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[发明专利]多孔膜形成用组合物、隔膜、电化学元件、及电极复合体的制造方法-CN201710954972.8有效
发明人： 植松照博;引间武 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2017-10-13 - 公布日： 2021-10-26 - 主分类号： C08L1/02 文献下载
摘要：本发明涉及多孔膜形成用组合物、隔膜、电化学元件、及电极复合体的制造方法。本发明的课题在于提供包含良好且均匀分散的绝缘性纤维、能够形成可作为提供性能优异的电化学元件的隔膜来使用的多孔膜的多孔膜形成用组合物；由上述的组合物形成的隔膜；具有上述的隔膜的电化学元件；和使用了上述的组合物的电极复合体的制造方法。本发明的解决手段为：使用包含经疏水化改性的绝缘性纤维(A)、粘结剂树脂(B)、和溶剂(S)的多孔膜形成用组合物，制造可作为隔膜而合适地使用的多孔膜。
多孔形成组合隔膜电化学元件电极复合体制造方法

[发明专利]等离子体切割用保护膜形成剂及半导体芯片的制造方法-CN201980075516.3在审
发明人：木下哲郞;植松照博 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2019-09-12 - 公布日： 2021-06-25 - 主分类号： H01L21/301 文献下载
摘要：本发明提供等离子体切割用保护膜形成剂、和使用该等离子体切割用保护膜形成剂的半导体芯片的制造方法，所述等离子体切割用保护膜形成剂在通过等离子体切割将半导体基板切断而制造半导体芯片时，在保护膜的所期望的位置，能够通过激光的照射而良好地形成所期望形状的开口(加工槽)。在包含水溶性树脂(A)、吸光剂(B)和溶剂(S)的等离子体切割用保护膜形成剂中，使用在热重测定中升温至500℃时显示出80重量％以上的重量减少率的水溶性树脂(A)。
等离子体切割保护膜形成半导体芯片制造方法

[发明专利]感光性树脂组合物及玻璃基板的蚀刻方法-CN202010117100.8在审
发明人： 植松照博 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2020-02-25 - 公布日： 2020-09-04 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供对用于玻璃基板的蚀刻的蚀刻剂具有足够的耐性且能够形成由有机溶剂类的剥离液可进行剥离的蚀刻掩模的感光树脂组合物、与包括使用该感光性树脂组合物形成蚀刻掩模的玻璃基板的蚀刻方法。在对玻璃基板进行蚀刻时的蚀刻掩模的形成中使用的感光性树脂组合物包含：具有酸解离性溶解抑制基团且因酸的作用使碱可溶性增大树脂成分(A)、通过放射线的照射而产生酸的产酸剂(B)、填料(C)与增塑剂(D)，或者包含具有酚羟基的树脂成分(A1)、通过与酚羟基反应而赋予酸解离性溶解抑制基团的保护剂(A2)、产酸剂(B)、填料(C)与增塑剂(D)。
感光性树脂组合玻璃蚀刻方法

[发明专利]用于形成蚀刻掩模的玻璃基板的前处理方法-CN201510882811.3有效
发明人： 植松照博;田上胜弥 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2015-12-03 - 公布日： 2020-08-07 - 主分类号： G03F7/38 文献下载
摘要：本发明提供：用于形成蚀刻掩模的玻璃基板的前处理方法，通过该方法，于在表面上具有金属布线和非导电性的被膜的玻璃基板上形成蚀刻掩模时，对于蚀刻掩模的开口部的在玻璃基板的面方向的截面积而言，能使在玻璃基板表面侧的截面积与蚀刻掩模表面的开口部的截面积之差小，能形成可从玻璃基板整面快速剥离的蚀刻掩模；在实施了前处理方法的玻璃基板上形成蚀刻掩模的方法；及利用该方法形成的具有蚀刻掩模的玻璃基板的基于蚀刻的加工方法。解决手段：于在表面上具有金属布线和由有机或无机材料形成的非导电性的被膜的玻璃基板上形成蚀刻掩模之前，针对玻璃基板表面，利用含有胺的处理液进行胺处理，该胺不具有可与玻璃基板的表面化学键合的官能团。
用于形成蚀刻玻璃处理方法

[发明专利]用于形成多孔质膜的分散液、多孔质膜、蓄电元件及多孔质膜的制造方法-CN201810344884.0有效
发明人： 植松照博;引间武 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2018-04-17 - 公布日： 2020-07-21 - 主分类号： H01M2/16 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供包含良好且稳定地分散的(A)纤维材料、并且可形成孔隙率高的多孔质膜的分散液、使用前述的分散液形成的多孔质膜、具有前述的多孔质膜的蓄电元件、和使用前述的分散液进行的多孔质膜的制造方法。本发明的解决手段为一种用于通过涂布和干燥而形成多孔质膜的分散液，其包含(A)纤维材料和(B)有机溶剂，其中，在(A)纤维材料中含有包含规定范围内的量的羧基或其金属盐的改性纤维素纤维，并且，使分散液中的水分量为5质量％以下。
用于形成多孔质膜分散元件制造方法

[发明专利]玻璃加工用感光性树脂组合物及玻璃加工方法-CN201310270789.8有效
发明人： 植松照博;土居香织 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2013-07-01 - 公布日： 2020-07-10 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：提供：(1)耐蚀刻性高且分辨率优异、同时抑制侧蚀、可形成纵横比高的，或者(2)耐蚀刻性高且分辨率优异、同时抑制液体滴落的树脂图案的玻璃加工用感光性树脂组合物及使用该组合物的玻璃加工方法。本发明的(1)组合物含有具有羟基的质均分子量20000以上的树脂和选自聚烯烃微粒及无机盐微粒中的至少1种填料，(2)组合物含有具有羟基的质均分子量20000以上的树脂、填料与流变调节剂的组合。本发明的玻璃加工方法包括在玻璃基板上形成含上述组合物的树脂层的工序、将上述层选择性曝光的曝光工序、将曝光后的上述树脂层显影进行图案图案化的显影工序、将上述树脂图案用作掩模对上述玻璃基板进行蚀刻的蚀刻工序和剥离上述树脂图案的剥离工序。
玻璃工用感光性树脂组合加工方法

[发明专利]感放射线性组合物及图案制造方法-CN201480052348.3有效
发明人：信太胜;植松照博 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2014-09-25 - 公布日： 2019-12-17 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供灵敏度、保存稳定性、涂布性、显影性及安全性优异、并且能够利用曝光及显影形成使异物的产生受到抑制的图案的感放射线性组合物及使用该感放射线性组合物的图案制造方法。本发明的感放射线性组合物含有下述通式(1)所示的化合物。式中，R
放射线性组合图案制造方法

[发明专利]负型感光性树脂组合物-CN201310729421.3有效
发明人： 植松照博;盐田大 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2013-12-26 - 公布日： 2019-12-13 - 主分类号： G03F7/038 文献下载
摘要：本发明提供能够形成分辨率优异的厚膜的感光性树脂层的、厚膜用负型感光性树脂组合物；具有包含该厚膜用负型感光性树脂组合物的厚膜的感光性树脂层的厚膜感光性干燥膜；以及使用该厚膜用负型感光性树脂组合物的厚膜抗蚀剂图案的形成方法。在含有（A）碱可溶性树脂和（B）光聚合性单体的厚膜用负型感光性树脂组合物中，配合（C）下述式（1）所示的化合物。
感光性树脂组合

[发明专利]玻璃加工方法、玻璃蚀刻液、及玻璃基板-CN201510398272.6有效
发明人：森本茂彦;尾花彻也;栗山温;植松照博 -专利权人：东京应化工业株式会社;武蔵野精细玻璃株式会社
申请日： 2015-07-08 - 公布日： 2019-11-29 - 主分类号： C03C15/00 文献下载
摘要：本发明提供玻璃加工方法、玻璃蚀刻液、及玻璃基板，所述玻璃加工方法可以按照在玻璃基板的端部，使朝向玻璃基板的面方向外侧突出的顶部的顶端不位于玻璃基板的面方向的最外侧的方式加工玻璃基板。本发明的玻璃加工方法包括：第一玻璃蚀刻工序，使用含有氢氟酸0.5～20质量％、硝酸5.0～25.0质量％、和氢氟酸及硝酸以外的无机酸0.5～10质量％的第一玻璃蚀刻液，对在一对主平面上具有相同图案的蚀刻掩模的玻璃基板进行蚀刻；和第二玻璃蚀刻工序，使用含有氢氟酸0.5～20质量％、和硫酸10.0～50.0质量％的第二玻璃蚀刻液，对在所述第一玻璃蚀刻工序中被蚀刻了的所述玻璃基板进行蚀刻。
玻璃加工方法蚀刻

[发明专利]用于形成蚀刻掩模的玻璃基板的前处理方法-CN201510102402.7有效
发明人： 植松照博 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2015-03-09 - 公布日： 2019-03-08 - 主分类号： C03C23/00 文献下载
摘要：本发明提供一种玻璃基板的前处理方法，在表面具备金属配线、和由有机或无机材料构成的非导电性的被膜的玻璃基板上形成蚀刻掩模后，进行蚀刻加工、和蚀刻掩模的剥离的情况下，可以在玻璃基板整个表面，几乎不残留剥离残渣地迅速地使蚀刻掩模剥离，并提供在实施了该前处理方法的玻璃基板上形成蚀刻掩模方法、和具备利用该方法形成的蚀刻掩模的玻璃基板的借助蚀刻的加工方法。在表面具备金属配线、和由有机或无机材料构成的非导电性的被膜的玻璃基板上形成蚀刻掩模之前，对该玻璃基板，分别实施规定的亲液化处理、碱金属除去处理、和疏水化处理。
用于形成蚀刻玻璃处理方法

[发明专利]化学强化玻璃基板的加工方法-CN201410670258.2有效
发明人： 植松照博 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2014-11-20 - 公布日： 2019-01-04 - 主分类号： C03C15/00 文献下载
摘要：本发明提供化学强化玻璃基板的加工方法以及供于该加工方法的化学强化玻璃基板，该加工方法是在化学强化玻璃基板的表面使用感光性树脂组合物形成蚀刻掩模后对化学强化玻璃基板的表面实施蚀刻加工的方法，该加工方法能够从化学强化玻璃基板的表面快速地除去蚀刻掩模而几乎不产生蚀刻掩模的残渣。在对具备使用感光性树脂组合物所形成的蚀刻掩模的化学强化玻璃基板进行蚀刻加工时，使用实施蚀刻的面的、从表面至深度10μm的表层的钠和钾的元素成分比率总和为13质量％以下的化学强化玻璃基板。
化学强化玻璃加工方法

[发明专利]玻璃加工方法-CN201210260761.1有效
发明人： 植松照博 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2012-07-25 - 公布日： 2018-07-27 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：提供使用了蚀刻耐性高、且分辨率及剥离性优异的感光性树脂组合物的玻璃加工方法。本发明的玻璃加工方法包括以下工序：在玻璃基板上形成含有具有酚性羟基的碱可溶性树脂的感光性树脂组合物的涂布膜的涂布膜形成工序；对上述涂布膜进行选择性曝光的曝光工序；对曝光后的上述涂布膜进行显影而形成树脂图案的显影工序；以上述树脂图案作为掩模对上述玻璃基板进行蚀刻的蚀刻工序；以及将上述树脂图案剥离的剥离工序。
玻璃加工方法

[发明专利]感光性树脂组合物以及液晶板-CN201210083383.4有效
发明人： 植松照博;高桥香织 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2012-03-26 - 公布日： 2016-11-23 - 主分类号： G03F7/027 文献下载
摘要：本发明提供一种经时稳定性优异且涂布膜厚度不易随时间变化而变化的感光性树脂组合物、以及具有由该感光性树脂组合物形成的间隔物的液晶板。本发明的感光性树脂组合物含有碱可溶性树脂(A)、光聚合性单体(B)、光聚合引发剂(C)以及溶剂(S)。其中，碱可溶性树脂(A)含有至少由不饱和羧酸(a1)与具有脂环式环氧基的不饱和化合物(a2)聚合反应而得到的共聚物(A1)。并且，溶剂(S)含有(聚)亚烷基二醇二烷基醚类溶剂，(聚)亚烷基二醇二烷基醚类溶剂在溶剂(S)中所占的比例为56质量％以上。
感光性树脂组合以及液晶

[发明专利]树脂组合物、感光性树脂组合物、衬垫以及显示装置-CN201210369397.2在审
发明人：盐田大;野田国宏;植松照博 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2012-09-27 - 公布日： 2013-05-01 - 主分类号： G03F7/027 文献下载
摘要：本发明提供能够抑制使不饱和羧酸(a1)与含环氧基的不饱和化合物(a2)进行聚合而成的共聚物(A1)的分子量的增大的树脂组合物、含有该树脂组合物的感光性树脂组合物、由该感光性树脂组合物形成的衬垫、以及具备该衬垫的显示装置。在包含至少使不饱和羧酸(a1)和含环氧基的不饱和化合物(a2)进行聚合而成的共聚物(A1)的碱可溶性树脂(A)、含有丙二醇单甲基醚乙酸酯的溶剂(S)的树脂组合物中，配合下述式(1)评价的化合物。
树脂组合感光性衬垫以及显示装置

[发明专利]正型感光性组合物-CN200980118371.7有效
发明人：高桥元树;绪方寿幸;久里州多佛·柯多尼尔;仲村亮正;志知哲也;植松照博 -专利权人：东京应化工业株式会社;东海旅客铁道株式会社
申请日： 2009-05-13 - 公布日： 2011-04-20 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供能够形成高析像度且有机物残渣影响小的金属化合物薄膜图案的正型感光性组合物。该正型感光性组合物含有通过涂布后的煅烧处理能够形成金属化合物薄膜的金属络合物成分(A)以及感光剂(B)，(A)成分的配体优选为以芳香族化合物为骨架的多齿配体。通过具有该组成，即使实质上不含有感光性树脂的组合物体系，也能够赋予感光性，能够容易地形成金属化合物薄膜图案。
感光性组合

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