专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种基于背景预筛选的自适应CFAR目标检测方法-CN202110163565.1在审
  • 余翔;李娅;王诗言 - 重庆邮电大学
  • 2021-02-05 - 2021-06-15 - G01S7/41
  • 本发明涉及一种基于背景预筛选的自适应CFAR目标检测方法,属于雷达目标检测技术领域。该方法首先对参考窗口进行参数估计剔除背景中的疑似目标,避免目标遮蔽效应;其次对背景均匀性进行评估,确保背景均匀背景功率估计能使用到更多的参考窗口;对不均匀背景检测杂波边缘,确定只保留属于本检测单元所在背景的参考窗口进行背景功率估计,提高算法在边缘环境的检测效果,避免由于背景功率估计的不准确导致边缘处出现漏警或虚警;最后再用得到的参考窗口利用CA‑CFAR对检测单元进行判决。
  • 一种基于背景筛选自适应cfar目标检测方法
  • [实用新型]一种软膜发光背景墙机构-CN202020523212.9有效
  • 王强;常林凯;于小琪;崔鹏飞;张峥 - 腾升建筑装饰股份有限公司
  • 2020-04-10 - 2020-10-20 - F21S8/02
  • 本实用新型涉及建筑装潢装饰领域,具体说是一种软膜发光背景墙机构,包括固定设置于建筑物上的背景墙体和可拆卸设置于背景墙体开口处的透光软膜,所述背景墙体截面成U形,所述透光软膜通过卡槽结构可拆卸设置于背景墙体的开口处;所述背景墙体内沿长度方向均布固定设置有相互平行的光源灯条,本实用新型的软膜发光背景墙机构,能够克服背景墙灯光明暗不均匀的缺陷,实现软膜发光背景墙表面明暗均匀,显著提高视觉和装饰效果的目的。
  • 一种发光背景墙机构
  • [发明专利]均匀背景光下的边缘检测方法-CN201410017034.1有效
  • 王彦 - 香港应用科技研究院有限公司
  • 2014-01-14 - 2017-01-18 - G06T7/00
  • 本发明披露了一种确定数字图像序列中物体边缘的方法,包括确定所述数字图像序列中第一图像的第一梯度方向分布;确定所述数字图像序列中第二图像的第二梯度方向分布;根据所述第一梯度方向分布和第二梯度方向分布计算的差值分布;根据所述差值分布判定物体的边缘;其中所述差值分布由所述第二梯度方向分布的梯度幅值以及所述第一梯度方向分布和所述第二梯度方向分布之间的角度差来表示。本发明也公开了其系统。
  • 均匀背景边缘检测方法
  • [发明专利]一种图像杂散光抑制方法及系统-CN202010202989.X在审
  • 王学伟 - 潍坊科技学院
  • 2020-03-20 - 2020-08-21 - G06T5/00
  • 所述抑制方法包括:获取原始星空背景空间目标观测图像;采用算术均值滤波器对进行邻域平均;利用数学形态学确定背景估计结果图像;确定第一均值和第一标准差;确定第二均值和第二标准差;判断第一标准差与第二标准差之差的绝对值是否大于门限值,若是,确定未达到标准差指定缩小范围;若否,确定达到标准差指定缩小范围,并确定校正标准差以及校正均值;根据背景估计结果图像以及校正均值对原始星空背景空间目标观测图像的不均匀背景进行校正,确定校正后的目标观测图像采用该抑制方法及系统能够去除由于天体杂散光导致的星空背景图像存在的不均匀背景,提高图像不均匀背景的去除效果。
  • 一种图像散光抑制方法系统
  • [实用新型]一种毫米波可控温背景辐射测量室-CN201921841599.6有效
  • 胡飞;苏金龙;郭泰华 - 华中科技大学
  • 2019-10-30 - 2020-07-24 - G01N22/00
  • 本实用新型公开了一种毫米波可控温背景辐射测量室,包括支撑隔热层、均匀背景层、透波隔热层、温度传感器、进气口、气体制造单元、温度控制单元、电源供给单元;支撑隔热层、均匀背景层和透波隔热层组成半球形三层结构;支撑隔热层采用真空金属壁,均匀背景层中铺满吸波材料,透波隔热层采用泡沫材料。气体制造单元通过进气口向均匀背景层灌输预设温度的气体,并根据多个温度传感器实时反馈的罩内温度自动调整气体制造单元的运行功率,维持吸波材料温度在温控范围内的某一指定温度值。该设备可实现在背景环境各个方向上具有均匀的毫米波辐射,以实现对物体毫米波辐射测量中环境因素的控制,通过提高待测物品与环境的亮温差异,提高测量精度。
  • 一种毫米波可控背景辐射测量

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