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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[实用新型]基板支撑杆-CN201621242128.X有效
发明人：金宇;黄文同;张玉虎;刘小波;苏琦 -专利权人：合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2016-11-17 - 公布日： 2017-07-18 - 主分类号： G02F1/13 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种基板支撑杆，包括外支撑杆，其为一表面开口的盒体结构；内支撑杆，容置于所述外支撑杆内，具有用于支撑基板的支撑面；用于控制所述内支撑杆做升降运动以使得所述内支撑杆在第一状态和第二状态之间变化的升降结构，所述升降结构包括一穿过所述外支撑杆的底部以支撑所述内支撑杆的连接杆；防静电液涂覆结构，用于在所述内支撑杆位于所述第一状态时，在所述内支撑杆上涂覆防静电液；其中，所述第一状态为所述内支撑杆完全位于所述外支撑杆内部，所述第二状态为所述内支撑杆的所述支撑面与所述外支撑杆的具有开口的表面平齐。实现防静电液的自动涂覆，防止涂覆防静电液时对基板等的污染、且避免人身危害。
基板支撑杆

[发明专利]印刷基板支撑设备-CN200580022005.3有效
发明人：须原信介 -专利权人：富士机械制造株式会社
申请日： 2005-04-27 - 公布日： 2007-06-06 - 主分类号： H05K13/04 文献下载
摘要：本发明提供了一种可以容易地处理支脚的支撑面的高度的印刷基板支撑设备。将支脚安装在支脚支撑台上，然后，在预期标记图像拍摄装置的图像拍摄面中心与该支脚的支撑面中心重合的第一图像拍摄位置，标记图像拍摄装置拍摄该支脚的支撑面的图像。然后，在X轴方向图像拍摄面中心离开支撑面中心预定距离的第二图像拍摄位置，标记图像拍摄装置拍摄该支撑面的另一个图像。在第二图像拍摄位置，在图像拍摄面上，在对应于该支撑面的高度的位置，形成该支撑面的图像。基于对应于该支撑面的高度的位置，获得该支撑面相对于标记图像拍摄装置的高度。通过判定获得的高度与预置高度的误差量是否落入允许范围内，判定获得的支撑面的高度是否合适。如果进行了否定判定，则将它通知操作员。
印刷支撑设备

[发明专利]受热基板支撑器-CN03803644.4有效
发明人：伊曼纽尔·比尔;稻川真 -专利权人：应用材料股份有限公司
申请日： 2003-01-30 - 公布日： 2005-06-22 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明主要提供一种受热基板支撑器及其制造方法。在一个实施方案中，受热支撑器包括第一及第二板，其间置有一加热组件。该加热组件偏压向第一板，以对其提供良好的热传递。在另一个实施方案中，受热支撑器包括第一金属板，其连接至第二金属板并在中间包夹有至少一导件。一电阻性加热组件被相对于第一板的导件横向扣持。在本发明的另一方案中，提供有用以加热基板的加热室。在一个实施方式中，该加热室包括多个壁面，用以界定内部容积及多个受热支撑板连接至各壁面。这些支撑板大致彼此平行堆放于该内部容积内。一加热组件被压靠在每个第一支撑板上。
受热支撑

[实用新型]基座、基板支撑部及包括基座和基板支撑部的基板处理装置-CN202022798026.9有效
发明人：权秀泳;朴相和 -专利权人：周星工程股份有限公司
申请日： 2020-11-27 - 公布日： 2021-08-03 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种基座、基板支撑部以及包括基座和基板支撑部的基板处理装置，该基座包括：基底，用于支撑基板；以及涂层，形成在所述基底上，用于放置基板，其中，所述涂层包括：第一涂层，支撑所述基板；以及第二涂层，形成为包围所述基板的侧面，其中，所述第二涂层包括：涂层倾斜面，与所述第一涂层以形成钝角的方式连接；以及凸出部件，位于所述涂层倾斜面的上部并朝向所述基板的内侧凸出，所述凸出部件朝向所述基板的外侧倾斜，以便从所述基板的侧面隔开
基座支撑包括处理装置

[发明专利]基板支撑机构、基板清洗装置及基板处理方法-CN202210661203.X在审
发明人：宫﨑充;中野央二郎;井上拓也 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2022-06-13 - 公布日： 2022-12-16 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本发明提供一种用来抑制清洗构件的磨耗、或未预期的污物的产生的基板支撑机构、基板清洗装置及基板处理方法。本发明的基板支撑机构(100)包括：第一支撑部(110)，能够自由摇动，包括在闭合状态下能够与基板(W)的其中一面的周缘接触的接触区域；第二支撑部(120)，支撑所述基板(W)的另一面；及第一支撑部移动部(140)，使所述第一支撑部(110)摇动。
支撑机构清洗装置处理方法

[发明专利]基板处理设备、基板支撑单元和基板处理方法-CN201910979189.6有效
发明人：李相起;河刚来 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2019-10-15 - 公布日： 2023-02-17 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：一种用于处理基板的设备，包括：壳体，在该壳体中具有处理空间；支撑单元，其在处理空间中支撑基板；处理气体供应单元，其将处理气体供应到处理空间中；以及等离子体源，其从处理气体产生等离子体。支撑单元包括：支撑构件，在其上放置基板；加热构件，其加热被支撑在支撑构件上的基板；以及传热气体供应构件，其将传热气体供应到被支撑在支撑构件上的基板的背面。加热构件包括多个加热器，并且当俯视时，多个加热器加热被放置在支撑构件上的基板上的不同区域。支撑构件包括突起，该突起将支撑构件和被放置在支撑构件上的基板的背面之间的空间划分成多个气体区域，并且当俯视时，由加热构件加热的基板上的加热区域中的至少一个被划分为多个区域。
处理设备支撑单元方法

[发明专利]基板支撑用的支撑板以及使用该支撑板的基板处理装置-CN201280020720.3无效
发明人：许官善;朴珠泳;赵炳镐 -专利权人：泰拉半导体株式会社
申请日： 2012-04-30 - 公布日： 2014-01-01 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明公开了一种基板支撑用的支撑板以及使用该支撑板的基板处理装置。本发明的基板支撑用的支撑板以及使用该支撑板的基板处理装置，基板接触并支撑在可拆卸地结合于托板的支撑销上，而支撑销对基板的升温或冷却带来微小的影响，因此基板的升温或冷却所需要的时间较短，从而提高基板处理的生产率此外，由于基板处于隔离于托板的状态，因此，无需用于从托板隔离基板的其他装置，从而节约了成本。
支撑以及使用处理装置

[发明专利]基板支撑装置、热处理装置、基板支撑方法、热处理方法-CN202011329254.X在审
发明人： S·普林格 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2020-11-24 - 公布日： 2021-05-25 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种基板支撑装置、热处理装置、基板支撑方法、热处理方法，即使在闪光照射而基板变成弯曲形状的情况下，也能够抑制基板破裂。本申请说明书中公开的技术相关的基板支撑装置具备：保持板，用于与通过闪光照射加热而能够弯曲的基板相对；多个基板支撑销，设置于所述保持板，并且用于支撑所述基板，多个所述基板支撑销配置在使所述保持板和没有弯曲的状态下的所述基板之间的空间的体积与所述保持板和弯曲的状态下的所述基板之间的空间的体积变得相等的位置
支撑装置热处理方法

[发明专利]基板支撑单元以及具有基板支撑单元的成膜装置-CN201880012553.5在审
发明人：高原刚;花待年彦;巽新 -专利权人：日本发条株式会社
申请日： 2018-01-30 - 公布日： 2019-10-25 - 主分类号： H01L21/31 文献下载
摘要：本发明提供基板支撑单元。基板支撑单元具有轴、第一加热器以及工作台。第一加热器位于轴的内部，用于加热轴的上部。工作台位于轴的上部，具有第一板、第一板上的第二板、以及第一板与第二板之间的第二加热器。
基板支撑单元第一板第一加热器工作台加热器成膜装置加热轴

[发明专利]基板支撑单元以及具有该支撑单元的基板处理装置-CN200880106176.8有效
发明人：曹尚范;郑炳晋;朴明河;朴重现 -专利权人：高美科株式会社
申请日： 2008-08-27 - 公布日： 2010-08-04 - 主分类号： H05K7/20 文献下载
摘要：一种基板处理装置的基板支撑单元，包括第一支撑部件、第二支撑部件、缓冲部件和管子。所述第一支撑部件具有内置的电极和加热器并且支撑基板。所述第二支撑部件设置在所述第一支撑部件之下，以支撑所述第一支撑部件。所述缓冲部件设置在所述第一支撑部件和所述第二支撑部件之间，以在所述第一支撑部件和所述第二支撑部件之间形成空气间隙，从而减少所述第一支撑部件和所述第二支撑部件之间的热量传递。所述管子连接于所述第一支撑部件下表面。此外，所述管子延伸通过所述第二支撑部件并且容纳将电力施加给所述电极和所述加热器的电线。
支撑单元以及具有处理装置

[发明专利]基板支撑装置及具有该支撑装置的基板处理装置-CN200980103196.4无效
发明人：李范述;蔡济浩;李盛玟 -专利权人：高美科株式会社
申请日： 2009-01-16 - 公布日： 2010-12-15 - 主分类号： H01L21/205 文献下载
摘要：一种用于支撑基板的装置，包括对所述基板进行支撑的上板；设在所述上板之下的下板；位于所述上板与所述下板之间的绝缘部件；电极，其位于所述上板与所述绝缘部件之间以将等离子体指向由所述上板支撑之基板上；及加热器，其位于所述绝缘部件与所述下板以加热由所述上板支撑之基板。
支撑装置具有处理

[发明专利]基板支撑架以及基板处理装置-CN201910307670.0在审
发明人：赵栽训;田容百;曹奎泰;孙振熊 -专利权人：圆益IPS股份有限公司
申请日： 2019-04-17 - 公布日： 2020-02-28 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明作为涉及能够向被静电力吸附的基板的后面供应吹扫气体的基板支撑架以及基板处理装置，可包括：底座，内部形成有吸附电极；气孔，在所述底座的中心部上下贯通所述底座；凹槽，在所述底座上面形成凹陷的流道形状；压花，形成多个所述压花以在所述底座上面形成凸出图形来支撑所述基板，并且间隔固定间隔距离以使在所述凸出图形上支撑的所述基板的下面向所述凸出图形之间开放。
支撑架以及处理装置

[发明专利]基板支撑架及基板处理装置-CN202011421992.7在审
发明人：朴又永;具滋贤;韩昌熙;李圣恩;全成浩;孙炳国;卢成镐;吴永泽 -专利权人：圆益IPS股份有限公司
申请日： 2020-12-08 - 公布日： 2021-06-11 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明作为一种基板支撑架，包括：基座，形成有上面凹陷形成的圆盘形状的多个口袋槽部，以在上面沿着周围方向安装基板；轴，连接于基座下部以旋转驱动基座；及附属件，安装在口袋槽部，并且在上面安装基板；其中，基座包括
支撑架处理装置

[发明专利]基板处理装置用基板支撑组装体-CN202210061327.4在审
发明人：李泽烨 -专利权人：得八益十意恩至
申请日： 2022-01-19 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及基板支撑装置用基板支撑组装体，本发明的特征在于，包括：夹头底座，支撑待处理的基板，在外周面附近，沿着周围方向形成设置收纳部，在通过设置收纳部包围的内侧部分形成向上方开放的收容槽，能够以旋转轴为中心进行旋转；夹头销，配置在夹头底座的设置收纳部上部，能够沿着远离和靠近基板的方向移动；器具部，配置于设置收纳部内，与夹头销相连接，用于使夹头销移动；驱动部，用于向器具部传递动力；以及超声波清洁单元，收容在收容槽，在夹头底座的外周面附近沿着周围方向形成的设置收纳部内集中配置器具部，在中心的收容槽收纳超声波清洁单元，因此，可具有能够通过超声波发生单元清洁基板的背面的功能效果。
处理装置用基板支撑组装

[发明专利]基板处理装置用基板支撑组装体-CN202210061326.X在审
发明人：李泽烨 -专利权人：得八益十意恩至
申请日： 2022-01-19 - 公布日： 2023-02-28 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本发明涉及基板支撑装置用基板支撑组装体，包括：夹头底座，当设置基板时，与上述基板相向配置，在外周面附近的下部，沿着周围方向形成设置收纳部，能够以旋转轴为中心进行旋转；夹头销，配置在上述夹头底座的上部，能够沿着远离或靠近上述基板的方向移动
处理装置用基板支撑组装

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