专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种3D摄像附加镜头和3D摄像头-CN201210167909.7在审
  • 王嘉;鲍东山 - 北京新岸线移动多媒体技术有限公司
  • 2012-05-25 - 2013-12-04 - H04N13/02
  • 本发明提供了一种3D摄像附加镜头和3D摄像头,所述3D摄像附加镜头包括:轴对称设置的第一反光和第二反光,所述第一反光包括第一反光和第二反光,所述第二反光包括第三反光和第四反光,所述第一反光与所述第四反光呈轴对称,所述第二反光与所述第三反光呈轴对称,所述第二反光与所述第三反光接触,所述第一反光用于获取第一图像,所述第二反光用于反射所述第一图像,使其成像于主镜头的感光模组的一半区域上,所述第四反光用于获取第二图像,所述第三反光用于反射所述第二图像,使其成像于主镜头的感光模组的另一半区域上。
  • 一种摄像附加镜头摄像头
  • [实用新型]一种外后视镜及使用该外后视镜的车辆-CN201521031362.3有效
  • 曹德州;侯胜锟 - 曹德州;侯胜锟
  • 2015-12-11 - 2016-04-20 - B60R1/08
  • 本实用新型属于车辆配件技术领域,具体涉及一种外后视镜及使用该外后视镜的车辆,包括反光和壳体;所述反光由第一反光和第二反光组成,所述第一反光和第二反光沿竖直方向上下设置于所述壳体内;驱动机构,位于反光与壳体之间形成的空腔内,分别与第一反光、第二反光连接,并驱动第一反光、第二反光在所述壳体内转动;所述第一反光和第二反光均为凸面,所述第一反光和第二反光的曲率半径相同。
  • 一种后视镜使用车辆
  • [实用新型]一种三轴检校仪-CN201420420546.8有效
  • 周磊;陈杰;李家容;高秉忠;李道昌 - 中船重工中南装备有限责任公司
  • 2014-07-29 - 2014-11-26 - G02B7/00
  • 一种三轴检校仪,其由抛物面反光固定架、平面反光固定架、分划板固定架和产品固定装置及升降机构组成,抛物面反光固定架、平面反光固定架、分划板固定架组分别包括多个抛物面反光固定架、平面反光固定架、分划板固定架,抛物面反光固定到抛物面反光固定架上,平面反光固定到平面反光固定架上,分划板固定到分划板固定架上,抛物面反光、平面反光与分划板组组成多组离轴反射式平行光管,在产品固定装置及升降机构上设置调整机构
  • 一种三轴检校仪
  • [实用新型]新型全站仪光学系统-CN200920252023.6无效
  • 计国安;王静梅 - 天津欧波精密仪器股份有限公司
  • 2009-12-28 - 2010-08-25 - G02B7/182
  • 新型全站仪光学系统,包括分划板、调焦、发光管、内光路转像、物镜,还包括分光反光,柱面反光和分叉光纤;其中,分划板、调焦、分光、物镜处在同一光轴上,调焦在分划板和物镜组组之间,分光处于物镜和调焦之间,反光放在发光管和柱面反光光路的交点上,调整反光的角度即可将发光管发射的光反射到柱面反光上,柱面反光处于分光和物镜之间,发光管、内光路转像反光处于同一光轴上,内光路转像设置于发光管的前面,分叉光纤的一端与内光路转像连接,另一端与柱面反光连接。
  • 新型全站仪光学系统
  • [发明专利]一种外后视镜及车辆使用该外后视镜的调节方法-CN201510919683.5在审
  • 曹德州;侯胜锟 - 曹德州;侯胜锟
  • 2015-12-11 - 2016-03-23 - B60R1/08
  • 本发明属于车辆配件技术领域,具体涉及一种外后视镜及车辆使用该外后视镜的调节方法,包括反光和壳体;所述反光由第一反光和第二反光组成,所述第一反光和第二反光沿竖直方向上下设置于所述壳体内;驱动机构,位于反光与壳体之间形成的空腔内,分别与第一反光、第二反光连接,并驱动第一反光、第二反光在所述壳体内转动;所述第一反光和第二反光均为凸面,所述第一反光和第二反光的曲率半径相同。
  • 一种后视镜车辆使用调节方法
  • [发明专利]一种冷光源曝光机-CN202011192267.7在审
  • 李健儿;冯永;胡仲波;敬春云;宋勇;王一超;李慕轩 - 四川上特科技有限公司
  • 2020-10-30 - 2021-01-05 - G03F7/20
  • 一种冷光源曝光机,包括支架、载片台、曝光机构和竖向调节机构,载片台水平固定于支架的下端,竖向调节机构用于调节曝光机构的高度,曝光机构包括紫外灯源、多面反光、机械快门和罩壳,多面反光均置于罩壳内,多面包括若干呈环形均匀紧密布置的反光片,紫外灯源置于多面的中心点位置处,反光包括第一反光和第二反光,第一反光与第二反光平行对峙布置、并与水平方向呈夹角45°布置,第一反光置于紫外灯源正下方,机械快门横置于第一反光和第二反光之间,第二反光正下方还设有准直
  • 一种光源曝光
  • [实用新型]一种冷光源曝光机-CN202022484676.6有效
  • 李健儿;冯永;胡仲波;敬春云;宋勇;王一超;李慕轩 - 四川上特科技有限公司
  • 2020-10-30 - 2021-06-15 - G03F7/20
  • 一种冷光源曝光机,包括支架、载片台、曝光机构和竖向调节机构,载片台水平固定于支架的下端,竖向调节机构用于调节曝光机构的高度,曝光机构包括紫外灯源、多面反光、机械快门和罩壳,多面反光均置于罩壳内,多面包括若干呈环形均匀紧密布置的反光片,紫外灯源置于多面的中心点位置处,反光包括第一反光和第二反光,第一反光与第二反光平行对峙布置、并与水平方向呈夹角45°布置,第一反光置于紫外灯源正下方,机械快门横置于第一反光和第二反光之间,第二反光正下方还设有准直
  • 一种光源曝光
  • [发明专利]一种高清晰度投影仪装置-CN02160103.8无效
  • 王旭华;陈用威 - 陈用威
  • 2002-12-31 - 2004-07-21 - G01B9/08
  • 由光源、聚光、45度反光、平面反光、大物镜、场、小物镜、主反光和副主反光、投影屏和装持所述的光源、聚光的套筒、装持45度反光、大物镜、场、小物镜的套筒和装持主反光和副主反光、投影屏的投影屏箱组成,平面反光为凹面聚光反光反光的中部有一通孔。本发明的优点是:照射在凹面聚光反光的光线被聚光于45度反光,由于45度反光中心位置的通孔,使被测工件(刀具)通过大物镜组成象于投影屏过程中,避免和消除了现有技术(45度反光无通孔)所带来的玻璃折射的光学象差和色差
  • 一种清晰度投影仪装置
  • [实用新型]一种高清晰度投影仪装置-CN02295587.9无效
  • 王旭华;陈用威 - 陈用威
  • 2002-12-31 - 2003-12-10 - G01B9/08
  • 由光源、聚光、45度反光、平面反光、大物镜、场、小物镜、主反光和付主反光、投影屏和装持所述的光源、聚光的套筒、装持45度反光、大物镜、场、小物镜的套筒和装持主反光和付主反光、投影屏的投影屏箱组成,平面反光为凹面聚光反光反光的中部有一通孔。本实用新型的优点是:照射在凹面聚光反光的光线被聚光于45度反光,由于45度反光中心位置的通孔,使被测工件(刀具)通过大物镜组成象于投影屏过程中,避免和消除了现有技术(45度反光无通孔)所带来的玻璃折射的光学象差和色差
  • 一种清晰度投影仪装置
  • [发明专利]用传感器控制反射方向的定日装置-CN200980158900.6无效
  • 王成伟;王智鸣 - 王成伟;王智鸣
  • 2009-12-17 - 2012-04-11 - F24J2/38
  • 一种定日装置,包括:反光,使正面的反光面对太阳;仰角调整机构,围绕水平轴转动并被控制以调整反光的仰角;方位角调整机构,围绕垂直轴转动并被控制以调整反光的方位角;定位传感器,面向反光,并输出仰角和方位角控制信号以控制反光的反射光方向;立柱,固定地竖立于地面上并在反光的背面整体支撑反光、仰角调整机构和方位角调整机构,支杆穿过中心反光下方的空隙,定位传感器安装在支杆的一端,支杆另一端固定到立柱,使定位传感器突伸到中心反光前方,从而控制并保持在太阳转动的过程中反射的反射光能都落在集热器的靶心。
  • 传感器控制反射方向定日装置
  • [实用新型]一种超短焦双反射虚拟现实投影显示装置-CN202222986428.0有效
  • 闫文忠;陈晨;陈建兵;杨剑;郭星 - 锐映科技(苏州)有限公司
  • 2022-11-10 - 2023-04-25 - G03B21/28
  • 本实用新型公开了一种超短焦双反射虚拟现实投影显示装置,包括框架,框架的内部固定有左侧投设备、右侧投设备、顶投设备和正投设备,框架的内部固定有左双反光、右双反光、顶反光和正双反光。以右双反光为例,右反光一,右反光一的一侧设置有右反光二,框架远离右反光二的一侧内部固定有右投影幕。本实用新型通过设置的双反光,利用投影设备发出影像经过反光一反射到反光二上,反光二对影像进行二次反射到投影幕上,使得虚拟现实投影显示装置在光程不变的情况下减小了整体占用的场地,进而使得虚拟现实投影显示装置在小场地能够进行使用
  • 一种超短反射虚拟现实投影显示装置
  • [实用新型]平面反射式复眼冷光源曝光系统-CN200820058370.0无效
  • 张岳方 - 上海学泽光学机械有限公司
  • 2008-05-14 - 2009-02-04 - G03F7/20
  • 包括:灯源、多面组装置、反光、曝光装置等,其特征在于,多面组装置,包括上层座、下层座,上层座紧密叠合于下层座上;上层座包括:上盘、上镜片压圈、上盘反光片,上镜片压圈置于上盘、上盘反光片之间,上盘反光片依次紧密环行成圈放列于上盘内;下层座结构类似上层座。反光包括:小反光、大反光,小反光、大反光平行对峙放置,并与水平夹角为45°。本实用新型提出了多层反射的位置排列,大大提高了曝光均匀性,并拓展为更大的曝光面积。
  • 平面反射复眼光源曝光系统
  • [实用新型]一种带稿演讲辅助装置-CN202022482218.9有效
  • 汤相花 - 汤相花
  • 2020-10-30 - 2021-04-23 - G02B17/06
  • 本实用新型公开了一种带稿演讲辅助装置,包括:底板、第一反光、第二反光、第一支架、第二支架;所述底板为扁平状长方体结构,上表面一侧并列设置有所述第一、第二支架;所述第一、第二支架分别水平安装有所述第一反光和所述第二反光;所述第一反光安装于靠近阅读者一侧,所述第二反光安装于远离阅读者一侧;支架与反光之间通过转轴连接,可相对转动,且转轴处安装有旋转阻尼结构;所述第一反光为平面,所述第二反光为凹面;本实用新型优点在于,采用平面反射及凹面放大的原理,通过调节其相对位置和角度,改善低头角度,且结构简单,便于小型化、隐形化处理。
  • 一种演讲辅助装置
  • [发明专利]平面反射式复眼冷光源曝光系统及其光刻机-CN200810037366.0无效
  • 张岳方 - 上海学泽光学机械有限公司
  • 2008-05-14 - 2009-01-21 - G02B27/00
  • 包括:灯源、多面组装置、反光、曝光装置等,其特征在于,多面组装置,包括上层座、下层座,上层座紧密叠合于下层座上;上层座包括:上盘、上镜片压圈、上盘反光片,上镜片压圈置于上盘、上盘反光片之间,上盘反光片依次紧密环行成圈放列于上盘内;下层座结构类似上层座。反光包括:小反光、大反光,小反光、大反光平行对峙放置,并与水平夹角为45°。一种光刻机,其特征在于,包括所述的带有平面反射式复眼冷光源曝光系统。本发明提出了多层反射的位置排列,大大提高了曝光均匀性,并拓展为更大的曝光面积。
  • 平面反射复眼光源曝光系统及其光刻

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