专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]LED磊晶片结构-CN202120636445.4有效
  • 谷鹏军;杨顺贵;林雅雯 - 重庆康佳光电技术研究院有限公司
  • 2021-03-29 - 2021-12-10 - H01L33/06
  • 本实用新型公开了一种LED磊晶片结构,其中,上述结构包括:多量MQW有源;所述多量MQW有源包括前多量MQW有源和后多量MQW有源,所述前多量MQW有源和所述后多量MQW有源中均具有交替层叠的量子量子,所述后多量MQW有源中每层量子的厚度均大于所述前多量MQW有源中每层量子的厚度。采用上述技术方案,解决了相关技术中,没有被限制在有源的电子会在有源之外发生复合发光,降低有源电子与空穴的复合几率等问题。
  • led晶片结构
  • [发明专利]LED外延结构及其制备方法-CN202310172702.7在审
  • 董雪振;李森林;毕京锋;王亚宏;薛龙;赖玉财;谢岚驰;廖寅生 - 厦门士兰明镓化合物半导体有限公司
  • 2023-02-27 - 2023-06-23 - H01L33/06
  • 本发明提供了一种LED外延结构及其制备方法,所述LED外延结构从下至上依次包括:衬底、底部缓冲、N型半导体有源以及P型半导体,其中有源包括依次堆叠的第一多量结构、第二多量结构和第三多量结构,且第一多量结构、第二多量结构和第三多量结构均为和垒交替生长形成的周期性结构,第一多量结构的垒为含Al组分的结构,第二多量结构的垒为氮化镓结构,第三多量结构的垒为含In组分的结构。本发明通过有源的垒设计不仅能增强有源的载流子限制效应,减缓电子迁移速率,防止电子溢出,而且还能够增加有源的空穴注入,提高辐射复合效率,进而提升光效。
  • led外延结构及其制备方法
  • [发明专利]一种内嵌重掺杂光栅的半导体红外探测器-CN201610686153.5有效
  • 郝智彪;刘雅琦;汪莱;罗毅 - 清华大学
  • 2016-08-18 - 2020-06-09 - H01L31/0352
  • 该半导体红外探测器包括:衬底;在所述衬底上依次生长的下电极多量有源、以及上电极;在所述衬底上还生长有重掺杂光栅,所述重掺杂光栅生长在所述上电极和所述多量有源之间,或者所述多量有源和所述下电极之间;在所述衬底上还生长有过渡,所述过渡生长在所述重掺杂光栅和所述多量有源之间。本发明实施例通过在多量有源和下电极之间,或者多量有源和上电极之间设置重掺杂光栅,以使得入射光与重掺杂光栅中的电子相互作用并在光栅界面形成等离激元,从而在多量有源内形成局域增强的光场,进而提高探测器有源区的吸收效率。
  • 一种内嵌重掺杂光栅半导体红外探测器
  • [发明专利]一种紫外LED有源多量的生长方法-CN201610373575.7有效
  • 郭丽彬;程斌;唐军;潘尧波 - 合肥彩虹蓝光科技有限公司
  • 2016-05-26 - 2019-01-08 - H01L33/00
  • 本发明提供一种紫外LED有源多量的生长方法,其生长方法包括以下步骤:步骤一,在蓝宝石衬底上,生长UGaN,步骤二,所述UGaN生长结束后,生长一掺杂浓度稳定的N‑GaN,步骤三,所述N‑GaN生长结束后,生长多量结构MQW,步骤四,所述多量结构MQW生长结束后,生长有源多量发光,步骤五,所述有源多量发光生长结束后,以N2作为载气生长P型氮化镓,步骤六,P型氮化镓生长结束后,进行退火处理即得LED外延结构。本发明的生产工艺可以优化电子的浓度分布,抑制电子泄露,减小多量生长过程中产生的应力,减小量子限制斯塔克效应(QCSE),增加电流注入效率,提高多量发光效率。
  • 一种紫外led有源多量生长方法
  • [发明专利]一种氮化物发光器件及其制备方法-CN200910111571.1无效
  • 张江勇;张保平;王启明;蔡丽娥;余金中 - 厦门大学
  • 2009-04-23 - 2009-09-23 - H01L33/00
  • 提供一种非对称耦合多量结构为有源区的氮化物发光器件及其制备方法。至少包括n-型电子注入、p-型空穴注入多量有源多量有源夹在n-型电子注入和p-型空穴注入之间。有源由非对称耦合量子结构组成。量子的垒较薄,易实现载流子隧穿,且量子中基态能级间的跃迁能量逐渐变化,跃迁能量大的量子接近p型注入,跃迁能量小的量子接近n型注入。用此有源区结构可增强空穴在量子有源区中的隧穿输运,同时阻挡电子在量子有源区中的隧穿输运,改善氮化物发光器件有源区中载流子分布不均现象,减小电子泄露和能带填充效应,实现高效发光。
  • 一种氮化物发光器件及其制备方法
  • [发明专利]一种LED芯片及其制备方法-CN202110845303.3有效
  • 黄璐;林志伟;马英杰;徐洲;蔡和勋 - 扬州乾照光电有限公司
  • 2021-07-26 - 2023-06-02 - H01L33/06
  • 本申请实施例公开了一种LED芯片及其制备方法,该LED芯片包括叠结构,该叠结构包括:层叠的第一型半导体多量有源和第二型半导体;其中,多量有源包括沿背离第一型半导体的方向交替排布的势阱和势垒,势阱为AlaGa1‑aAs,势垒为AlbGa1‑bAs,且0<a<b<1。本申请实施例所提供的LED芯片,由于其多量有源中势阱和势垒的长晶材料相同,因此,在多量有源的生长过程中,势阱和势垒的生长界面可以清晰地切换,从而提高多量有源的长晶质量,减少由于多量有源的长晶缺陷而造成的非辐射复合
  • 一种led芯片及其制备方法
  • [发明专利]一种紫外LED及其制备方法-CN202010078729.6在审
  • 万志;卓祥景;蔺宇航;尧刚;程伟 - 厦门乾照光电股份有限公司
  • 2020-02-03 - 2020-06-09 - H01L33/06
  • 本申请实施例提供了一种紫外LED及其制作方法,该LED包括:衬底;缓冲;电流扩展多量有源;超晶格电子阻挡,其中,多量有源包括量子垒结构和量子结构,量子垒结构包括第一量子、第二量子和第三量子,第二量子的Al组分高于第一量子和第三量子的Al组分,使得量子垒结构中的Al组分呈阶梯状,以利用第二量子较高的Al组分形成高势垒,从而实现较强的电子阻挡作用,同时利用第一量子和第三量子较低的Al组分,减小量子垒结构和量子结构之间的应力,削弱多量有源中的极化电场,提高多量有源的辐射复合速率,提高紫外LED的发光功率。
  • 一种紫外led及其制备方法

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