置掩模真空沉积设备真空室基底沉积薄膜真空沉积压缩力施加外部

[发明专利]线性串联的原子层沉积系统-CN202010348349.X在审
发明人：李哲峰;乌磊;聆领安辛 -专利权人：深圳市原速光电科技有限公司
申请日： 2020-04-27 - 公布日： 2021-11-12 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明公开一种线性串联的原子层沉积系统，其中，所述线性串联的原子层沉积系统包括真空放卷装置、真空收卷装置、至少一个真空沉积装置及至少一个真空卷料辅助装置，真空放卷装置套设有卷料，用于将卷料拉出；真空收卷装置与真空放卷装置间隔设置，真空收卷装置用于将拉出后的卷料回收；至少一个真空沉积装置设于真空放卷装置和真空收卷装置之间，并依次连接；真空沉积装置用于对卷料沉积处理；真空卷料辅助装置设于相邻两个真空沉积装置之间、和/或真空沉积装置与真空放卷装置之间、和/或真空沉积装置与真空收卷装置之间。本发明技术方案调整卷料在传送过程中的位置，以改善卷料表面的原子沉积效果。
线性串联原子沉积系统

[实用新型]线性串联的原子层沉积系统-CN202020670207.0有效
发明人：李哲峰;乌磊;聆领安辛 -专利权人：深圳市原速光电科技有限公司
申请日： 2020-04-27 - 公布日： 2021-01-12 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本实用新型公开一种线性串联的原子层沉积系统，其中，所述线性串联的原子层沉积系统包括真空放卷装置、真空收卷装置、至少一个真空沉积装置及至少一个真空卷料辅助装置，真空放卷装置套设有卷料，用于将卷料拉出；真空收卷装置与真空放卷装置间隔设置，真空收卷装置用于将拉出后的卷料回收；至少一个真空沉积装置设于真空放卷装置和真空收卷装置之间，并依次连接；真空沉积装置用于对卷料沉积处理；真空卷料辅助装置设于相邻两个真空沉积装置之间、和/或真空沉积装置与真空放卷装置之间、和/或真空沉积装置与真空收卷装置之间。本实用新型技术方案调整卷料在传送过程中的位置，以改善卷料表面的原子沉积效果。
线性串联原子沉积系统

[发明专利]薄膜电池制备装置及方法-CN201910022823.7有效
发明人：李致朋;区定容 -专利权人：深圳市致远动力科技有限公司
申请日： 2019-01-10 - 公布日： 2021-04-13 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明提供了一种薄膜电池制备装置及方法，该装置包括薄膜沉积真空腔，用于在电池的衬底上沉积薄膜，薄膜沉积真空腔的数量至少为两个；真空连接腔，连接相邻两个薄膜沉积真空腔；真空阀，设于薄膜沉积真空腔和真空连接腔之间，用于控制薄膜沉积真空腔和真空连接腔的连通和关闭；传送机构，设于真空连接腔内，用于将电池从其中一个薄膜沉积真空腔内转移至相邻的薄膜沉积真空腔。本发明提供的薄膜电池制备装置，多个薄膜沉积真空腔通过真空阀及真空连接腔，并可通过传送机构将沉积后的衬底移送到相邻的薄膜沉积真空腔中，进行其他沉积，如此重复即可在不换靶材的情况下，保持电池生产的过程连续不断地进行
薄膜电池制备装置方法

[发明专利]可拆式粉末原子层沉积装置的自动化机台-CN202110455649.2在审
发明人：林俊成;张容华 -专利权人：鑫天虹(厦门)科技有限公司
申请日： 2021-04-26 - 公布日： 2022-10-28 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明提供一种可拆式粉末原子层沉积装置的自动化机台，主要包括一原子层沉积作业区、一可拆式粉末原子层沉积装置、一真空腔体放置区及一输送装置，其中可拆式粉末原子层沉积装置的真空腔体可相对于轴封装置拆卸或连接输送装置可将真空腔体由真空腔体放置区输送至原子层沉积作业区，并将真空腔体固定在轴封装置上，以对真空腔体内的粉末进行原子层沉积。完成沉积的真空腔体可由轴封装置卸下，并通过输送装置将真空腔体输送至真空腔体放置区，以进行自动化粉末的原子层沉积制程。
可拆式粉末原子沉积装置自动化机台

[实用新型]可拆式粉末原子层沉积装置的自动化机台-CN202120874304.6有效
发明人：林俊成;张容华 -专利权人：鑫天虹(厦门)科技有限公司
申请日： 2021-04-26 - 公布日： 2022-04-01 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本实用新型提供一种可拆式粉末原子层沉积装置的自动化机台，主要包括一原子层沉积作业区、一可拆式粉末原子层沉积装置、一真空腔体放置区及一输送装置，其中可拆式粉末原子层沉积装置的真空腔体可相对于轴封装置拆卸或连接输送装置可将真空腔体由真空腔体放置区输送至原子层沉积作业区，并将真空腔体固定在轴封装置上，以对真空腔体内的粉末进行原子层沉积。完成沉积的真空腔体可由轴封装置卸下，并通过输送装置将真空腔体输送至真空腔体放置区，以进行自动化粉末的原子层沉积制程。
可拆式粉末原子沉积装置自动化机台

[实用新型]一种硅基薄膜生产装置-CN201220022528.5有效
发明人：解欣业;王伟;史国华;刘先平;邓晶 -专利权人：威海中玻光电有限公司
申请日： 2012-01-18 - 公布日： 2012-10-03 - 主分类号： C23C16/54 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种硅基薄膜生产装置，其特征在于由加热段、真空过渡段1、沉积段、真空过渡段2、冷却段组成，自动闸板阀装于各工作室之间，加热段和冷却段为非真空段，沉积段由数个沉积模块构成，每个沉积模块均由沉积室、真空过渡室、传动装置、位置测量装置、真空获得装置、配气装置和排气装置组成，两个沉积室对称或不对称地分布在真空过渡室的两侧，每一个沉积室分别与一台工艺干泵相连，沉积室和真空过渡室共用一套真空获得装置，沉积模块两端均设有尺寸和形状完全相同或相互配合的连接装置，通过连接装置将数个平行排列的沉积模块连接起来形成一个连续镀膜的沉积段，本装置可以根据镀膜工艺和产能设计的不同要求增减沉积模块的数量，其适用范围广，生产效率高，维护维修方便。
一种薄膜生产装置

[发明专利]真空沉积装置和使用该真空沉积装置的真空沉积方法-CN201110115766.0有效
发明人：李济玩;林永昌;李星昊;朴成镐;崔完旭;郑锡宪 -专利权人：三星SDI株式会社
申请日： 2011-04-28 - 公布日： 2012-05-23 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：提供了一种将沉积物质沉积到基片中除未涂覆部分之外的涂覆部分的真空沉积装置和使用该真空沉积装置的真空沉积方法。所述真空沉积装置包括：辊筒，在真空腔内支撑具有涂覆部分和未涂覆部分的基片的连续移动；沉积源，安装在所述辊筒的对立侧以向所述涂覆部分提供沉积物质；掩模，在所述沉积源的开口与所述辊筒之间移动时阻断沉积物质从所述沉积源向所述涂覆部分移动检测在移动的基片上设置的第一参考点和第二参考点；控制器，根据基于第一参考点和第二参考点计算得出的并且在所述掩模上设置的第三参考点和第四参考点是否分别对应于第一参考点和第二参考点来控制所述基片和所述掩模的移动，以便将沉积物质沉积到所述涂覆部分
真空沉积装置使用方法

[发明专利]自动水平式硅基薄膜生产装置-CN201010300663.7有效
发明人：解欣业;王伟;史国华;刘先平;邓晶 -专利权人：威海中玻光电有限公司
申请日： 2010-01-25 - 公布日： 2010-06-23 - 主分类号： C23C16/24 文献下载
摘要：本发明涉及太阳能的应用领域，具体地说是一种自动水平式硅基薄膜生产装置，其特征在于由加热段、真空过渡段1、沉积段、真空过渡段2、冷却段组成，自动闸板阀装于各工作室之间，加热段和冷却段为非真空段，沉积段由数个沉积模块构成，每个沉积模块均由沉积室、真空过渡室、传动装置、位置测量装置、真空获得装置、配气装置和排气装置组成，两个沉积室对称或不对称地分布在真空过渡室的两侧，每一个沉积室分别与一台工艺干泵相连，沉积室和真空过渡室共用一套真空获得装置，沉积模块两端均设有尺寸和形状完全相同或相互配合的连接装置，通过连接装置将数个平行排列的沉积模块连接起来形成一个连续镀膜的沉积段，本装置可以根据镀膜工艺和产能设计的不同要求增减沉积模块的数量，其适用范围广
自动水平式硅基薄膜生产装置

[发明专利]用于清洗薄膜式真空规沉积物清除装置的清洗设备及方法-CN202010336945.6在审
发明人：张心强;陈林 -专利权人：中科九微科技有限公司
申请日： 2020-04-24 - 公布日： 2020-07-10 - 主分类号： B08B3/12 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于清洗薄膜式真空规沉积物清除装置的清洗设备及方法，清洗设备包括沿清洗方向依次设置的预处理腔室、电化学清洗腔室、等离子清洗腔室、超声清洗腔室，以及用于在相邻两个腔室之间传递所述真空规沉积物清除装置的运输装置如此设计，依次通过超声预清洗、电化学清洗、等离子清洗和超声清洗四道工序对真空规沉积物清除装置上的沉积物进行清洗，可以高效地清除真空规沉积物清除装置上附着的各种沉积物，实现真空规沉积物清除装置的重复利用；而且，通过运输装置实现真空规沉积物清除装置在四个腔室之间的自动流转，实现了对真空规沉积物清除装置的自动化清洗，提高了清洗效率。
用于清洗薄膜真空沉积物清除装置设备方法

[实用新型]用于清洗薄膜式真空规沉积物清除装置的清洗设备-CN202020645943.0有效
发明人：张心强;陈林 -专利权人：中科九微科技有限公司
申请日： 2020-04-24 - 公布日： 2020-12-04 - 主分类号： B08B3/12 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于清洗薄膜式真空规沉积物清除装置的清洗设备，清洗设备包括沿清洗方向依次设置的预处理腔室、电化学清洗腔室、等离子清洗腔室、超声清洗腔室，以及用于在相邻两个腔室之间传递所述真空规沉积物清除装置的运输装置如此设计，依次通过超声预清洗、电化学清洗、等离子清洗和超声清洗四道工序对真空规沉积物清除装置上的沉积物进行清洗，可以高效地清除真空规沉积物清除装置上附着的各种沉积物，实现真空规沉积物清除装置的重复利用；而且，通过运输装置实现真空规沉积物清除装置在四个腔室之间的自动流转，实现了对真空规沉积物清除装置的自动化清洗，提高了清洗效率。
用于清洗薄膜真空沉积物清除装置设备

[发明专利]横向型真空沉积装置以及用于其的源块和源组件-CN201910954032.8在审
发明人：徐智萬;郑浩永;朴哉昱 -专利权人：乐金显示有限公司
申请日： 2019-10-09 - 公布日： 2020-04-17 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明涉及横向型真空沉积装置以及用于其的源块和源组件。公开了可以简化横向型真空沉积装置的源块以及使用其的横向型真空沉积装置。源块具有预定形状。在横向型真空沉积装置中，衬底和源块可以彼此面对。因此，包括源块的横向型真空沉积装置没有用于将蒸发源传递至喷嘴的导管，从而简化了装置的结构。特别地，源块可以具有至少10％的可见光透射率并且可以在横向型真空沉积处理期间表现出优异的形状保持能力。
横向真空沉积装置以及用于组件

[发明专利]抽真空系统及等离子沉积设备-CN202211374298.3在审
发明人：闫敏;薛云舰;黄秋实;王秋安;杨俊生;张宪宇;刘振华;耿醒;李建树;王建江 -专利权人：江苏亨通光纤科技有限公司;江苏亨通光导新材料有限公司;江苏亨通光电股份有限公司
申请日： 2022-11-03 - 公布日： 2023-02-03 - 主分类号： C23C16/54 文献下载
摘要：本发明属于沉积设备技术领域，公开了抽真空系统及等离子沉积设备。该抽真空系统用于对反应室抽真空，反应室用于容纳未沉积物，该抽真空系统包括连接管、真空泵和清洁装置，连接管的一端与反应室连通，真空泵的抽气端与连接管的另一端连通，清洁装置与连接管的侧壁连通，清洁装置包括粉尘收集器，粉尘收集器设有真空内腔，粉尘收集器用于收集未沉积物。本发明提供的抽真空系统中的清洁装置利用真空内腔吸入留在连接管内的未沉积物，清洁装置能有效地清除留在抽真空系统内的未沉积物，防止由于未沉积物堆积堵塞真空泵而导致真空度不够的问题，该抽真空系统能使反应室内部持续保持真空状态
真空系统等离子沉积设备

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