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- [发明专利]干式清洗装置-CN202110280994.7在审
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凌朝远;邓博
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理光创想智造有限公司
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2021-03-16
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2022-09-20
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B08B5/02
- 本发明提供干式清洗装置，该干式清洗装置包含：清洗室(1)，其容置被清洗物；清洗介质收纳室(2)，其容纳清洗介质(A)；清洗介质喷射机构(5)，其与清洗介质收纳室连接，将清洗介质收纳室内的清洗介质向清洗室内的被清洗物喷射；由清洗介质喷射机构喷射的清洗介质在被喷射出之后向清洗介质收纳室中循环，其中，该干式清洗装置还包含污垢分离机构(3)，该污垢分离机构介于清洗室与清洗介质收纳室之间，从向清洗介质收纳室循环途中的清洗介质中分离出混杂在该清洗介质中的污垢并使该清洗介质向清洗介质收纳室中循环由此，能够向清洗介质收纳室回收干净的清洗介质而确保清洗效果。
- 清洗装置
- [实用新型]一种清洗枪-CN201220551939.3有效
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甘继东;甘鸿轩
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甘继东
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2012-10-25
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2013-07-03
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B05B11/00
- 本实用新型公开一种清洗枪，包括枪体组件、清洗介质供送机构，枪体组件与清洗介质供送机构连接，所述清洗介质供送机构位于枪体组件中手柄的前端，所述清洗介质供送机构设有清洗介质进口端，所述清洗介质进口端与清洗介质源连接本实用新型的清洗枪，由于设置枪体组件以及清洗介质供送机构，清洗介质进口端设置在清洗介质供送机构上，而不是设置在手柄上，因而使用时，可以避免蒸汽等清洗介质将使用者烫伤，提高了使用的安全性。
- 一种清洗
- [发明专利]清洗容器处理设备的清洗装置-CN201110203358.0有效
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迈克尔·彼特
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克朗斯股份有限公司
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2011-07-20
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2012-02-08
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B08B9/093
- 清洗容器处理设备的清洗装置，该装置包括提供第一清洗介质的第一容器(2)，该装置包括提供第二清洗介质的第二容器(4)，其中，第二清洗介质在至少一个性能上区别于第一清洗介质，并且该装置包括应用装置(10)，应用装置(10)至少偶尔将第一清洗介质和至少偶尔将第二清洗介质应用于容器处理设备。根据本发明，清洗装置具有至少一个供料管路(12)，该供料管路(12)偶尔将第一清洗介质和第二清洗介质传送至应用装置(10)；应用装置具有可变的清洗介质的出口横截面，其中这一出口横截面根据退出的清洗介质自动改变
- 清洗容器处理设备装置
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