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[发明专利]辐射率可调的二氧化钒基复合薄膜及其制备方法和应用-CN201110108344.0无效
发明人：高彦峰;康利涛;罗宏杰;金平实 -专利权人：中国科学院上海硅酸盐研究所
申请日： 2011-04-28 - 公布日： 2012-10-31 - 主分类号： C03C17/34 文献下载
摘要：本发明涉及辐射率可调的二氧化钒基复合薄膜及其制备方法和应用。提供一种辐射率可调的二氧化钒基复合薄膜，包括二氧化钒薄膜层和复合于所述二氧化钒薄膜层能够降低所述二氧化钒基复合薄膜的辐射率的透明导电薄膜层，且所述二氧化钒基复合薄膜的辐射率为0.70以下。本发明二氧化钒基复合薄膜不仅集成了热致变色智能节能玻璃和低辐射玻璃的优点，还具有较高的可见光透过率，提高了二氧化钒基智能节能玻璃的保温性能。
辐射可调氧化复合薄膜及其制备方法应用

[发明专利]光学元件和光接收装置-CN200510009455.0无效
发明人：太田达男;野崎隆;江黑弥生;小岛健 -专利权人：柯尼卡美能达精密光学株式会社
申请日： 2005-02-08 - 公布日： 2005-08-24 - 主分类号： G02B1/11 文献下载
摘要：用于光接收装置的光学元件，其包括树脂制的基材、涂布在基材上并且具有低折射率层和高折射率层的防反射层，其中，上述树脂包括具有脂环式结构的聚合物，上述低折射率层由从氧化硅、氟化铝、氟化钇、氟化镁、氧化硅和氧化铝的混合物、或这些的混合物中选取的材料形成，上述高折射率层由从氧化钪、氧化铌、氧化镧、钛酸镨、钛酸镧、铝酸镧、氧化钇、氧化铪、氧化锆、氧化钽、氧化钽和钛的混合物、氮化硅、或这些的混合物中选取的材料形成。
光学元件接收装置

[发明专利]一种用于光学镜头的光学镀膜材料及其制备方法-CN202111429889.1在审
发明人：吴宪君 -专利权人：苏州晶生新材料有限公司
申请日： 2021-11-29 - 公布日： 2022-03-08 - 主分类号： C04B35/14 文献下载
摘要：本发明提供了一种用于光学镜头的光学镀膜材料，由以下重量百分数的原料制备而成：纳米二氧化硅50~90%，氟化镁3~25%，氧化铝1~10%，五氧化二钽1~10%，氧化钇1~10%，二氧化锆1~5%。本发明的制备方法简单，制备得到的的光学镀膜材料用于光学镜头的光学镀膜材料采用纳米二氧化硅和氟化镁这两种低折射率的材料，与五氧化二钽、氧化钇、二氧化锆三种高折射率的材料相配合，添加了氧化铝这种中等折射率的材料，制备得到一种光学镀膜材料，具有中等的折射率，透过率高，耐磨损、耐高温，化学稳定性好，使用在光学镜头上，可以满足不同的中等折射率和较高的透过率，同时还具有耐磨损的特性，可以延长光学镜头的使用时间。
一种用于光学镜头镀膜材料及其制备方法

[发明专利]抑制氧化铪薄膜折射率非均匀性的方法-CN202110412689.9在审
发明人：孙建;朱美萍;赵泽成;易葵;张伟丽;王建国;王胭脂;李静平;赵娇玲;邵宇川;邵建达 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2021-04-16 - 公布日： 2021-07-30 - 主分类号： C23C14/08 文献下载
摘要：一种抑制氧化铪薄膜折射率非均匀性的方法，在制备含有氧化铪膜层的多层光学薄膜时，镀制氧化铪的同时掺入氧化硅材料一同镀制形成氧化铪‑氧化硅混合膜层，抑制纯氧化铪膜层的折射率非均匀性，进而改善由于氧化铪膜层折射率非均匀性导致多层光学薄膜的光学性能下降问题
抑制氧化薄膜折射率均匀方法

[发明专利]转化率优良的氧化反应-CN201480019930.X在审
发明人：川上裕二;村濑辰史;田中大辅;吉山英幸;桑边辰逸 -专利权人： PAION英国有限公司
申请日： 2014-03-03 - 公布日： 2016-01-13 - 主分类号： C07D401/04 文献下载
摘要：5-吡啶-2-基-3H-苯并[e][1,4]二氮-3-基]丙酸甲酯的铵离子的含量、通过氧化催化剂氧化吡啶-2-基-3H-苯并[e][1,4]二氮-3-基]丙酸甲酯、以良好的再现性、以高转化率、
转化优良氧化反应

[发明专利]一种氧化石墨烯溶液浓度的测定方法和装置-CN201811120795.4在审
发明人：曾艳;杨新伟;杨杰朋;杨子虎;鲁娜 -专利权人：新疆烯金石墨烯科技有限公司
申请日： 2018-09-26 - 公布日： 2018-12-11 - 主分类号： G01N27/07 文献下载
摘要：本发明涉及化学分析技术领域，具体涉及一种氧化石墨烯溶液浓度的测定方法和装置。主要技术方案为：一种氧化石墨烯溶液浓度的测定方法，包括:1)制备不同质量浓度的氧化石墨烯溶液；氧化石墨烯溶液浓度为0.05g/L～8.0g/L；2)将氧化石墨烯溶液恒温处理；3)用电导率仪测定已知不同质量浓度的氧化石墨烯溶液的电导率值，根据已知的不同质量浓度氧化石墨烯溶液与其电导率值的对应关系，建立氧化石墨烯溶液的浓度标准曲线；4)用电导率仪测定待测氧化石墨烯溶液的电导率值；根据所述的浓度标准曲线得到氧化石墨烯的浓度。采用本发明能够提升测定氧化石墨烯溶液浓度的效率，且成本较低。
氧化石墨烯溶液电导率浓度标准曲线方法和装置电导率仪化学分析技术氧化石墨烯恒温处理制备

[发明专利]一种制备高透光率氧化镓薄膜的方法-CN201811228392.1在审
发明人：李炳生;宋东雨;李丽;李林;余立冬 -专利权人：哈尔滨工业大学
申请日： 2018-10-22 - 公布日： 2019-01-04 - 主分类号： C23C14/28 文献下载
摘要：本发明公开了一种制备高透光率氧化镓薄膜的方法，涉及一种优化工艺制备高透光率氧化镓薄膜的方法。本发明通过优化制备工艺，明显提高了氧化镓薄膜的光学性质，克服了透光率低的技术问题。本发明通过引入低温缓冲层的方法得到了高透光率的氧化镓薄膜，透光率高达90％以上。
氧化镓薄膜高透光率透光率制备优化制备工艺低温缓冲层工艺制备光学性质引入优化

[发明专利]氨法脱硫吸收产物+4价硫氧化系统及其优化调控方法-CN201510464978.8有效
发明人：贾勇;陈光;戴波;吴胜华;盛广宏 -专利权人：安徽工业大学
申请日： 2015-07-29 - 公布日： 2017-03-22 - 主分类号： B01D53/78 文献下载
摘要：本发明公开了一种氨法脱硫吸收产物+4价硫氧化系统及其优化调控方法，属于大气污染治理技术领域。本发明中首先确定了氨法脱硫系统中的模型参数；输入上述模型参数，并设定一初始pH值、氧化空气量Q以及S4+和S6+的初始浓度，利用+4价硫的氧化率模型计算浆液池内+4价硫的氧化率；将计算得到的+4价硫氧化率带入进行检验，若不成立，则调整和的值重新计算，直至成立，并将得到的氧化率与工程中的设定值进行比较，并通过调整模型中的pH值、氧化空气量Q、和的值，使+4价硫的氧化率能够满足工程要求。本发明中的氧化率模型能够对氨法脱硫吸收产物+4价硫氧化系统的设计和运行提供理论指导，进而提高氨法脱硫技术的稳定性和经济性。
脱硫吸收产物氧化系统及其优化调控方法

[发明专利]调控氧化锌的电子迁移率的方法-CN202011640967.8在审
发明人：吴龙佳;张天朔;李俊杰;郭煜林;童凯 -专利权人： TCL科技集团股份有限公司
申请日： 2020-12-31 - 公布日： 2022-07-01 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：本申请涉及功能材料技术领域，提供了一种调控氧化锌的电子迁移率的方法。所述调控氧化锌的电子迁移率的方法，包括以下步骤：制备氧化锌，且在制备所述氧化锌的过程中，通过控制所述氧化锌的表面羟基量，来调控氧化锌的电子迁移率。本申请提供的调控氧化锌的电子迁移率的方法，只需要通过调控氧化表面羟基量即可实现量子点发光二极管器件的载流子注入平衡或提高电子迁移率，无需改变器件结构(插入电子阻挡层)，也无需通过掺杂等手段对氧化锌薄膜进行改性
调控氧化锌电子迁移率方法

[发明专利]用于估计发动机排出氮氧化物质量流率的方法-CN201510312816.2有效
发明人：孙敏;I.阿尼洛维克;N.德瓦拉康达;P.赫尔南德斯加西亚 -专利权人：通用汽车环球科技运作有限责任公司
申请日： 2015-06-09 - 公布日： 2018-11-02 - 主分类号： F01N11/00 文献下载
摘要：一种估计排气中氮氧化物的质量流率的方法，包括感测来自发动机的排气流的质量流率。针对当发动机正以基准状态操作时的氮氧化物基础浓度被定义，以及针对内燃发动机的当前操作状态的氮氧化物比例被计算。排气流的质量流率、氮氧化物基础浓度、和针对发动机当前操作状态的氮氧化物比例相乘，以限定来自发动机的排气流中的氮氧化物的当前质量流率的被估计值。氮氧化物的质量流率的被估计值可与来自氮氧化物传感器的输出进行比较，以确定氮氧化物传感器的正确功能。
用于估计发动机排出氧化物质量方法

[发明专利]金属氧化层高温光学常数测量方法-CN201310095143.0有效
发明人：符泰然;宗安州;刘江帆;谈鹏;汤龙生;周金帅;邓兴凯 -专利权人：清华大学
申请日： 2013-03-22 - 公布日： 2013-06-19 - 主分类号： G01N21/71 文献下载
摘要：本发明涉及一种金属氧化层高温光学常数测量方法，其包括以下步骤：S1、提供多份具有不同厚度金属氧化层的氧化金属样品，分别测量多份氧化金属样品的金属氧化层的厚度；S2、利用高温光谱发射率测量实验台，在真空环境下分别测量多份氧化金属样品的法向光谱发射率；S3、根据各氧化金属样品的法向发射率，建立光学常数数学模型，并以此计算出氧化金属样品的金属氧化层的光学常数。本发明通过采用高温光谱发射率测量实验台测量具有不同金属氧化层厚度的氧化金属样品的高温法向光谱发射率，可实现真空环境下的500℃以上高温氧化层光学常数测量，克服了传统测量技术易产生非真空环境下的样品氧化现象以及高温难于实现的技术局限性
金属氧化高温光学常数测量方法

[发明专利]双压电晶片元件、双压电晶片开关、密勒元件及其制造方法-CN200580029357.1无效
发明人：高柳史一;三瓶广和 -专利权人：爱德万测试株式会社
申请日： 2005-08-31 - 公布日： 2007-08-29 - 主分类号： H01H61/01 文献下载
摘要：一种双压电晶片元件，具备：氧化硅层；高膨胀率层，其形成在氧化硅层上且具有较此氧化硅层的热膨胀率还高的热膨胀率；以及变形防止层，其覆盖氧化硅层的表面，以防止氧化硅层由于经常变化所形成的变形。变形防止层变形防止层相对于水份和氧的透过率亦可较氧化硅层还低，变形防止层亦可以是一种以较形成氧化硅层时还高的能量来进行成膜时所形成的氧化硅，变形防止层亦可为氮化硅层或金属层。
压电晶片元件开关及其制造方法

[发明专利]一种高折射率光学玻璃及其制备方法-CN202111195220.0在审
发明人：蔡轩臣 -专利权人：江苏东方硕华光学材料有限公司
申请日： 2021-10-13 - 公布日： 2021-11-26 - 主分类号： C03C3/11 文献下载
摘要：本发明属于高折射率光学玻璃制备领域，具体公开了一种高折射率光学玻璃及其制备方法，所述高折射率光学玻璃由以下重量份的原料制备而成：二氧化硅100份、五氧化二铌20‑40份、二氧化钛15‑30份、氧化锌15‑30份、二氧化锆10‑20份、六硼化钙10‑20份、氧化钇8‑16份、二氧化锆5‑10份、氧化镓5‑10份、氯化镧3‑7份、分散剂2‑4份；本发明公开的高折射率光学玻璃折射率高，化学温度性好，制备流程短
一种折射率光学玻璃及其制备方法

[发明专利]一种高过胃率粉末包被氧化锌制剂及其制备方法和应用-CN202210236245.9在审
发明人：王莉 -专利权人：重庆威迪特药业有限责任公司;成都威迪特生物科技有限公司
申请日： 2022-03-11 - 公布日： 2022-05-27 - 主分类号： A23K20/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种高过胃率粉末包被氧化锌制剂及其制备方法和应用，属于饲料添加剂技术领域。本发明提供的高过胃率粉末包被氧化锌制剂，其包衣膜为缓释膜或肠溶型膜，能有效抵御胃环境中酸和酶的破坏，达成较高过胃率的效果，而且氧化锌以粉末的形式进入肠道，极大的提高了氧化锌的比表面积，在肠液中更加容易释放出氧化锌分子，使得氧化锌能全部在肠道中释放，粉末包被氧化锌氧化锌含量可达90％以上，包被效果好，载药量、过胃率高、肠道释放率高，耐加工性和流动性优异。
一种高过粉末包被氧化锌制剂及其制备方法应用

[发明专利]一种新型高透射率二氧化钒薄膜元件制备方案-CN201811070826.X在审
发明人：靳京城;张东平;范平 -专利权人：深圳大学
申请日： 2018-09-13 - 公布日： 2020-03-20 - 主分类号： G02B1/113 文献下载
摘要：本发明属于物理领域，具体涉及一种二氧化钒双层膜体系及其制备方法和应用。所述双层膜体系包括二氧化钒薄膜层和氧化硅渐变折射率材料薄膜层，所述渐变折射率材料薄膜和所述二氧化钒薄膜从下至上依次堆叠。所述二氧化钒双层膜体系利用了具有渐变折射率功能的材料氧化硅，使所述二氧化钒双层膜体系元件具有超宽波段、全立体角、偏振非敏感、高透过率光谱特性。
一种新型透射率氧化薄膜元件制备方案