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[发明专利]负型感光性树脂组合物、树脂固化膜、分隔壁以及光学元件-CN201380057147.8有效
发明人：松浦启吾;高桥秀幸;川岛正行;小林大介 -专利权人：旭硝子株式会社
申请日： 2013-10-29 - 公布日： 2017-02-15 - 主分类号： B32B27/18 文献下载
摘要：本发明提供具备如下特性的负型感光性树脂组合物可以对固化膜、尤其是分隔壁的上表面赋予良好的拒墨性，并且，即便不对由分隔壁包围而成的开口部内进行UV/O3照射处理，拒墨剂也不易残留，墨可以均匀地润湿扩展而不会产生不均一种负型感光性树脂组合物，其特征在于，包含具有光固化性的碱溶性树脂或者碱溶性单体(A)、光聚合引发剂(B)、具有氟原子的拒墨剂(C)和化合物(D)，所述化合物(D)为水解性硅烷化合物混合物的部分水解缩合物、且不含氟原子，所述水解性硅烷化合物混合物包含具有巯基和水解性基团的水解性硅烷化合物、和/或具备具有烯属双键的基团和水解性基团的水解性硅烷化合物。
感光性树脂组合固化隔壁以及光学元件

[发明专利]光反应性组合物-CN02807951.5无效
发明人：高桥克典;福井弘司;川端和裕;黑田健夫;一谷基邦;中谷康弘 -专利权人：积水化学工业株式会社
申请日： 2002-04-09 - 公布日： 2004-08-25 - 主分类号： C08G77/00 文献下载
摘要：本发明提供了光反应性组合物，通过光照射可使该组合物中可水解的金属化合物发生反应。所述光反应性组合物含有可水解的金属化合物(A)和化合物(B)，所述化合物(A)具有金属原子和与所述金属原子键合的可水解的官能团，所述化合物(B)在氧气存在下经光照射促进所述化合物(A)的反应、聚合或交联
光反应组合

[发明专利]钛/锆膜形成用涂布剂、钛/锆膜形成方法及用钛/锆膜涂覆的金属基材-CN200810080859.2无效
发明人：永井彰典;矶崎理 -专利权人：关西涂料株式会社
申请日： 2008-02-22 - 公布日： 2008-09-17 - 主分类号： C09D7/12 文献下载
摘要：本发明提供一种含钛/锆的膜形成用涂布剂，其含有使(A)钛化合物及(B)锆化合物与双氧水反应得到的含钛/锆水性溶液，其中，所述(A)钛化合物是选自水解性钛化合物、水解性钛化合物的低缩合物、氢氧化钛及氢氧化钛的低缩合物中的至少一种，所述(B)锆化合物是选自水解性锆化合物、水解性锆化合物的低缩合物、氢氧化锆及氢氧化锆的低缩合物中的至少一种。
形成用涂布剂方法锆膜涂覆金属基材

[发明专利]液晶薄膜形成用组合物、光学各向异性薄膜及其制造方法-CN200480034612.7有效
发明人：施泽民;赤松正;佐藤道夫;花田常雄 -专利权人：索尼化学株式会社
申请日： 2004-08-31 - 公布日： 2006-12-27 - 主分类号： G02B5/30 文献下载
摘要：液晶薄膜形成用液晶组合物是在聚合性液晶化合物中添加烷氧基硅烷化合物的水解产物形成的。烷氧基硅烷化合物的水解产物含有聚合度2～25的硅氧烷低聚物。另外，烷氧基硅烷化合物是具有官能团的三烷氧基硅烷化合物。该液晶薄膜形成用组合物可以如下制造：对烷氧基硅烷化合物进行水解处理，得到其水解产物，将所得的水解产物添加到聚合性液晶化合物中，均匀混合；或者将烷氧基硅烷化合物和聚合性液晶化合物均匀混合，在其混合物中对烷氧基硅烷化合物进行水解处理这里，当烷氧基硅烷化合物中的烷氧基的数量为d个时，优选用0.1d～2.0d摩尔的水对该烷氧基硅烷化合物进行水解处理。另外，将该液晶薄膜形成用组合物涂布到基材薄膜上，向列取向后，进行固化处理，可以得到光学各向异性薄膜，其液晶的取向方式优选为向列混合取向或向列垂直(homeotropic)取向。
液晶薄膜形成组合光学各向异性及其制造方法

[发明专利]负型感光性组合物、使用该组合物的光学元件用间隔壁及具有该间隔壁的光学元件-CN200980130901.X有效
发明人：古川丰 -专利权人：旭硝子株式会社
申请日： 2009-07-31 - 公布日： 2011-06-29 - 主分类号： G03F7/075 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供可用于制造即使经过亲油墨化处理也能保持优良的拒油墨性的间隔壁的负型感光性组合物以及使用该组合物的光学元件用的间隔壁。一种负型感光性组合物以及使用该组合物的光学元件用的间隔壁，该组合物含有相对于总量为0.01～10质量％的下述拒油墨剂(A)、在1分子内具有酸性基团和乙烯性双键的感光性树脂(B)、光聚合引发剂(C)。拒油墨剂(A)：由至少3种水解性硅烷化合物所生成的水解缩合产物组成，氟原子含有率为10～55质量％；所述至少3种水解性硅烷化合物分别选自以下水解性硅烷化合物：具有碳数3～10的可含醚性氧原子的全氟烷基的三官能性水解性硅烷化合物、双官能～四官能性水解性硅烷化合物、具有(甲基)丙烯酰基的双官能～三官能性水解性硅烷化合物。
感光性组合使用光学元件间隔具有

[发明专利]部分水解缩合物、拒墨剂、负型感光性树脂组合物、固化膜、分隔壁和光学元件-CN201380022370.9有效
发明人：高桥秀幸;川岛正行 -专利权人：旭硝子株式会社
申请日： 2013-04-23 - 公布日： 2015-01-07 - 主分类号： C08G77/28 文献下载
摘要：提供水解性硅烷化合物的部分水解缩合物；可以选择性地对分隔壁上表面赋予良好的拒墨性的拒墨剂；即使以低曝光量进行曝光也可以选择性地对分隔壁上表面赋予良好的拒墨性、不易在点内残留拒墨剂的负型感光性树脂组合物；即使经UV/O₃照射处理也可以良好地保持拒墨性的固化膜和分隔壁；以及可以在点内均匀地涂布墨的光学元件。一种混合物的部分水解缩合物，其包含第一水解性硅烷化合物和第二水解性硅烷化合物，所述第一水解性硅烷化合物具有氟代亚烷基和/或氟代烷基、和水解性基团，且不具有巯基，所述第二水解性硅烷化合物具有巯基和水解性基团
部分水解缩合拒墨剂感光性树脂组合固化隔壁光学元件

[发明专利]阻气性积层体及其制备方法-CN200980113182.0有效
发明人：广濑航;尾下龙也 -专利权人：可乐丽股份有限公司
申请日： 2009-04-08 - 公布日： 2011-03-23 - 主分类号： B32B27/30 文献下载
摘要：阻气层由含有化合物(L)的水解缩合物和聚合物(X)的中和物的组合物形成，所述聚合物(X)含有羧基或羧酸酐基。化合物(L)含有特定的化合物(A)和特定的化合物(B)，所述特定的化合物(A)含有键合了具水解性的特性基团的M1(Al、Pi或Zr)，所述特定的化合物(B)含有键合了具水解性的特性基团的Si。聚合物(X)的-COO-基团的至少一部分被二价以上的金属离子中和。化合物(B)的80％(摩尔)以上是由规定的式表示的化合物。[化合物(A)的M1的摩尔数]/[化合物(B)的Si的摩尔数]之比在0.1/99.9～30.0/70.0的范围。
气性积层体及其制备方法

[发明专利]一种耐水解难燃聚酯及其生产方法和制成的薄膜-CN201010158187.X无效
发明人：邹美华;祁华 -专利权人：东丽纤维研究所(中国)有限公司
申请日： 2010-03-25 - 公布日： 2011-09-28 - 主分类号： C08L67/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种耐水解的难燃聚酯和生产方法及其制成的薄膜。该耐水解的难燃聚酯，至少含有一种化合物A来自磷化合物稳定剂，至少有一种化合物B来自苯甲酸酯类化合物，至少有一种化合物C来自含磷反应型难燃剂。本发明所述的聚酯及其制成的薄膜具有良好的耐水解性的同时还具有较好的难燃性。
一种耐水解难聚酯及其生产方法制成薄膜

[发明专利]含有添加剂的含硅极紫外抗蚀剂下层膜形成用组合物-CN201380021388.7有效
发明人：志垣修平;谷口博昭;柴山亘;坂本力丸;何邦庆 -专利权人：日产化学工业株式会社
申请日： 2013-02-22 - 公布日： 2020-09-08 - 主分类号： G03F7/11 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供抗蚀剂形状良好的极紫外抗蚀剂下层膜形成用组合物。于是，提供了一种极紫外光刻用抗蚀剂下层膜形成用组合物，含有聚硅氧烷A和水解性硅烷化合物b，所述聚硅氧烷A含有水解性硅烷a的水解缩合物，所述水解性硅烷化合物b具有磺酰胺结构、羧酰胺结构、脲结构、或异氰脲酸结构还提供了一种极紫外光刻用抗蚀剂下层膜形成用组合物，含有聚硅氧烷B，所述聚硅氧烷B含有水解性硅烷a与水解性硅烷化合物b的水解缩合物，所述水解性硅烷化合物b具有磺酰胺结构、羧酰胺结构、脲结构、或异氰脲酸结构聚硅氧烷(A)是四烷氧基硅烷和烷基三烷氧基硅烷和芳基三烷氧基硅烷的共水解缩合物。
含有添加剂含硅极紫外抗蚀剂下层形成组合

[发明专利]含有添加剂的含硅极紫外抗蚀剂下层膜形成用组合物-CN201711347297.9有效
发明人：志垣修平;谷口博昭;柴山亘;坂本力丸;何邦庆 -专利权人：日产化学工业株式会社
申请日： 2013-02-22 - 公布日： 2021-06-01 - 主分类号： G03F7/09 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供抗蚀剂形状良好的极紫外抗蚀剂下层膜形成用组合物。于是，提供了一种极紫外光刻用抗蚀剂下层膜形成用组合物，含有聚硅氧烷A和水解性硅烷化合物b，所述聚硅氧烷A含有水解性硅烷a的水解缩合物，所述水解性硅烷化合物b具有磺酰胺结构、羧酰胺结构、脲结构、或异氰脲酸结构还提供了一种极紫外光刻用抗蚀剂下层膜形成用组合物，含有聚硅氧烷B，所述聚硅氧烷B含有水解性硅烷a与水解性硅烷化合物b的水解缩合物，所述水解性硅烷化合物b具有磺酰胺结构、羧酰胺结构、脲结构、或异氰脲酸结构聚硅氧烷(A)是四烷氧基硅烷和烷基三烷氧基硅烷和芳基三烷氧基硅烷的共水解缩合物。
含有添加剂含硅极紫外抗蚀剂下层形成组合

[发明专利]碳分析方法-CN201680045442.5有效
发明人：田口裕务 -专利权人：东亚合成株式会社
申请日： 2016-07-22 - 公布日： 2021-02-12 - 主分类号： G01N31/00 文献下载
摘要：本发明的碳分析方法的特征在于，使含有具有水解性的卤化金属化合物和有机成分的原料与纯水混合，使卤化金属化合物水解，形成水解物后，回收得到的水解物和上述有机成分的混合物，通过对该混合物进行碳分析，得到碳量。另一本发明的碳分析方法的特征在于，用纯水使具有水解性、含有卤原子和碳原子的金属化合物水解，形成含有碳原子的水解物后，对得到的水解物进行碳分析，得到碳量。
分析方法

[发明专利]一种酰胺化合物的制备方法-CN201410227334.2有效
发明人：周宇扬;王筱梅;叶常青;朱赛江;梁作芹 -专利权人：苏州科技学院
申请日： 2014-05-27 - 公布日： 2014-09-03 - 主分类号： C07D213/82 文献下载
摘要：本发明公开了一种酰胺化合物的制备方法，具体包括如下步骤：空气氛围中，在碱存在下，以氰基化合物、硼酸化合物为原料，以质子性溶剂以及非质子性溶剂的混合溶剂为反应介质，以钯化合物为催化剂，加热下通过氰基水解反应与碳碳偶联反应制备得到酰胺化合物本发明公开的新的制备酰胺化合物的方法避免了现有技术中氧化剂的使用，从而有效抑制了氰基的过度水解，避免了酰胺进一步水解为羧酸的现象，极大提高了酰胺化合物的反应产率；并且此方法可与碳碳偶联反应同时进行，制备更多酰胺化合物，对于酰胺化合物的工业化生成具有重要的市场价值和经济效益。
一种化合物制备方法

[发明专利]成形品-CN200980144161.5有效
发明人：柴田学;尾下龙也;广濑航 -专利权人：可乐丽股份有限公司
申请日： 2009-11-04 - 公布日： 2011-09-28 - 主分类号： B65D30/02 文献下载
摘要：该成形品使用气体阻隔性层叠体而形成。气体阻隔性层叠体包含基材和层叠在基材上的至少1个具有气体阻隔性的层。该层由含有化合物(L)的水解缩合物和含有羧基或羧酸酐基的聚合物(X)的中和物的组合物形成。化合物(L)含有化合物(A)和化合物(B)，所述化合物(A)含有结合了具有水解性的特性基团的M1(Al、Ti或Zr)，所述化合物(B)含有结合了具有水解性的特性基团的Si。聚合物(X)的-COO-基的至少一部分被2价以上的金属离子中和。化合物(B)的80摩尔%以上为由预定的式表示的化合物。[化合物(A)的M1的摩尔数]/[化合物(B)的Si的摩尔数]的比值在0.1/99.9～35.0/65.0的范围。
成形

[发明专利]复合半透膜及其制造方法-CN201180058679.4有效
发明人：峰原宏树;中辻宏治;富冈洋树 -专利权人：东丽株式会社
申请日： 2011-12-05 - 公布日： 2013-08-14 - 主分类号： B01D69/12 文献下载
摘要：本发明提供一种复合半透膜，所述复合半透膜在微多孔性支承膜上形成分离功能层，该分离功能层是如下形成的：使用化合物(A)、化合物(B)及化合物(C)，所述化合物(A)是具有乙烯性不饱和基团的反应性基团及水解性基团与硅原子直接键合的化合物，所述化合物(B)是除上述化合物(A)之外的具有乙烯性不饱和基团的化合物，所述化合物(C)是除上述化合物(A)及(B)之外的具有乙烯性不饱和基团的化合物，通过化合物(A)所具有的水解性基团的缩合、以及化合物(A)、化合物(B)及化合物(C)所具有的乙烯性不饱和基团的聚合形成该分离功能层，化合物(A)、化合物(B)及化合物(C)满足数学式(I)的关系(其中，QX表示化合物X的Alfrey-Price的Q值。
复合半透膜及其制造方法

[发明专利]拒墨性组合物、负型感光性树脂组合物、固化膜、分隔壁以及光学元件-CN201380049711.1有效
发明人：高桥秀幸;松浦启吾;川岛正行 -专利权人：旭硝子株式会社
申请日： 2013-09-19 - 公布日： 2015-06-03 - 主分类号： C08L33/16 文献下载
摘要：本发明提供拒墨性及其耐UV/O3性良好的拒墨性组合物、提供上表面具有良好的拒墨性且即使经过UV/O3照射处理其拒墨性也能够良好保持的固化膜和分隔壁、并且提供能够在点内均匀涂布墨的光学元件。一种拒墨性组合物，其包含第一化合物和第二化合物，所述第一化合物为包含具有氟亚烷基和/或氟烷基以及水解性基团的第一水解性硅烷化合物的混合物的部分水解缩合物，所述第二化合物的主链为烃链且包含具有氟原子的侧链
拒墨性组合感光性树脂固化隔壁以及光学元件

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