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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]原子层沉积方法及其结构-CN201610900912.3有效
发明人：李欣怡;蔡承晏;李达元 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2016-10-17 - 公布日： 2021-07-23 - 主分类号： H01L21/28 文献下载
摘要：一种用于提供(例如，功函层的)预沉积处理以完成功函调整的方法和结构。在各个实施例中，在衬底上方形成栅极介电层以及在栅极介电层上方沉积功函金属层。之后，实施功函金属层的基于氟的处理，其中，基于氟的处理从功函金属层的顶面去除氧化层以形成处理的功函金属层。在一些实施例中，在实施基于氟的处理之后，在处理的功函金属层上方沉积另一金属层。本发明实施例涉及原子层沉积方法及其结构。
原子沉积方法及其结构

[发明专利]原子层沉积方法及其结构-CN201610903179.0有效
发明人：李欣怡;蔡承晏;李达元 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2016-10-17 - 公布日： 2020-04-07 - 主分类号： H01L21/28 文献下载
摘要：一种提供(例如，功函层的)预沉积处理以完成功函调整的方法和结构。在各个实施例中，在衬底上方形成栅极介电层，以及在栅极介电层上方沉积功函金属层。功函金属层具有第一厚度。然后，可以实施功函金属层的预处理工艺，其中，预处理工艺从功函金属层的顶面去除被氧化层以形成处理的功函金属层。处理的功函金属层具有小于第一厚度的第二厚度。在各个实施例中，在实施预处理工艺之后，在处理的功函金属层上方沉积另一金属层。本发明实施例涉及原子层沉积方法及其结构。
原子沉积方法及其结构

[发明专利]钨材料的原子层沉积-CN200810099485.9有效
发明人：阿米特·卡恩德尔沃尔;马德赫·穆特;阿维格尼诺斯·V·格拉托斯;吴凯 -专利权人：应用材料股份有限公司
申请日： 2008-05-15 - 公布日： 2008-11-19 - 主分类号： H01L21/3205 文献下载
摘要：本发明的实施方式提供一种用于沉积含钨材料的改进工艺。该工艺应用浸泡工艺和气相沉积工艺，诸如原子层沉积(ALD)以提供具有显著改善表面均匀性以及产量的含钨材料。在一个实施方式中，提供一种用于在衬底上形成含钨材料的方法，该方法包括在工艺腔室内放置衬底，其中该衬底包含沉积在其上的下覆层，在原子层沉积工艺期间将衬底顺序暴露于钨前驱物和还原气体以在下覆层上沉积钨成核层，其中还原气体包括约40∶1、100∶1、500∶1、800∶1、1000∶1或以上的氢气/氢化物流速比，以及在钨成核层上沉积钨块层。
材料原子沉积

[发明专利]用于原子层沉积的设备-CN200410081873.6有效
发明人： F·詹森 -专利权人：波克股份有限公司
申请日： 2004-12-31 - 公布日： 2005-07-27 - 主分类号： C23C16/54 文献下载
摘要：一种捕集器，其停留时间至少等于原子层沉积(ALD)过程的一个完整周期时间，这种捕集器能在流出物进入前级泵之前从反应腔和反应产物中捕集气相流出物。这种捕集器在用于原子层沉积过程中时很有益处。
用于原子沉积设备

[发明专利]原子层沉积设备及方法-CN201811509781.1有效
发明人：纪红;史小平;兰云峰;赵雷超;秦海丰;张文强 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2018-12-11 - 公布日： 2022-05-27 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明提供的原子层沉积设备，包括：第一稀释气路、第一前驱体气路以及第一主路，其中，第一前驱体气路的进气端连接第一前驱体源，第一前驱体气路的出气端连接第一主路的进气端，且第一前驱体气路与第一主路选择性连通，限制输送至反应腔室的第一前驱气体流量，当第一前驱气体为高蒸汽压前驱体时，有效降低输送至反应腔室的第一前驱气体流量，以在后续第一吹扫步骤中，无需延长吹扫时长，即能将反应腔室中的第一前驱体彻底吹扫，提高沉积均匀性
原子沉积设备方法

[发明专利]微粒的原子层沉积装置-CN202011280464.4有效
发明人：林俊成;张容华;古家诚;郭大豪 -专利权人：鑫天虹(厦门)科技有限公司
申请日： 2020-11-16 - 公布日： 2022-05-27 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明提供一种微粒的原子层沉积装置，主要包括一真空腔体、一轴封装置及一驱动单元，其中驱动单元经由轴封装置连接并驱动真空腔体转动。一抽气管线及一进气管线流体连接真空腔体，其中进气管线用以将前驱物气体及非反应气体输送至反应空间，配合反应空间的特殊形状，可通过非反应气体有效翻搅反应空间内的微粒，以利于通过原子层沉积制程在微粒的表面形成厚度均匀的薄膜
微粒原子沉积装置

[发明专利]粉末的原子层沉积装置-CN202011285337.3有效
发明人：林俊成;张容华;古家诚 -专利权人：鑫天虹(厦门)科技有限公司
申请日： 2020-11-17 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明提供一种粉末的原子层沉积装置，主要包括一真空腔体、一轴封装置及一驱动单元。轴封装置包括一外管体及一内管体，其中内管体由外管体的容置空间延伸至真空腔体的反应空间，并在反应空间内形成一凸出管部。
粉末原子沉积装置

[发明专利]原子层沉积反应设备-CN03109510.0无效
发明人：李在喆;任昶彬;韩贵暎 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2003-04-08 - 公布日： 2004-01-21 - 主分类号： C23C26/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种原子层沉积(ALD)反应设备。该提供的设备可通过维持反应气体的压力和流量来在样品上沉积均匀原子层，并同时沉积和分析原子层。
原子沉积反应设备

[发明专利]批量式原子层沉积设备-CN03102513.7无效
发明人：权赫晋 -专利权人：海力士半导体有限公司
申请日： 2003-02-09 - 公布日： 2003-11-26 - 主分类号： H01L21/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种批量式原子层沉积设备，其可以在防止片电阻的均匀性下降的同时增大产量。本发明的原子层沉积设备包括：腔内的旋转托盘，其中，多个晶片位于该旋转托盘上距该旋转托盘中心相同的距离；气体注入装置，其面对该旋转托盘中心处的上表面；以及，能根据位置控制晶片的温度的加热板，其中，该加热板被安装在该底板上
批量原子沉积设备

[发明专利]原子层沉积方法和设备-CN200410102394.8无效
发明人： F·詹森 -专利权人：波克股份有限公司
申请日： 2004-11-15 - 公布日： 2005-06-08 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明描述了一种原子层沉积设备和方法，其中在气压梯度下而无泵送的作用下将前体气体被输送到反应室中。
原子沉积方法设备

[实用新型]原子层沉积室及其部件-CN200820136183.X有效
发明人：迪-业·吴;舒伯特·S·楚;保罗·马;杰弗里·托宾 -专利权人：应用材料股份有限公司
申请日： 2008-09-28 - 公布日： 2009-12-23 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种原子层沉积室，其包括气体分配器，该气体分配器包括在气体入口和气体出口之间具有圆锥形通路的中心覆盖。气体分配器还具有包括连接着的第一和第二圆锥形孔的吊线板。
原子沉积及其部件

[实用新型]原子层沉积密封装置-CN202020670122.2有效
发明人：李哲峰;乌磊;郑文岸;张光海 -专利权人：深圳市原速光电科技有限公司
申请日： 2020-04-27 - 公布日： 2021-01-12 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本实用新型公开一种原子层沉积密封装置，原子层沉积密封装置包括箱体和弧形盖体，箱体上设有放物口，弧形盖体与箱体转动连接，具有开启状态和关闭状态，当弧形盖体处于开启状态时，放物口与外界连通。本实用新型用于解决现有原子层沉积密封装置的开合门容易产生形变的技术问题。
原子沉积密封装置

[实用新型]原子层沉积涂布设备-CN201920595578.4有效
发明人：廖世文 -专利权人：位速科技股份有限公司
申请日： 2019-04-28 - 公布日： 2020-02-21 - 主分类号： C23C16/46 文献下载
摘要：本实用新型揭露一种原子层沉积涂布设备，主要包括有一固定框架、至少一气体供应模组、一移载模组、复数个加热抽气箱，以及一控制模组；藉此，本实用新型的原子层沉积涂布设备主要藉由移载模组与加热抽气箱的硬体设计，涂布作业可分区加热，有效提供原子层沉积的软性基板的良好定位控制与最佳化的环境温度管理，以利于软性基板的化学沉积反应的高温作业，确实维持基板特性不变质、提升传送基板的平稳性与精准度，以及提供良好区段式的反应区域加热作业等主要优势
原子沉积布设

[实用新型]夹具及原子层沉积装置-CN201920531969.X有效
发明人：张琦忠;袁陨来;王建波;朱琛;吕俊 -专利权人：泰州隆基乐叶光伏科技有限公司
申请日： 2019-04-18 - 公布日： 2020-05-19 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本申请公开了一种夹具及原子层沉积装置，夹具包括相对设置的两块侧板，两块侧板之间设置有两块相对设置的端板，两块端板和两块侧板围合成两端开口的容腔，端板可移动地固定连接有活动板，活动板的移动方向为靠近或者远离任一侧板；原子层沉积装置包括真空腔，真空腔内设置有样品台，真空腔分别连接有真空泵、第一气体喷射部、第二气体喷射部以及第三气体喷射部，样品台用于放置夹具，通过夹具固定电池片，将电池片切割部分从容腔的开口露出，侧板和端板保护电池片未切割部分，对电池片的切割部分进行原子层沉积，在电池片的切割部分形成钝化膜，提升切割后电池片的电性能，修复电池片由于切割造成的损伤。
夹具原子沉积装置

[实用新型]粉末的原子层沉积装置-CN202022656808.9有效
发明人：林俊成;张容华;古家诚 -专利权人：鑫天虹(厦门)科技有限公司
申请日： 2020-11-17 - 公布日： 2021-09-14 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本实用新型提供一种粉末的原子层沉积装置，主要包括一真空腔体、一轴封装置及一驱动单元。轴封装置包括一外管体及一内管体，其中内管体由外管体的容置空间延伸至真空腔体的反应空间，并在反应空间内形成一凸出管部。
粉末原子沉积装置

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