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- [发明专利]用于CMP抛光液的紫外催化方法-CN201610105596.0在审
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王同庆;王婕;路新春
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清华大学
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2016-02-25
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2016-05-11
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B24B57/02
- 本发明公开了一种用于CMP抛光液的紫外催化方法，在所述抛光液中添加N型半导体颗粒催化剂，利用自转的抛光头夹持晶圆以在抛光盘上对所述晶圆进行化学机械抛光，其中，在所述化学机械抛光过程中，利用紫外线对在晶圆与抛光盘之间流动的抛光液进行照射，以使所述抛光液中的N型半导体颗粒催化剂被紫外线催化氧化形成促进抛光的氧化性物质。根据本发明的用于CMP抛光液的紫外催化方法，通过在抛光液中添加N型半导体颗粒催化剂，并在抛光过程中利用紫外线对于抛光液进行照射，使抛光液中的N型半导体颗粒催化剂可以被催化氧化形成氧化性物质，促进抛光，从而可以提高材料的去除率
- 用于cmp抛光紫外催化方法
- [发明专利]一种自由曲面的抛光方法及装置-CN202010492415.0有效
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金洙吉;赵勇;郭江
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大连理工大学
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2020-06-03
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2021-06-18
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B24B1/04
- 一种自由曲面的抛光方法及装置，尤其涉及一种基于剪切增稠的角度可调整的振动抛光工件自由曲面的方法及装置。装置包括抛光系统、抛光液循环系统、振动装置、角度调节装置，抛光系统与抛光液循环系统连接，抛光液从抛光池底部侧面流出通过管路进入抛光液循环系统，角度调节装置与抛光系统相连。该方法是通过工件在具有剪切增稠效应的非牛顿流体里振动，保证抛光液发生剪切增稠现象。同时，度调节装置可以使工件在抛光液中的抛光角度变化，保证抛光的均匀性。工件表面在抛光液中振动冲刷以实现对内表面材料的高效、均匀去除。本发明可用于实现常规抛光工具难以加工的自由曲面面的抛光，且抛光效率高、可实现自由曲面的均匀抛光、装置简单。
- 一种自由曲面抛光方法装置
- [实用新型]可换液的声悬浮抛光设备-CN202120708239.X有效
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吕君
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义乌工商职业技术学院
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2021-04-07
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2021-11-09
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G01N1/32
- 本实用新型涉及研磨抛光技术领域，公开了一种可换液的声悬浮抛光设备，包括机架、脉冲电源、超声换能器、超声反射端、用于存放抛光液的容器、出液管、进液管、可控制抛光液流通和停滞的第一电磁阀、存放有抛光液的储液箱通过上述技术方案的设置，在抛光的过程中打开第一电磁阀，工件被抛光所掉落的颗粒物质混合着抛光液流出液管流出，新的抛光液通过进液管进入容器中，从而使得容器中的抛光液保持纯净，从而能够稳定维持抛光效果。在非抛光的过程中打开第一电磁阀即可更换容器中的抛光液，操作方便。
- 可换液悬浮抛光设备
- [实用新型]单晶硅抛光液泵给系统-CN202220340195.4有效
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罗平新;王春阳;季清海;罗正光
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东莞德盟工业有限公司
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2022-02-18
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2022-06-21
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B01F27/90
- 本实用新型公开了单晶硅抛光液泵给系统，包括箱体,底座,支架以及泵给结构；泵给结构安装在箱体上，箱体安装在支架上，支架安装底座上；泵给结构包括：旋转组件，起泡组件和供给组件；旋转组件安装在箱体上，气泡组件安装在箱体上，供给组件安装在箱体上；本实用新型涉及单晶硅生产技术领域，具备以下有益效果：使得抛光液在储存箱内得到充分的搅拌使得抛光液内的微粉不会堆积在底部使得抛光液内的微粉均匀的分布在抛光液内，使得抛光效率得到提升；使得抛光液在使用时，可以调节抛光液的供给流速和流量，使得抛光液使用率得到提升不会照成浪费。
- 单晶硅抛光系统
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