专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种提高光电探测性能的MoS2-CN202010051420.8在审
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  • 2020-01-17 - 2020-05-29 - H01L31/0352
  • 基于新型2D/0D杂化的光电晶体管,实现高响应度、超快响应速度、自供电光电探测性能。衬底上表面;在双层MoS2薄膜和Si/SiO2衬底上表面制作Pt电极,作为漏源电极;Pt电极为电极,厚度为50nm,宽度为2μm,Pt电极长为300μm,两个电极之间的宽间距为5μm;InP@ZnS量子点制作在Si/SiO2衬底、双层MoS2薄膜和Pt电极表面;Si/SiO2衬底背面制作银膜作为栅电极。本发明2μmPt电极的设计,不仅可以起到等离子体共振效应,增加光响应度;而且非对称Pt/MoS2肖特基势垒的引入可以有效平衡光响应度与光响应速度的两难问题。
  • 一种提高光电探测性能mosbasesub
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  • 2015-11-13 - 2017-05-24 - B81B5/00
  • 本发明提供一种静电驱动结构,包括固定电极及两端由支撑梁支撑而悬空的可动电极;所述固定电极包括若干呈周期性排列的第一,所述可动电极包括若干与所述第一交错排列的第二;其中所述第一及第二均在所述支撑梁方向上左右对称;所述第二指在往所述固定电极方向上宽度逐渐减小;所述第一指在往所述可动电极方向上宽度逐渐减小。本发明中,固定电极与可动电极相对运动时受到滑膜阻尼和压膜阻尼的共同作用,电极的驱动力和阻尼力介于平板电极和普通电极之间,既解决了普通电极驱动力过小的问题,又使得阻尼力小于平板电极。
  • 一种静电驱动结构及其制作方法
  • [发明专利]一种多LDMOS-SCR静电防护器件-CN201911095673.9在审
  • 汪洋;曹佩;董鹏;金湘亮;李幸 - 湖南静芯微电子技术有限公司
  • 2019-11-11 - 2020-01-14 - H01L27/02
  • 本发明实施例提供一种多LDMOS‑SCR静电防护器件,包括P衬底;P衬底中设有N深阱;N深阱内设有第一P阱、第一P阱和第二P阱之间的N深阱、第二P阱、第二P阱和第三P阱之间的N深阱、第三P阱、第三P+阱和第四P阱之间的N深阱以及第四P阱;第一P阱内设有第一P+注入区和第一N+注入区;第二P阱内设有第四P+注入区、第三N+注入区、第五P+注入区、第四N+注入区和第六P+注入区;第三P阱内设有第九P+注入区和多个N+注入区Ⅱ,第四P阱内设有第九N+注入区和多个P+注入区Ⅴ,如此,相对于传统多LDMOS‑SCR器件,本发明在增加器件指数的同时,提高多LDMOS‑SCR的导通均匀性,进而提高多
  • 注入区叉指衬底静电防护器件导通均匀性鲁棒性
  • [实用新型]一种多LDMOS-SCR静电防护器件-CN201921941191.6有效
  • 汪洋;曹佩;董鹏;金湘亮;李幸 - 湖南静芯微电子技术有限公司
  • 2019-11-11 - 2020-05-08 - H01L27/02
  • 本实用新型实施例提供一种多LDMOS‑SCR静电防护器件,包括P衬底;P衬底中设有N深阱;N深阱内设有第一P阱、第一P阱和第二P阱之间的N深阱、第二P阱、第二P阱和第三P阱之间的N深阱、第三P阱、第三P+阱和第四P阱之间的N深阱以及第四P阱;第一P阱内设有第一P+注入区和第一N+注入区;第二P阱内设有第四P+注入区、第三N+注入区、第五P+注入区、第四N+注入区和第六P+注入区;第三P阱内设有第九P+注入区和多个N+注入区Ⅱ,第四P阱内设有第九N+注入区和多个P+注入区Ⅴ,如此,相对于传统多LDMOS‑SCR器件,本实用新型在增加器件指数的同时,提高多LDMOS‑SCR的导通均匀性,进而提高多LDMOS‑SCR的鲁棒性。
  • 一种多叉指ldmosscr静电防护器件

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