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[发明专利]化学机械抛光方法及其设备-CN97113484.7无效
发明人：金荣寿 -专利权人： LG半导体株式会社
申请日： 1997-05-27 - 公布日： 2001-09-19 - 主分类号： B24B39/00 文献下载
摘要：化学机械抛光方法及所用设备，能用有不同特性的多种抛光器进行选择或连续的抛光各种待抛光物，并提高抛光特性，按抛光器的表面状态，即按较粗糙表面到较光滑表面，并按抛光器材料较硬至较弱的顺序，连续或重复设置抛光器以提高抛光速率和抛光均匀性
化学机械抛光方法及其设备

[发明专利]抛光垫及使用其的半导体器件的制备方法-CN202211222303.9在审
发明人：徐章源;尹晟勋;郑恩先;安宰仁 -专利权人： SKC索密思株式会社
申请日： 2022-10-08 - 公布日： 2023-04-14 - 主分类号： B24B37/22 文献下载
摘要：本发明提供一种抛光垫，通过厚度方向的细分结构特性设计，可以向各种抛光对象提供适合各种抛光目的的物理特性，关于使用后的报废，与现有抛光垫不同，在至少一部分结构应用再生或可回收的材料，从而可以实现环保性。具体而言，所述抛光垫包括抛光层，所述抛光层包括：抛光可变层，其具有抛光面，以及抛光不变层，配置在所述抛光可变层的所述抛光面的背面，所述抛光不变层可包括组合物的固化物，所述组合物包含热固化性聚氨酯粒子和粘合剂
抛光使用半导体器件制备方法

[发明专利]多孔化学机械抛光垫-CN202110277323.5在审
发明人： S·嘎纳帕西亚潘;N·B·帕蒂班德拉;R·巴贾杰;D·莱德菲尔德;F·C·雷德克;M·C·奥里拉尔;傅博诣;M·山村;A·乔卡里汉 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2016-12-29 - 公布日： 2021-07-23 - 主分类号： B24B37/22 文献下载
摘要：本文揭示的实施方式总体上涉及抛光制品以及用于制造用于抛光工艺中的抛光制品的方法。更具体而言，本文揭示的实施方式涉及通过工艺产生的多孔抛光垫，所述工艺产出改良的抛光垫特性及性能，包括可调谐的性能。诸如三维打印工艺的增材制造工艺提供制成具有独特特性及属性的多孔抛光垫的能力。
多孔化学机械抛光

[发明专利]多孔化学机械抛光垫-CN201680082260.5有效
发明人： S·嘎纳帕西亚潘;N·B·帕蒂班德拉;R·巴贾杰;D·莱德菲尔德;F·C·雷德克;M·C·奥里拉尔;傅博诣;M·山村;A·乔卡里汉 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2016-12-29 - 公布日： 2021-04-02 - 主分类号： B24D18/00 文献下载
摘要：本文揭示的实施方式总体上涉及抛光制品以及用于制造用于抛光工艺中的抛光制品的方法。更具体而言，本文揭示的实施方式涉及通过工艺产生的多孔抛光垫，所述工艺产出改良的抛光垫特性及性能，包括可调谐的性能。诸如三维打印工艺的增材制造工艺提供制成具有独特特性及属性的多孔抛光垫的能力。
多孔化学机械抛光

[发明专利]确定终点的方法以及半导体圆片-CN01820407.4无效
发明人：大卫·哈格特;沃特·格拉斯郝斯尔 -专利权人：摩托罗拉公司
申请日： 2001-11-19 - 公布日： 2004-03-03 - 主分类号： H01L21/3105 文献下载
摘要：本发明公开了一种在化学机械抛光半导体圆片(100、200)期间确定终点的方法。该方法包括步骤：在待抛光的第一层(106、206)上，沉积第二层(108、208)，第一层(106、206)的物理特性不同于第二层(108、208)的物理特性。此后，利用化学机械抛光抛光圆片(100、200)。因为各层的物理特性不同，所以可以检测物理特性的变化，而且可以根据检测到的变化，确定终点。此外，还公开了一种用于化学机械抛光的半导体圆片。
确定终点方法以及半导体

[发明专利]用于实时抛光配方控制的方法及系统-CN201580029372.X有效
发明人：杰米·S·莱顿;伊辛·彭 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2015-06-04 - 公布日： 2020-02-21 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明提供用于实时控制抛光工艺的系统及方法。在第一数据集及第二数据集中分别辨识第一特性及第二特性，每一数据集对应于实时晶片抛光数据。计算第一特性与第二特性出现在其各个数据集内的时间之间的时间增量，然后基于计算得出的时间增量实时更新抛光参数。
用于实时抛光配方控制方法系统

[发明专利]用于终点检测的序列特征跟踪-CN201580023446.9有效
发明人： J·D·大卫 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2015-04-13 - 公布日： 2019-06-11 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：控制抛光的方法包含以下步骤：抛光基板，所述基板具有覆盖于第一层上的第二层；利用原位监测系统检测第一层的暴露；接收所选择的光谱特征的标识以及所选择的光谱特征的特性以在抛光期间监测；在基板正在经抛光时，测量来自基板的光的光谱的序列；在第一原位监测技术检测到第一层的暴露时，确定用于特征的特性的第一值；将偏移加到第一值以生成第二值；以及监测特征的特性；以及当确定了特征的特性达到第二值时，停止抛光。
用于终点检测序列特征跟踪

[发明专利]一种具有胀流特性的柔性磨具及其抛光方法-CN201910221152.7有效
发明人：李敏;宋方增;董婷;杨晓莹;刘明辉;黄振荣;唐成 -专利权人：湖南科技大学
申请日： 2019-03-22 - 公布日： 2020-12-18 - 主分类号： B24D18/00 文献下载
摘要：一种具有胀流特性的柔性磨具，所述柔性磨具是由水凝胶、胀流相、磨料、凝固剂组成的固态磨具，抛光过程中，水凝胶和凝固剂会缓慢逐渐溶解，释放出胀流相和磨料，在水溶液的参与下形成胀流抛光液，胀流抛光液产生胀流现象，粘度上升，胀流抛光液会吸附在工件表面，在磨具膨胀产生的载荷和夹具提供的剪切速率双重作用下，实现磨具对工件表面的柔性抛光。以及提供一种具有胀流特性的柔性磨具实现的抛光方法。本发明具有胀流特性的柔性磨具有着使用方便、易储存、低经济成本等优点；由于磨具的胀流特性和柔性抛光，磨具能够适应多种面型(平面、简单或复杂曲面)，能够获得无/低表面损伤或亚表面损伤的工件。
一种具有特性柔性磨具及其抛光方法

[发明专利]一种具有剪切膨胀特性的高效抛光盘及其制备方法-CN202011487724.5有效
发明人：陈泓谕;许良;吕冰海;王国强;李鹏;徐绍振 -专利权人：浙江工业大学
申请日： 2020-12-16 - 公布日： 2022-05-03 - 主分类号： B24B37/14 文献下载
摘要：一种具有剪切膨胀特性的高效抛光盘，包括柔性固着磨具、抛光层、刚性层、粘合层和吸附层，所述柔性固着磨具由具有非牛顿流体特性的粘弹性胶基和磨粒组成，所述柔性固着磨具组分及其质量百分比为：粘弹性聚合物69％～85％，粒度在0.05～50μm之间的磨粒10％～30％，分散剂1％～5％；所述抛光层中填充有柔性固着磨具，所述刚性层位于抛光层下面，所述粘合层位于抛光层与刚性层之间且将抛光层与刚性层粘合在一起，所述吸附层粘合在刚性层的底面，所述吸附层吸附在抛光设备基盘上。以及提供一种具有剪切膨胀特性的高效抛光盘的制备方法。本发明可用于难加工硬脆材料的平面抛光，具有加工效率高，加工质量好，经济成本低等优点。
一种具有剪切膨胀特性高效抛光及其制备方法

[发明专利]用于监控CMP抛光方法的方法和用于CMP抛光方法的装置-CN200510128952.2无效
发明人： C·鲁多尔夫;H·德鲁默;A·勒布曼;C·塔尔多夫 -专利权人：因芬尼昂技术股份公司
申请日： 2005-12-02 - 公布日： 2006-06-07 - 主分类号： B24B39/06 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于监控CMP抛光方法的方法，其中衬底被固定在保持器中，其中抛光布被固定在盘上，其中抛光布的表面与衬底的表面处于有效连接中，其中使抛光布和衬底彼此相对地运动，使得从衬底的表面剥蚀材料。设置有与抛光布的表面处于有效连接中的测量设备，其中测量设备检测抛光布的表面特性并生成依赖于抛光布的表面特性的测量信号。为了识别在CMP抛光方法期间衬底表面的材料变化，将测量信号与相应的参考值进行比较。
用于监控 cmp 抛光方法装置

[发明专利]抛光垫-CN201880001838.9在审
发明人：横田亘俊;杉山翔太;成松贵 -专利权人：古河电气工业株式会社
申请日： 2018-03-27 - 公布日： 2019-01-04 - 主分类号： B24B37/26 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种抛光垫，其具有优异的抛光性能和抛光浆料的排出特性。所述抛光垫在抛光面上具有抛光部和槽部，其中，所述槽部的表面具有未发泡部，所述抛光部的表面露出有发泡部。
抛光抛光部抛光垫槽部发泡抛光浆料抛光性能排出

[发明专利]具有整体识别特征的化学机械抛光垫-CN200910208016.0有效
发明人： M·J·库尔普;D·斯特林 -专利权人：罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司
申请日： 2009-10-15 - 公布日： 2010-06-09 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本发明提供了具有抛光层的化学机械抛光垫，所述抛光层具有适合抛光基材的抛光表面，其中所述抛光层具有独特整体识别特征；所述独特整体识别特征不具抛光活性，其中独特整体识别特征包含至少两个视觉上可区分的特性，所述至少两个视觉上可区分的标记中的至少一个是并非基于颜色的标记，所述至少两个视觉上可区分的标记之一是基于颜色的标记，对所述至少两个视觉上可区分的特性进行选择，以唯一地识别出化学机械抛光垫，作为从多个类型的化学机械抛光垫中选出的化学机械抛光垫；并且，所述抛光层具有适合抛光基材的抛光表面本发明还提供了制备这种抛光层以及用它们抛光基材的方法。
具有整体识别特征化学机械抛光

[发明专利]手持式动力工具的抛光垫和带有这种抛光垫的动力工具-CN201810689827.6在审
发明人：盖多·瓦伦蒂尼 -专利权人：盖多·瓦伦蒂尼
申请日： 2018-06-28 - 公布日： 2019-01-15 - 主分类号： B24B37/24 文献下载
摘要：本发明涉及一种适于能够拆卸地附接到手持式动力工具(1)的板状背衬垫(9)的底部表面(9a)的抛光垫(11)。抛光垫(11)包括在动力工具(1)的预期使用期间面向待被抛光工件的底部作业表面(11b)。建议底部作业表面(11b)具有不同特性的至少两件(12,13)抛光材料。抛光垫(11)的具有第一特性的至少一件(13)的底部作业表面(13b)延伸超出抛光垫(11)的具有不同的第二特性的至少另一件(12)的底部作业表面(12b)。
抛光垫作业表面手持式动力工具动力工具作业运动底部表面轨道作业抛光材料抛光工件气动马达使用期间随机轨道板状致动拆卸延伸

[发明专利]一种磁流变抛光液的循环装置-CN201910032160.7在审
发明人：陈华;黄文;何建国;郑永成;张建飞;周涛;张云飞;唐小会 -专利权人：中国工程物理研究院机械制造工艺研究所
申请日： 2019-01-14 - 公布日： 2019-03-29 - 主分类号： B24B57/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种磁流变抛光液的循环装置，包括作为抛光液循环管路的传送管、用于对传送管内抛光液进行冷却的冷却装置，所述冷却装置包括其上设置有冷却介质承装空间的冷却罐、用于对所述冷却介质进行降温的制冷机，所述传送管局部为呈螺旋盘管状的螺旋管本循环装置的结构设计不仅可避免因为温度影响抛光液的抛光去除特性、使得抛光过程中抛光液具有去除特性一致性，同时可避免抛光液在被冷却过程中形成团聚而影响抛光表面质量。
抛光液冷却介质循环装置传送管磁流变抛光液冷却装置螺旋管去除螺旋盘管状冷却过程抛光表面抛光过程温度影响循环管路抛光冷却罐制冷机冷却团聚

[实用新型]一种磁流变抛光液的循环装置-CN201920058269.3有效
发明人：陈华;黄文;何建国;郑永成;张建飞;周涛;张云飞;唐小会 -专利权人：中国工程物理研究院机械制造工艺研究所
申请日： 2019-01-14 - 公布日： 2019-09-20 - 主分类号： B24B57/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种磁流变抛光液的循环装置，包括作为抛光液循环管路的传送管、用于对传送管内抛光液进行冷却的冷却装置，所述冷却装置包括其上设置有冷却介质承装空间的冷却罐、用于对所述冷却介质进行降温的制冷机本循环装置的结构设计不仅可避免因为温度影响抛光液的抛光去除特性、使得抛光过程中抛光液具有去除特性一致性，同时可避免抛光液在被冷却过程中形成团聚而影响抛光表面质量。
抛光液冷却介质循环装置传送管磁流变抛光液冷却装置螺旋管去除本实用新型螺旋盘管状冷却过程抛光表面抛光过程温度影响循环管路抛光冷却罐制冷机冷却团聚

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