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- [发明专利]一种坩埚下降法生长的氧化镓晶体-CN202310899807.2在审
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罗毅;龚瑞;朱毅
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安徽科瑞思创晶体材料有限责任公司
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2023-07-21
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2023-09-29
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C30B11/00
- 本发明公开了一种坩埚下降法生长的氧化镓晶体，属于氧化镓晶体技术领域，将氧化镓粉末压制、烧结得到生长原料，装入铂铑合金坩埚中升温除水，抽真空后充入氧气维持生长炉内压力为1.5‑1.6MPa，在1810‑1820℃保温2‑3h，使生长炉内压力为1.1‑1.15MPa，在1770‑1780℃下进行晶体生长，得到晶体；将晶体在950‑1050℃的条件下退火1.5‑2h，降温至300‑350℃后自然冷却，得到坩埚下降法生长的氧化镓晶体；氧气流通过程中对铂铑合金坩埚外围的热量进行协调，有助于降低温差引起的应力收缩，便于维持铂铑合金坩埚的力学性能，同时可以避免熔体过冷，从而避免氧化镓晶体出现裂纹。
- 一种坩埚下降生长氧化晶体
- [实用新型]一种应急声光导示设备-CN202321144723.X有效
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龚瑞
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南京灯虎网络科技有限公司
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2023-05-12
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2023-09-22
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G08B7/06
- 本实用新型公开了一种应急声光导示设备，其涉及应急导示技术领域，旨在解决现有的应急导示设备大多是安装在过道内的应急指示灯，其显示画面小，容易受到破坏，实用性有待提高的问题，其技术方案要点包括应急箱体，所述应急箱体的底部端面上固定连接有安装支架，所述安装支架的外表面上设置有安装孔，且安装孔的内部卡扣安装有投影灯，所述投影灯倾斜朝下，所述应急箱体的内部设置有蓄电池和应急电路板，所述投影灯与应急电路板电性连接，所述应急箱体的一侧外表面上固定连接有安装座。达到了能投射较大指示画面、不易被破坏、实用性高的效果。
- 一种应急声光设备
- [发明专利]稀奶油及其生产方法-CN202011377772.9有效
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李勇;龚瑞;向鑫玲
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内蒙古伊家好奶酪有限责任公司
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2020-11-30
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2023-08-22
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A23C13/14
- 本发明提供一种稀奶油及其生产方法，所述稀奶油由无水奶油、全脂奶、稳定剂和复配乳化剂制成，所述复配乳化剂包括蔗糖酯，相对于所述稀奶油的总重量，所述蔗糖酯的使用量为0.05重量％～0.3重量％，所述稀奶油中的脂肪含量为33重量％～37重量％，蛋白质含量为2.0重量％～2.5重量％。本发明的稀奶油及其生产方法中，无需分离出作为原料的新鲜稀奶油以及对分离稀奶油的副产物即脱脂奶进行额外处理，并且即使不在配料中添加水也具有良好的流动性、不易粘稠结块，该稀奶油在常温和冷藏条件下保存时间长，货架期内流动性好、无粘稠结块、脂肪上浮、析水和蛋白沉淀现象，并且打发率高，雪顶稳定性好。
- 奶油及其生产方法
- [发明专利]电动摩托车-CN202111658340.X在审
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张周明;陈小金;龚瑞
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浙江春风动力股份有限公司
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2021-12-30
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2023-07-11
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B62K11/00
- 本发明提供了一种电动摩托车，包括：车身覆盖件，形成有容纳空间；车轮组件，车轮组件包括前轮与后轮；动力组件，动力组件包括电机，用于带动前轮和/或后轮运行；鞍座组件，鞍座组件包括鞍座；电动摩托车还包括进风组件；进风组件包括：进风风道，进风风道基本沿电动摩托车的前后方向延伸，以使空气进入进风组件；进风口，进风口设置在进风风道的前侧且与进风风道连通；第一出风口，出风口设置在进风风道后侧，用于空气排出进风组件。本发明的有益效果是：可以通过设置进风组件，使电动摩托车行驶时，外界的风进入电动摩托车内部，并经过散热器、电机控制器和电机，从而通过风冷的形式强化电动摩托车的散热功能。
- 电动摩托车
- [发明专利]一种基于自校准的近红外光谱仪-CN202211500947.X在审
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张国光;龚瑞;刘波;金科;丰雷
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湖北晶星科技股份有限公司
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2022-11-28
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2023-06-23
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G01N21/359
- 本发明公开一种基于自校准的近红外光谱仪，包括光谱仪本体、分析组件、清理组件和校准组件；所述光谱仪本体包括壳体；所述壳体内部从左至右依次开设有相互连通的监测腔、集样腔和清洗腔；所述分析组件包括取样部、移动部和监测部；所述取样部包括转动盘、驱动端和取样针；所述转动盘通过所述驱动端转动设置于所述壳体上，所述取样针用于抽取样品，并将所述样品导入所述集样腔的所述移动部上。解决现有技术中红外光谱仪为了提高检测效率，都是采取自动取样、自动放样和自动检测的技术手段，但是由于未设置相应的自动校准机构，导致在自动检测过程中，采样盘无法准确移动到检测端下方，从而影响了检测端准确性的技术问题。
- 一种基于校准红外光谱仪
- [发明专利]一种掺铁钽酸锂晶片的抛光工艺-CN202111546555.2在审
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罗毅;龚瑞
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安徽科瑞思创晶体材料有限责任公司
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2021-12-16
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2023-06-20
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B24B1/00
- 本发明涉及一种掺铁钽酸锂晶片的抛光工艺，属于晶片加工技术领域。该抛光工艺包括水平机械打磨、水平机械抛光和化学机械抛光，本发明采用组合抛光工艺，对于粗糙度小于1nm的晶片，抛光时间缩短至1.45h，相较于传统的抛光工艺抛光时间缩短20.9％。此外，本发明还公开一种复合抛光液，将市售的不规则碳酸铈在羧甲基纤维素钠溶液体系重新配置，得到的氧化铈晶型呈类球状，晶体粒度一致性高，对晶片的研磨更加均匀，同时以乙基纤维素为膜材将氟化胺包覆在修形氧化铈的表面，氟化胺以磨粒为载体对晶片均匀腐蚀，配合低面压高转速抛光，使得表面粗糙度易于达到1nm，不仅大大提高了晶片的抛光效率，同时也为更高精度抛光提供思路。
- 一种掺铁钽酸锂晶片抛光工艺
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