专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种可注入式染色-CN201220388874.5有效
  • 宗建伟;杨雨华;杨风岭;梁亚红 - 平顶山学院
  • 2012-07-31 - 2013-02-20 - G01N1/31
  • 本实用新型公开了一种可注入式染色缸,属于化学器具领域。染色缸上部侧面有一带磨砂口盖的玻璃管,玻璃管伸入染色缸内;染色缸内设有玻璃挡板且在底部留有出口,染色缸底部玻璃管相对面连有带活塞的玻璃管。提供的染色缸更换液体时无需打开盖。注入液体时,打开染色缸磨砂口盖,通过注射器沿着染色缸侧面的玻璃管将染液沿着玻璃挡板缓缓从底部出口注入染色缸,液体注入完毕后即可盖上磨砂口盖,如需放液可开启玻璃管相对面的下方玻璃活塞。
  • 一种注入染色
  • [发明专利]一种标记纺织基材的方法-CN201480021436.7在审
  • M·范德克兰;D·O·特拉姆比塔斯;I·G·扬;G·F·武尔莱 - 费伊肯开发与实施有限公司
  • 2014-02-25 - 2016-02-03 - D06P1/00
  • 本发明涉及标记已使用超临界染色方法染色的纺织产品。更具体地,本发明提供了一种使用示踪剂标记纺织基材的方法,该方法包括将纺织基材与超临界或近临界的染色介质接触,所述染色介质含有染料和示踪剂,所述示踪剂选自金属螯合物和化学发光剂。本发明的方法使用超临界或近临界的染色介质作为媒介将示踪剂沉积到还使用此介质染色的纺织基材上。染色的纺织品上沉积的示踪剂的存在可以用简单可靠的验证方法进行检测。本发明还提供了一种染色组合物,该染色组合物既能在前述方法中使用,也可以用来验证使用其方法标记的纺织产品。
  • 一种标记纺织基材方法
  • [发明专利]—种化学纤维纺织品用印染机-CN202110738505.8在审
  • 孙冶;钱子岑 - 孙冶
  • 2021-06-30 - 2021-09-21 - D06B3/12
  • 本发明涉及纺织设备技术领域,具体为—种化学纤维纺织品用印染机,包括纺织面料和与纺织面料相互配合的印染机,印染机包括机架,机架一端的顶壁上固定安装有染色箱,染色箱内设置有相互独立的第一染色池和第二染色池,机架的顶端安装有顶板,顶板的顶壁上对称安装有两个气缸,两个气缸的输出端均固定连接有安装板,且两个安装板分别位于第一染色池和第二染色池的上侧。本发明通过将纺织面料交替压入第一染色池和第二染色池内就可以对染色池内的染色液进行更换,结构简单,操作方便,不仅降低了印染机的制造和使用成本,而且由于更换染色液时无需停止染色进程而显著地提升了印染机的加工速率,从而适用于大批量的布料染色
  • 化学纤维纺织品用印
  • [发明专利]一种纺织面料活性染料同浴染色工艺-CN202310240864.X在审
  • 童忠义;王腾飞;王金成;陶文英;张小军 - 湖北富春染织有限公司
  • 2023-03-14 - 2023-05-30 - D06P1/38
  • 本申请涉及纺织面料染色设备技术领域,公开了一种纺织面料活性染料同浴染色工艺,包括如下染色工艺步骤:S1、染色前的准备,对纺织面料进行清洗,S2、启动溢流染色机,在室温下依次将染料加入软水剂、纯碱和食盐加入需要染色的染料中,并混合均匀进行常温下染色,S3、在60℃,对染色机内的纺织面料持续染色20‑25min;S4将通过换热器的染料提温到80℃染色10min,再向染料中加入活性染料并混匀。通过活性染料在高温时加入染色,对纺织面料自身的质量差异引起的深浅色差具有很好的遮盖性,提高匀染效果,并且而且,在80℃的常温条件下染色,具有良好的化学稳定性,避免在碱性浴中染色,因染料水解而产生得色量下降
  • 一种纺织面料活性染料染色工艺
  • [发明专利]硅衬底上硅外延层厚度的测量方法-CN202010140304.3在审
  • 华佑南;李晓旻 - 胜科纳米(苏州)有限公司
  • 2020-03-03 - 2020-06-19 - H01L21/66
  • 本发明涉及半导体技术领域,尤其涉及硅衬底上硅外延层厚度的测量方法,制备晶片样品的横截面和利用染色技术对硅衬底染色来区分硅衬底本体和硅外延层;所述染色技术应用的染色溶液由质量浓度为69%的硝酸与质量浓度为49%的氢氟酸按体积比为20:1配置而成和染色的时间为3‑5秒。本发明提供的硅衬底上硅外延层厚度的测量方法,为了在晶片样品的横截面上把硅外延层和硅衬底本体明显区分,使用本发明提供的化学染色技术对样品进行染色,达到了检测硅外延层厚度的目的。
  • 衬底外延厚度测量方法

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