专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]透光性薄膜-CN201680002183.8有效
  • 藤野望;梨木智刚 - 日东电工株式会社
  • 2016-02-18 - 2019-09-20 - B32B9/00
  • 透光性薄膜依次具备透明基材和透光性无机。透明基材由高分子薄膜形成。透光性无机依次具备第1无机氧化、金属和第2无机氧化。透光性无机具有导电性,第1无机氧化及第2无机氧化含有氢原子。第2无机氧化中的氢原子的含量H2与第1无机氧化中的氢原子的含量H1之比(H2/H1)为0.10以上且10.00以下。
  • 透光薄膜
  • [发明专利]一种高阻隔膜及其制备方法-CN202110317675.9在审
  • 宋尚金;胡业新;高毓康;刘世琴 - 江苏日久光电股份有限公司
  • 2021-03-25 - 2021-06-04 - B32B27/36
  • 一种高阻隔膜,包括柔性基层,由柔性基层的一面依次设置的第一无机氧化、第二无机氧化、第三无机氧化、第四无机氧化、保护膜,第一、第二、第三、第四无机氧化均由磁控溅射工艺制备而成的,第一无机氧化厚度为10‑20nm,第二无机氧化厚度为20‑40nm,第三无机氧化厚度为10‑20nm,第四无机氧化厚度为5‑20nm。本发明通过对不同靶材在制备过程中相对位置的前后搭配,可实现各个无机氧化层位置的灵活变化,且整个阻隔膜制备工艺,通过磁控溅射技术可以实现柔性基体一次性通过制备流程完成整个阻隔膜制备,且磁控溅射制备方法对各个薄膜厚度能够实现灵活改变
  • 一种阻隔及其制备方法
  • [实用新型]一种高阻隔膜-CN202120610530.3有效
  • 宋尚金;胡业新;高毓康;刘世琴 - 江苏日久光电股份有限公司
  • 2021-03-25 - 2021-12-21 - B32B27/36
  • 一种高阻隔膜,包括柔性基层,由柔性基层的一面依次设置的第一无机氧化、第二无机氧化、第三无机氧化、第四无机氧化、保护膜,第一、第二、第三、第四无机氧化均由磁控溅射工艺制备而成的,第一无机氧化厚度为10‑20nm,第二无机氧化厚度为20‑40nm,第三无机氧化厚度为10‑20nm,第四无机氧化厚度为5‑20nm。本实用新型通过对不同靶材在制备过程中相对位置的前后搭配,可实现各个无机氧化层位置的灵活变化,且整个阻隔膜制备工艺,通过磁控溅射技术可以实现柔性基体一次性通过制备流程完成整个阻隔膜制备,且磁控溅射制备方法对各个薄膜厚度能够实现灵活改变
  • 一种阻隔
  • [发明专利]太阳能电池的制造方法和太阳能电池-CN201380061180.8在审
  • 堀木麻由美;早川明伸;小原峻士;佐佐木拓;伊藤和志 - 积水化学工业株式会社
  • 2013-11-22 - 2015-07-29 - H01L51/42
  • 本发明的目的在于,提供一种即便在低温下烧成也能够制造出孔隙率高且杂质少的多孔质无机氧化的太阳能电池的制造方法。另外,本发明的目的在于,提供一种利用该太阳能电池的制造方法而制造出的太阳能电池。本发明为太阳能电池的制造方法,其具有下述工序:在表面形成有导电的基材上的形成有该导电的面,涂布含有无机氧化微粒、粘合剂树脂和有机溶剂的无机氧化糊剂,在该基材上形成无机氧化的工序;将所述无机氧化烧成的工序;对所述无机氧化实施活性能量射线照射或臭氧分解处理,得到多孔质无机氧化的工序;和在所述多孔质无机氧化上层叠半导体的工序。
  • 太阳能电池制造方法
  • [发明专利]有机修饰无机微粒的制备方法和有机修饰无机微粒-CN202211281170.2在审
  • 阿尻雅文;野口多纪郎 - 株式会社超级纳米设计
  • 2022-10-19 - 2023-01-31 - C01B21/072
  • Sub>N4、SiC等具有各种分子结构的原料粒子,通过能够对原料粒子的整个表面以通用的方法均匀地进行有机修饰,可简单地提供进一步提高了在溶剂中的分散性的有机修饰无机微粒本发明为有机修饰无机微粒的制备方法。该方法包括在选自无机氮化无机碳化无机硫化和不溶性盐中的至少1种以上的原料粒子的表面形成氧化、羟基氧化和/或氢氧化氧化等形成工序;以及将形成有氧化、羟基氧化和/或氢氧化的原料粒子在超临界、亚临界或气相的水系溶剂的反应场中进行有机修饰,得到有机修饰无机微粒的有机修饰工序。
  • 有机修饰无机微粒制备方法

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