“有机溶剂”专利关键词查询_检索下载_查询列表_检索列表_行业专利分布_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果956807个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]一种双层电容器用电解液及双层电容器-CN201410593992.3在审
发明人：熊鲲;伍广田;徐晓强;郭军;关士友;李建中 -专利权人：江苏国泰超威新材料有限公司
申请日： 2014-10-29 - 公布日： 2015-01-28 - 主分类号： H01G11/60 文献下载
摘要：本发明涉及一种双电层电容器用电解液，包括电解质和有机溶剂，所述的有机溶剂为腈类有机溶剂和其他有机溶剂的混合溶剂。本发明采用含氟阳离子电解质，其他有机溶剂为含氟有机溶剂，本发明通过上述电解质和有机溶剂的配合，提供了一种长期可靠性优良、工作电压高的电解液。
一种双层电容器用电解液电容器

[发明专利]有机溶剂回收工艺-CN201710987480.9在审
发明人：毛小英;林辉荣;阳杨;郑伟;马泽州;左娇 -专利权人：新中天环保股份有限公司
申请日： 2017-10-20 - 公布日： 2018-03-23 - 主分类号： B01D53/02 文献下载
摘要：本发明申请属于溶剂回收技术领域，具体公开了一种有机溶剂回收工艺，包括以下步骤（1）吸附采用固定床吸附器吸附回收工业生产过程中散发的有机溶剂；（2）脱附采用低压水蒸气脱附工艺获得含有有机溶剂的液体；（3）预处理将含有有机溶剂的液体抽入封闭的磁化管中进行循环磁化处理，循环5‑8遍；（4）提纯通过精馏装置提纯回收预处理后的含有有机溶剂的液体。采用本发明申请的工艺提纯回收有机溶剂，能够使汽液两相充分接触，提高有机溶剂提纯回收的回收率。
有机溶剂回收工艺

[实用新型]一种具有防止溶剂挥发功能的SMT贴片清洗机-CN202023120374.7有效
发明人：黄凡 -专利权人：深圳市修亚科技有限公司
申请日： 2020-12-22 - 公布日： 2021-11-16 - 主分类号： B08B3/12 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种具有防止溶剂挥发功能的SMT贴片清洗机，包括超声波清洗槽，所述超声波清洗槽内置有有机溶剂，在所述超声波清洗槽设置有层流罩，所述层流罩与所述超声波清洗槽的槽面密封连接，且在所述层流罩的顶部设置有风机，所述风机用于对有机溶剂进行降温；本实用新型设置层流罩，减少了有机溶剂与外部空气的接触，减少了有机溶剂的挥发量，并且设置风机，对有机溶剂进行降温，大大降低了有机溶剂的挥发速率，保证了有机溶剂浓度的稳定性
一种具有防止溶剂挥发功能 smt 清洗

[实用新型]基于有机溶剂的循环机构及钢网清洗机-CN202320908636.0有效
发明人：白树旺;郝卫斌;孔德光 -专利权人：惠州市华裕科技有限公司
申请日： 2023-04-20 - 公布日： 2023-09-08 - 主分类号： B08B3/08 文献下载
摘要：本申请提供一种基于有机溶剂的循环机构及钢网清洗机，循环机构还包括有机溶剂循环组件，有机溶剂循环组件包括第一流通管道、第一电磁阀、第二电磁阀、第三电磁阀、第四电磁阀、第一隔膜泵及第一液体过滤器，第一流通管道分别与第一有机溶剂进液口、第二有机溶剂进液口、第一有机溶剂出液液口及第二有机溶剂出液口连通，第一电磁阀设置在第一流通管道与第一有机溶剂出液口的连通处，第二电磁阀设置在第一流通管道与第二有机溶剂出液口的连通处，第三电磁阀设置在第一流通管道与第一有机溶剂进液口的连通处，第四电磁阀设置在第一流通管道与第二有机溶剂进液口的连通处，第一隔膜泵和第一液体过滤器均设置在第一流通管道上。
基于有机溶剂循环机构清洗

[发明专利]滑行面用液体蜡及其制造方法-CN201980040563.4在审
发明人：林真子;林牧人 -专利权人：林真子
申请日： 2019-06-18 - 公布日： 2021-02-05 - 主分类号： C09G3/00 文献下载
摘要：所述滑行面用液体蜡通过将石蜡分散混合在有机溶剂中而制成，所述有机溶剂使用具有挥发性的第一有机溶剂和具有比该第一有机溶剂更高的挥发性的第二有机溶剂而制成，并且所述第二有机溶剂使用1‑溴丙烷。
滑行液体及其制造方法

[发明专利]非水电解液及包括该非水电解液的锂二次电池-CN202211691641.7在审
发明人：赵仁行;金汶成;金成镇;李镇弘;李旼泳 -专利权人： SK新能源株式会社
申请日： 2022-12-27 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： H01M10/0569 文献下载
摘要：所述非水电解液包含非水基有机溶剂、锂盐和添加剂，所述非水基有机溶剂包含单氟基有机溶剂和二氟基有机溶剂，二氟基有机溶剂重量与单氟基有机溶剂重量的重量比为超过3且11以下。
水电包括二次电池

[发明专利]偏光膜形成用组合物、偏光膜、偏光板及其制造方法-CN201980011107.7有效
发明人：幡中伸行;太田阳介;村野耕太;德田真芳 -专利权人：住友化学株式会社
申请日： 2019-01-29 - 公布日： 2022-12-23 - 主分类号： G02B5/30 文献下载
摘要：一种偏光膜形成用组合物，其包含呈现近晶型液晶性的聚合性液晶化合物、二色性色素、及至少2种以上有机溶剂，前述有机溶剂包含有机溶剂A和有机溶剂B，所述有机溶剂A具有比前述聚合性液晶化合物的各向同性相转变温度高‑20℃以上且50℃以下的沸点，所述有机溶剂B具有比前述聚合性液晶化合物的各向同性相转变温度高超过50℃的沸点。
偏光形成组合及其制造方法

[发明专利]半导体结构的干燥方法-CN202010194354.X在审
发明人：邹斌 -专利权人：中芯集成电路制造（绍兴）有限公司
申请日： 2020-03-19 - 公布日： 2020-07-03 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种半导体结构的干燥方法，其中半导体结构包括腔体，该干燥方法包括：使用可溶于水的有机溶剂液体置换出腔体内的去离子水，置换后腔体内具有包括有机溶剂液体与残留去离子水的互溶溶液；利用有机溶剂蒸汽对腔体进行干燥上述半导体结构的干燥方法先采用有机溶剂置换出腔体内去离子水，由于有机溶剂易溶于水，因此利用浓度高的有机溶剂溶液可置换出腔体内的大部分去离子水，从而使得腔体内的去离子水变为有机溶剂溶液。然后再采用有机溶剂蒸汽将腔体内残留的有机溶剂与去离子水的溶液蒸发出来，从而可以有效地将腔体内剩余少量的去离子水蒸发出来，提升了干燥效率。
半导体结构干燥方法

[发明专利]氮硅烷及其生产方法、氮化硅及其生产方法-CN201710066778.6有效
发明人：夏高强;范协诚;银波;黄彬;杜新;罗飞飞;张吉武;宋高杰 -专利权人：新疆晶硕新材料有限公司
申请日： 2017-02-07 - 公布日： 2021-04-06 - 主分类号： C01B21/068 文献下载
摘要：本发明公开了一种氮硅烷及其生产方法、氮化硅及其生产方法，氮硅烷的生产方法包括以下步骤：(1)将卤硅烷溶于过量的有机溶剂中得到卤硅烷溶液，有机溶剂的沸点低于卤硅烷的沸点；(2)将卤硅烷溶液经过喷雾后以喷雾的形式与氨气反应，生成氮硅烷，有机溶剂蒸发潜热吸收反应放出的热量，过量的有机溶剂控制反应的温度不高于有机溶剂的沸点或者不高于比有机溶剂沸点高20℃的温度。卤硅烷溶液以喷雾方式与氨气接触比较充分，反应较为均匀，氮硅烷的生产方法用有机溶剂的蒸发潜热吸收卤硅烷与氨气反应放出的热量，控制所述反应的温度不高于所述有机溶剂的沸点或者不高于比所述有机溶剂沸点高20℃的温度
硅烷及其生产方法氮化

[发明专利]一种利用双水相体系快速测定亲水有机溶剂含量的方法-CN201210112295.2无效
发明人：朱利民;南二龙;聂华丽 -专利权人：东华大学
申请日： 2012-04-17 - 公布日： 2012-08-22 - 主分类号： G01N31/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种利用双水相体系快速测定亲水有机溶剂含量的方法，包括：(1)制备饱和亲水有机溶剂-无机盐的双水相体系，以饱和亲水有机溶剂-无机盐的双水相体系中无机盐的质量分数为横坐标，亲水有机溶剂的质量分数为纵坐标绘制标准曲线，测定出亲水有机溶剂-无机盐的双水相体系的上边界；(2)在待测样品中加入无机盐直至饱和，计算出饱和时无机盐的质量分数，最后从步骤(1)得到的标准曲线上读出亲水有机溶剂的质量分数，计算出待测样品中亲水有机溶剂的含量；或利用差减法计算出待测样品中亲水有机溶剂的含量。本发明的测定方法快速、准确、简便、易于操作，可以广泛应用于各种亲水有机溶剂的测定。
一种利用双水相体系快速测定有机溶剂含量方法

[发明专利]1-取代-3-氟烷基吡唑-4-羧酸酯的制造方法-CN201380003229.4有效
发明人：延岛浩文;小山直城;原田昌普 -专利权人：撻马化学工业株式会社
申请日： 2013-03-14 - 公布日： 2014-06-04 - 主分类号： C07D231/14 文献下载
摘要：本发明提供一种1-取代-3-氟烷基吡唑-4-羧酸酯的制造方法，其具有如下工序：在含有烷基肼及第1有机溶剂的第1反应液中，用0.5～30小时添加含有酰基乙酸酯衍生物及第2有机溶剂的第2反应液，在不存在碱及酸的条件下进行搅拌而使其在-5～80℃的反应温度下进行反应，其中，第1有机溶剂及第2有机溶剂分别为苯、甲苯、二甲苯、氯苯、二氯苯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、及碳酸二甲酯中的至少任一种，第1有机溶剂与第2有机溶剂的总质量相对于酰基乙酸酯衍生物的质量为1～60倍，第1有机溶剂的量占第1有机溶剂与第2有机溶剂的总量的40～95质量%。
取代烷基吡唑羧酸制造方法

[发明专利]一种量子点墨水及其制备方法-CN201610287983.0在审
发明人：谢相伟;李雪 -专利权人： TCL集团股份有限公司
申请日： 2016-05-04 - 公布日： 2016-08-03 - 主分类号： C09D11/38 文献下载
摘要：本发明公开一种量子点墨水及其制备方法，按质量百分比计，量子点墨水包括0.01‑20%的量子点和80‑99.99%的混合溶剂；所述混合溶剂包括至少一种烷烃类有机溶剂和至少一种小分子醇类有机溶剂，其中，所述小分子醇类有机溶剂占混合溶剂总重量的1‑80%，所述烷烃类有机溶剂沸点范围在150℃‑320℃之间，所述小分子醇类有机溶剂的沸点低于烷烃类有机溶剂的沸点。本发明配制的量子点墨水，具有较高的粘度和表面张力，可较好匹配喷墨打印设备和打印工艺的要求，且其中的有机溶剂可以通过真空蒸发或加热蒸发等方式去除，以形成量子点材料的薄膜。
一种量子墨水及其制备方法

[发明专利]一种量子点墨水及其制备方法-CN201610287984.5在审
发明人：谢相伟;李雪 -专利权人： TCL集团股份有限公司
申请日： 2016-05-04 - 公布日： 2016-08-31 - 主分类号： C09D11/36 文献下载
摘要：按质量百分比计，量子点墨水包括0.01‑20%的量子点和80‑99.99%的混合溶剂；所述混合溶剂包括至少一种芳香烃类有机溶剂和至少一种小分子醇类有机溶剂，其中，所述小分子醇类有机溶剂占混合溶剂总重量的1‑80%，所述芳香烃类有机溶剂沸点范围在130℃‑340℃之间，所述小分子醇类有机溶剂的沸点低于芳香烃类有机溶剂的沸点。本发明配制的量子点墨水，具有较高的粘度和表面张力，可较好匹配喷墨打印设备和打印工艺的要求，且其中的有机溶剂可以通过真空蒸发或加热蒸发等方式去除，以形成量子点材料的薄膜。
一种量子墨水及其制备方法

[发明专利]脱除硫酸锰溶液中有机杂质的方法-CN202310041218.0在审
发明人：康金星;王亚运;宋磊;于传兵;郭素红;王鑫;邓朝安;刘志国 -专利权人：中国恩菲工程技术有限公司;中国有色工程有限公司
申请日： 2023-01-11 - 公布日： 2023-04-18 - 主分类号： C01G45/10 文献下载
摘要：本发明提供了一种脱除硫酸锰溶液中有机杂质的方法。本申请提供的方法包括：步骤S1，提供有机溶剂气溶胶，将有机溶剂气溶胶与呈负压状态的待纯化硫酸锰溶液混合，有机溶剂气溶胶破裂成有机溶剂，待纯化硫酸锰溶液中的有机杂质聚集于有机溶剂中，得到分层的硫酸锰水相溶液和溶解有有机杂质的有机相；步骤S2，将硫酸锰水相溶液和有机相分离，得到纯化的硫酸锰水相溶液和待纯化有机有机相。本申请利用有机溶剂气溶胶高渗透性、高溶解性，增加了待纯化硫酸锰溶液中的有机杂质与有机溶剂溶解接触概率，强化了有机溶剂对水相溶液中有机杂质的竞争吸附溶解能力，进而有效提高了有机杂质的脱除效率，并对金属损失率低
脱除硫酸锰溶液有机杂质方法

[发明专利]滤色片用分散有颜料的抗蚀剂组合物-CN03807053.7无效
发明人：伊藤和典;加野仁纪 -专利权人：阪田油墨株式会社
申请日： 2003-03-27 - 公布日： 2005-07-20 - 主分类号： G02B5/20 文献下载
摘要：即，使用高压乳化器对含有颜料、有机溶剂、颜料分散剂的混合液加压，使其以100～1000米/秒的流速通过喷管后，喷射到滞留在直线状中空部件中的先流出的混合液中，使颜料分散。所述高压乳化器具有无弯曲部、无弯折部的直线状喷管和与该喷管相连且直径比该喷管大的直线状中空部件，所述有机溶剂含有选自常压下沸点为100～220℃的酯类有机溶剂、醚类有机溶剂、醚酯类有机溶剂、酮类有机溶剂、芳香族烃类溶剂以及含氮类有机溶剂中的至少1种有机溶剂。
滤色片用分散颜料抗蚀剂组合