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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]感光性膜-CN201780019777.4有效
发明人：池田芳史;小山祐太朗 -专利权人：东丽株式会社
申请日： 2017-03-22 - 公布日： 2022-11-08 - 主分类号： G03F7/023 文献下载
摘要：提供可得到高耐热性的固化膜、具有良好的图案加工性(高敏感度性)、且具有与基板的良好的密合性即层压性的感光性膜。感光性膜，其含有：(A1)具有通式(1)表示的结构单元的碱溶性树脂；(A2)包含选自聚酰亚胺、聚苯并噁唑、聚酰胺酰亚胺、它们的前体、及它们的共聚物中的一种以上的碱溶性树脂；(B)光产酸剂；以及(C)热交联剂
感光性

[发明专利]感光性膜层积体及其固化物-CN201810667813.4在审
发明人：岛宫真梨子;舟越千弘;加藤文崇;高桥元范;佐藤和也;荒井康昭;伊藤信人 -专利权人：太阳油墨制造株式会社
申请日： 2018-06-26 - 公布日： 2019-01-04 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：提供一种感光性膜层积体，其即使在形成感光性膜的感光性树脂组合物中包含炭黑，也不会使作业环境变差。一种感光性膜层积体，其为将支撑膜和由感光性树脂组合物构成的感光性膜层积而成的感光性膜层积体，其特征在于，上述感光性树脂组合物至少包含炭黑和填料而成，上述填料具有与上述炭黑的电荷相反的电荷。
感光性膜层积体感光性树脂组合物炭黑电荷作业环境固化物支撑膜变差层积

[发明专利]感光性膜层积体和使用其形成的固化物-CN201810034826.8有效
发明人：舟越千弘;冈田和也;北村太郎;佐藤和也;荒井康昭;伊藤信人 -专利权人：太阳控股株式会社
申请日： 2018-01-15 - 公布日： 2023-08-25 - 主分类号： G03F7/09 文献下载
摘要：提供一种感光性膜层积体，即使由于将层压有感光性膜层积体的基板等重合时的强烈的冲击或挤压，该感光性膜层积体也能够抑制对感光性膜表面的影响。一种感光性膜层积体，其为依次具备支撑膜、中间层和由感光性树脂组合物形成而成的感光性膜的感光性膜层积体，其特征在于，上述中间层包含三聚氰胺和三聚氰胺化合物中的至少任一种而成。
感光性层积使用形成固化

[发明专利]感光性膜层积体及其固化物、以及电子部件-CN201910243227.1有效
发明人：荒井康昭;舟越千弘;佐藤和也 -专利权人：太阳油墨制造株式会社
申请日： 2019-03-28 - 公布日： 2022-07-22 - 主分类号： C08J7/04 文献下载
摘要：提供一种适于中空结构的形成的感光性膜层积体及其固化物、以及电子部件，该感光性膜层积体在SAW滤波器等具有中空结构的电子部件中能够抑制中空结构的接近部的镀层等的剥落。形成一种感光性膜层积体，其为依次具备支撑膜、由感光性组合物形成而成的感光性膜、和保护膜的感光性膜层积体，其中，将上述保护膜从上述感光性膜层积体剥离而使上述感光性膜表面露出，在23℃、相对湿度42％的环境下放置1分钟后的上述感光性膜表面的算术平均表面粗糙度设为Ra1，将上述保护膜从上述感光性膜层积体剥离而使上述感光性膜表面露出，在23℃、相对湿度42％的环境下放置180分钟后的上述感光性膜表面的算术平均表面粗糙度设为
感光性层积及其固化以及电子部件

[发明专利]感光性膜层积体和使用其形成的固化物-CN201810034610.1有效
发明人：舟越千弘;岛宫真梨子;冈田和也;佐藤和也;伊藤秀之;荒井康昭;伊藤信人 -专利权人：太阳油墨制造株式会社
申请日： 2018-01-15 - 公布日： 2021-09-28 - 主分类号： B32B3/30 文献下载
摘要：提供一种感光性膜层积体，其难以产生图案的边缘倒塌，即使由于将层压有感光性膜层积体的基板等重合时的强烈的冲击或挤压，也能抑制对感光性膜表面的影响，进而在固化覆膜的外观检查中也能够改善成品率。一种感光性膜层积体，其为依次具备支撑膜、中间层和由感光性树脂组合物形成而成的感光性膜的感光性膜层积体，其特征在于，上述感光性膜具备具有凹凸表面的面，上述凹凸表面的凹凸平均间隔Sm为5μm以上且小于90μm
感光性层积使用形成固化

[发明专利]半导体器件的制造方法和半导体器件的制造装置-CN03105143.X无效
发明人：伊藤信一;东木达彦;奥村胜弥;川野健二;井上壮一 -专利权人：株式会社东芝
申请日： 2003-03-04 - 公布日： 2003-09-17 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：在半导体衬底主面上形成感光性膜把半导体衬底送到曝光装置；给上述感光性膜选择性曝光掩模上检查标记，在该感光性膜上形成检查标记的潜像；加热至少检查标记的潜像形成区的上述感光性膜，浮现第2检查标记的潜像；测量浮现的检查标记像；根据测量结果，变更选择性曝光时上述曝光装置的设定值，使其曝光条件为设计值；按照变更后的设定值，给上述感光性膜曝光上述感光性膜上掩模上器件图形，使该感光性膜形成器件图形的潜像；加热整个上述感光性膜；以及使上述感光性膜显影
半导体器件制造方法装置

[发明专利]半导体器件的制造装置-CN200510002715.1无效
发明人：伊藤信一;东木达彦;奥村胜弥;川野健二;井上壮一 -专利权人：株式会社东芝
申请日： 2003-03-04 - 公布日： 2005-06-29 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：在半导体衬底主面上形成感光性膜把半导体衬底送到曝光装置；给上述感光性膜选择性曝光掩模上检查标记，在该感光性膜上形成检查标记的潜像；加热至少检查标记的潜像形成区的上述感光性膜，浮现第2检查标记的潜像；测量浮现的检查标记像；根据测量结果，变更选择性曝光时上述曝光装置的设定值，使其曝光条件为设计值；按照变更后的设定值，给上述感光性膜曝光上述感光性膜上掩模上器件图形，使该感光性膜形成器件图形的潜像；加热整个上述感光性膜；以及使上述感光性膜显影
半导体器件制造装置

[发明专利]图案形成方法以及半导体器件的制造方法-CN200810174269.6有效
发明人：伊藤信一;松永健太郎;河村大辅;大西廉伸 -专利权人：株式会社东芝
申请日： 2006-05-15 - 公布日： 2009-05-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种图案的形成方法，其包括：在被加工膜上形成感光性树脂膜；通过涂布法在上述感光性树脂膜上形成用于保护上述感光性树脂膜的保护膜；通过浸渍液对上述感光性树脂膜的部分区域选择性地进行液浸曝光，将上述浸渍液提供到上述感光性树脂膜上；在形成上述保护膜后，且在对上述感光性树脂膜的部分区域进行选择性液浸曝光之前，将上述保护膜的表面平滑化；除去上述保护膜；以及，通过选择性地除去上述感光性树脂膜的曝光区域或者非曝光区域，形成由上述感光性树脂膜构成的图案
图案形成方法以及半导体器件制造

[发明专利]负型感光性树脂组合物-CN201310729421.3有效
发明人：植松照博;盐田大 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2013-12-26 - 公布日： 2019-12-13 - 主分类号： G03F7/038 文献下载
摘要：本发明提供能够形成分辨率优异的厚膜的感光性树脂层的、厚膜用负型感光性树脂组合物；具有包含该厚膜用负型感光性树脂组合物的厚膜的感光性树脂层的厚膜感光性干燥膜；以及使用该厚膜用负型感光性树脂组合物的厚膜抗蚀剂图案的形成方法在含有（A）碱可溶性树脂和（B）光聚合性单体的厚膜用负型感光性树脂组合物中，配合（C）下述式（1）所示的化合物。
感光性树脂组合

[发明专利]用于形成精密微细空间的顶板部的感光性层合膜及精密微细空间的形成方法-CN200680001574.4有效
发明人：高桥亨;山之内笃史;胜又直也;前田浩辉 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2006-01-23 - 公布日： 2007-12-19 - 主分类号： G03F7/038 文献下载
摘要：提供一种感光性层合膜及应用该感光性层合膜形成精密微细空间的方法，该感光性层合膜用于形成精密微细空间的顶板部。该感光性层合膜适合用于有效和廉价地形成各种精密微细空间，尤其是形成于电子部件如喷墨头中的精密微细空间。作为用于形成精密微细空间的顶板部的感光性层合膜采用层合膜，该层合膜提供至少一个感光性组合物层和透明支持层，该感光性层合膜通过被设置在精密微小的凹部上以覆盖上部开口后被固化来构成精密微细空间的顶板部。该透明支持膜支撑该感光性组合物层和防止该感光性组合物层在固化时变形。
用于形成精密微细空间顶板感光性层合膜方法

[发明专利]感光性膜层积体和使用其形成的固化物-CN201810035085.5有效
发明人：岛宫真梨子;舟越千弘;冈田和也;北村太郎;佐藤和也;荒井康昭;伊藤信人 -专利权人：太阳油墨制造株式会社
申请日： 2018-01-15 - 公布日： 2022-02-25 - 主分类号： G03F7/09 文献下载
摘要：提供一种感光性膜层积体，其分辨率优异且在固化覆膜的外观检查中还能够改善成品率。一种感光性膜层积体，其为依次具备无机颗粒含有层和由感光性树脂组合物形成而成的感光性膜的感光性膜层积体，其特征在于，上述无机颗粒含有层包含无机颗粒而成，对于上述无机颗粒的含有比例，在上述无机颗粒含有层的厚度方向上，在接触上述感光性膜的一侧升高，在远离上述感光性膜的一侧降低。
感光性层积使用形成固化

[发明专利]图案形成方法以及半导体器件的制造方法-CN200610080276.0无效
发明人：伊藤信一;松永健太郎;河村大辅;大西廉伸 -专利权人：株式会社东芝
申请日： 2006-05-15 - 公布日： 2006-11-15 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种图案的形成方法，其包括：在被加工膜上形成感光性树脂膜；通过涂布法在上述感光性树脂薄膜上形成用于保护上述感光性树脂薄膜的保护膜；通过浸渍液对上述感光性树脂膜的部分区域选择性地进行液浸曝光，将上述浸渍液提供到上述感光性树脂薄膜上；在形成上述保护膜后，且在对上述感光性树脂薄膜的部分区域进行选择性曝光之前，从上述保护膜除去对上述浸渍液具有亲和性部位的残留物质；除去上述保护膜；以及，通过选择性地除去上述感光性树脂膜的曝光区域或者非曝光区域，形成由上述感光性树脂薄膜构成的图案。
图案形成方法以及半导体器件制造

[发明专利]感光性膜、感光性元件及层叠体的制造方法-CN202280003952.1在审
发明人：成田真生;小野敬司;田中志步;武田明子;渡边祐作 -专利权人：株式会社力森诺科
申请日： 2022-03-07 - 公布日： 2023-10-03 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：一种感光性膜，其含有(A)粘合剂聚合物、(B)光聚合性化合物、(C)光聚合引发剂及(D)吡唑啉化合物，其厚度为20μm以下。一种感光性元件(1)，其具备支撑体(2)和配置于支撑体(2)上的感光性树脂层(3)，其中感光性树脂层(3)为该感光性膜。一种层叠体的制造方法，其具备：使用上述感光性膜或感光性元件(1)将感光性树脂层配置于基材上的配置工序；使感光性树脂层的一部分光固化的工序；及去除感光性树脂层的未固化部的至少一部分而形成固化物图案的工序。
感光性元件层叠制造方法

[发明专利]负型感光性树脂组合物及固化膜的制造方法-CN202011366540.3在审
发明人：引田二郎;染谷和也;盐田大 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2020-11-27 - 公布日： 2021-06-04 - 主分类号： G03F7/038 文献下载
摘要：本发明涉及负型感光性树脂组合物及固化膜的制造方法。本发明的课题在于提供能够形成具有高耐溶剂性的固化膜的负型感光性树脂组合物、由该负型感光性树脂组合物的固化物形成的固化膜、以及使用上述负型感光性树脂组合物的固化膜的制造方法。解决手段为包含特定结构的树脂(A)和特定结构的光聚合引发剂(B)的负型感光性树脂组合物、由该负型感光性树脂组合物的固化物形成的固化膜、以及使用上述负型感光性树脂组合物的固化膜的制造方法。
感光性树脂组合固化制造方法

[发明专利]感光性膜、感光性膜层积体和使用它们形成的固化物-CN201810034118.4有效
发明人：舟越千弘;冈田和也;北村太郎;佐藤和也;伊藤秀之;荒井康昭;伊藤信人 -专利权人：太阳油墨制造株式会社
申请日： 2018-01-15 - 公布日： 2021-12-14 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：提供一种感光性膜，其与芯片贴装材料的密合性优异，而且在固化覆膜的外观检查中也能够改善成品率。一种感光性膜，该感光性膜具备表面具有凹坑的面，并且是由感光性树脂组合物形成而成的，该感光性膜的特征在于，上述表面的每1mm2单位面积的凹坑的个数为3.0×10<
感光性层积使用它们形成固化

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