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[发明专利]一种多真空室电子束焊接设备-CN201810157088.6在审
发明人：李生智;谯永鹏;张维;李文明 -专利权人：沈阳富创精密设备有限公司
申请日： 2018-02-24 - 公布日： 2018-07-20 - 主分类号： B23K15/06 文献下载
摘要：本发明公开一种多真空室电子束焊接设备，包括主真空室和多个副真空室；在主真空室外壁上焊接有多个副真空室；副真空室与主真空室贯穿连接，通过密封隔板隔断；副真空室与主真空室连接设有机械传动托盘；副真空室设有真空舱门，上部设有副抽真空系统；主真空室内顶部设有电子枪，电子枪在真空室内可以往复滑动，主真空室还与主抽真空系统连接。通过多真空室设计，使焊接真空室始终保持真空状态，随时处于可焊接状态，零件的拆卸与装夹在副真空室内进行，副真空室尺寸依据零件尺寸决定并远小于焊接真空室尺寸，并可根据焊接节拍设定副真空室的数量。以起到提高真空电子束的焊接效率。
副真空室主真空室焊接多真空室电子束焊接设备抽真空系统电子枪真空室主真空室内真空电子束尺寸决定焊接效率机械传动节拍设定密封隔板室内顶部往复滑动真空舱门真空状态托盘可焊接隔断拆卸装夹室外贯穿

[实用新型]一种大小件双工位新型双室离子束抛光设备-CN202020687288.5有效
发明人：陈永富;丁杰;陶尚 -专利权人：长沙埃福思科技有限公司
申请日： 2020-04-29 - 公布日： 2020-12-15 - 主分类号： H01J37/20 文献下载
摘要：本实用新型涉及真空环境离子束修形加工技术领域，具体地说，涉及一种大小件双工位新型双室离子束抛光设备，包括主真空室和设置于主真空室一侧的副真空室，主真空室内设置有离子源，副真空室与主真空室之间设置有插板阀，副真空室的一侧外壁设置有副真空室仓门，主真空室的一侧外壁设置有主真空室仓门。本实用新型的设计采用较小的副真空室和插板阀，小工件的加工工位设置于副真空室内，当需要加工大工件时，大工件直接从主真空室的仓门进行装卸，而不通过副真空室，此种方式可以将主真空室做得足够大以便加工很大尺寸的工件，同时副真空室又足够小，仍然可以在短时间抽到真空，从而保持了加工小尺寸工件的操作效率。
一种小件双工新型离子束抛光设备

[实用新型]一种带插板阀的紧凑型真空室结构及离子束加工系统-CN201920760966.3有效
发明人：陶尚;其他发明人请求不公开姓名 -专利权人：长沙埃福思科技有限公司
申请日： 2019-05-24 - 公布日： 2020-02-21 - 主分类号： H01J37/18 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种带插板阀的紧凑型真空室结构，包括插板阀、主真空室和副真空室，所述插板阀设在主真空室和副真空室之间用于控制二者通断，所述主真空室和副真空室与插板阀相对的侧壁上开设有供工件传送通过的通孔，所述通孔周围设有主真空室和/或副真空室的侧壁连接部，所述主真空室和/或副真空室与插板阀之间不设置连接法兰，所述主真空室和/或副真空室通过侧壁连接部直接与插板阀固接。本实用新型还公开了一种离子束加工系统，所述离子束加工系统采用了上述的带插板阀的紧凑型真空室结构。本实用新型的真空室结构和离子束加工系统具有连接距离较短、成本低、结构紧凑、外形简洁美观等优点。
一种插板紧凑型真空结构离子束加工系统

[实用新型]一种磁控溅射镀膜仪换样装置-CN201922160701.2有效
发明人：马毅;黄先伟;宋宇轩;俞越翎;谢续友;吴伊帆;张泰华 -专利权人：浙江工业大学
申请日： 2019-12-05 - 公布日： 2020-07-14 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种磁控溅射镀膜仪换样装置，包括真空室主腔及真空室副腔，所述真空室主腔与真空室副腔之间中间腔室，所述中间腔室分别与真空室主腔与真空室副腔相连通，所述中间腔室内部设有导轨，所述导轨上配合设置导轨小车，所述导轨小车上设有基片储备盘，所述基片储备盘上沿其周向设有一组基片架，基片架上设有基片；所述导轨小车在导轨上水平移动，从而将基片架在真空室主腔与真空室副腔之间进行转移，进而实现基片的转移。本实用新型的有益效果是：通过设置中间腔室，并设置导轨及导轨小车，从而实现基片在真空室副腔和真空室主腔之间的快速高效转移，节省成本，缩减真空室空间。
一种磁控溅射镀膜换样装置

[发明专利]三工位循环离子束抛光装置及加工方法-CN201610705265.0在审
发明人：邓翔宇 -专利权人：成都森蓝光学仪器有限公司
申请日： 2016-08-23 - 公布日： 2017-02-22 - 主分类号： B24B13/00 文献下载
摘要：抛光装置包括主真空室、主真空室门、矩形阀、推车、副真空室、副真空室门，主真空室中设有通向副真空室的主室导轨；副真空室为矩形，长度为三个工位，其长度方向与主室导轨垂直，并在该方向上设有副室导轨；副室导轨上设有工位移动平台，工位移动平台上设有与主室导轨衔接的左车导轨和右车导轨；左车导轨上设有左工件移动车及左夹具，右车导轨上设有右工件移动车及右夹具。本发明使得多块工件能够循环加工，主真空室可以连续不断的进行抛光加工，实现工件的连续换料、送料操作，大大提升了离子束抛光加工效率。
三工位循环离子束抛光装置加工方法

[发明专利]三工位循环离子束抛光装置及加工方法-CN201510529284.8无效
发明人：施春燕 -专利权人：成都森蓝光学仪器有限公司
申请日： 2015-08-26 - 公布日： 2015-11-25 - 主分类号： B24B13/00 文献下载
摘要：抛光装置包括主真空室、主真空室门、矩形阀、推车、副真空室、副真空室门，主真空室中设有通向副真空室的主室导轨；副真空室为矩形，长度为三个工位，其长度方向与主室导轨垂直，并在该方向上设有副室导轨；副室导轨上设有工位移动平台，工位移动平台上设有与主室导轨衔接的左车导轨和右车导轨；左车导轨上设有左工件移动车及左夹具，右车导轨上设有右工件移动车及右夹具。本发明使得多块工件能够循环加工，主真空室可以连续不断的进行抛光加工，实现工件的连续换料、送料操作，大大提升了离子束抛光加工效率。
三工位循环离子束抛光装置加工方法

[发明专利]高压电源快速切换方法和快速切换高压开关-CN201110157083.1有效
发明人：苏肄鹏 -专利权人：苏肄鹏
申请日： 2011-06-13 - 公布日： 2011-11-23 - 主分类号： H01H33/66 文献下载
摘要：本发明公开了一种高压电源快速切换方法，在同一壳体内设有用于通断主电源的主真空灭弧室、用于带动主真空灭弧室中动触头移动的主脱扣机构、用于通断副电源的副真空灭弧室、用于带动副真空灭弧室中动触头移动的副脱扣机构、连锁机构、和驱动机构；所述驱动机构通过连锁机构同步带动主脱扣机构及副脱扣机构进行脱扣动作。该快速切换高压开关包括主电源接线柱、副电源接线柱、出线柱、切换操作机构、与主电源接线柱电连接的主真空灭弧室、用于带动主真空灭弧室中动触头移动的主脱扣机构、与副电源接线柱电连接的副真空真空灭弧室、和用于带动副真空灭弧室中动触头移动的副脱扣机构
高压电源快速切换方法高压开关

[实用新型]一种单晶炉副室抽真空装置-CN201120226116.9有效
发明人：韩曙波 -专利权人：常州天合光能有限公司
申请日： 2011-06-30 - 公布日： 2012-03-14 - 主分类号： C30B15/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及单晶炉设备领域，特别是一种单晶炉副室抽真空装置。其包括副室手动阀和副室泵，副室泵通过副室手动阀与副室连接，对副室进行抽真空，副室手动阀为定点手动阀。
一种单晶炉副室抽真空装置

[实用新型]能及时排屑的微球涂层装置-CN201921584620.9有效
发明人：周新光 -专利权人：苏州市亚摩斯纺织涂层整理有限公司
申请日： 2019-09-23 - 公布日： 2020-06-30 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种能及时排屑的微球涂层装置，所述真空室内设置有磁控靶枪；所述副真空室设置在真空室的底部，所述副真空室上设置有真空管，所述真空管和副真空室连通；所述环形体呈漏斗状，且位于真空室内，所述排屑轴设置在环形体的底部，且中空，所述排屑轴连通真空室和副真空室，所述环形体驱动源设置在副真空室外部，且其自由端与排屑轴连接；所述内转台驱动源设置在副真空室的底部，所述转轴设置在内转台驱动源的自由端，所述内转台设置在转轴的顶部
及时涂层装置

[发明专利]一种高压电源快速切换方法-CN201510170426.6在审
发明人：不公告发明人 -专利权人：钱秀英
申请日： 2011-06-13 - 公布日： 2015-09-02 - 主分类号： H01H33/66 文献下载
摘要：本发明公开了一种高压电源快速切换方法，在同一壳体内设有用于通断主电源的主真空灭弧室、用于带动主真空灭弧室中动触头移动的主脱扣机构、用于通断副电源的副真空灭弧室、用于带动副真空灭弧室中动触头移动的副脱扣机构、连锁机构、和驱动机构；所述驱动机构通过连锁机构同步带动主脱扣机构及副脱扣机构进行脱扣动作；所述主真空灭弧室和副真空灭弧室处于同一直线上且互为对称设置，所述主脱扣机构和副脱扣机构也互为对称设置；所述驱动机构通过一杠杆机构驱动连锁机构动作
一种高压电源快速切换方法

[发明专利]一种新型油墨结晶生长炉的水平机构-CN201110258532.1无效
发明人：周小燕 -专利权人：周小燕
申请日： 2011-09-03 - 公布日： 2013-03-20 - 主分类号： B01D9/02 文献下载
摘要：一种新型油墨结晶生长炉的水平机构，它涉及机械加工制造领域；它包含上法兰（1）、小副室（2）、调整杆（3）、副真空接口（4）、真空接口（5）、压气接口（6）、下法兰（7）和分流环（8）；上法兰（1）安装在小副室（2）和调整杆（3）的上端，小副室（2）和调整杆（3）的下端与下法兰（7）相连，调整杆（3）设置在小副室（2）的两边，副真空接口（4）安装在小副室（2）的中部，真空接口（5）安装在小副室（2）的一侧，压气接口
一种新型油墨结晶生长水平机构

[实用新型]一种新型油墨结晶生长炉的水平机构-CN201120328327.3有效
发明人：周小燕 -专利权人：周小燕
申请日： 2011-09-03 - 公布日： 2012-06-20 - 主分类号： B01D9/02 文献下载
摘要：一种新型油墨结晶生长炉的水平机构，它涉及机械加工制造领域；它包含上法兰（1）、小副室（2）、调整杆（3）、副真空接口（4）、真空接口（5）、压气接口（6）、下法兰（7）和分流环（8）；上法兰（1）安装在小副室（2）和调整杆（3）的上端，小副室（2）和调整杆（3）的下端与下法兰（7）相连，调整杆（3）设置在小副室（2）的两边，副真空接口（4）安装在小副室（2）的中部，真空接口（5）安装在小副室（2）的一侧，压气接口
一种新型油墨结晶生长水平机构

[发明专利]高压电源快速切换方法-CN201510169777.5在审
发明人：不公告发明人 -专利权人：钱秀英
申请日： 2011-06-13 - 公布日： 2015-09-02 - 主分类号： H01H33/66 文献下载
摘要：本发明公开了一种高压电源快速切换方法，在同一壳体内设有用于通断主电源的主真空灭弧室、用于带动主真空灭弧室中动触头移动的主脱扣机构、用于通断副电源的副真空灭弧室、用于带动副真空灭弧室中动触头移动的副脱扣机构、连锁机构、和驱动机构；所述驱动机构通过连锁机构同步带动主脱扣机构及副脱扣机构进行脱扣动作。
高压电源快速切换方法

[发明专利]双真空室离子束修形加工系统及修形加工方法-CN201811261305.2在审
发明人：不公告发明人 -专利权人：长沙埃福思科技有限公司
申请日： 2018-10-26 - 公布日： 2019-01-18 - 主分类号： H01J37/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种双真空室离子束修形加工系统和修形加工方法，该加工系统包括可相互连通的主真空室和副真空室，主真空室中设有离子源以及用于带动离子源运动的离子源运动机构，副真空室中设置有工件的加工工位，加工工位上设置有在加工时用于固定工件的夹具；副真空室沿离子源的离子束照射方向布置且加工工位在离子源照射范围内。本发明不必配置专用的真空传送装置将工件传送到主真空室的加工工位上，节约了成本，提高了稳定性。
加工工位离子源副真空室主真空室离子束修形加工双真空室修形加工夹具真空传送装置离子束照射离子源照射固定工件加工系统运动机构专用的连通节约配置

[实用新型]双真空室离子束修形加工系统-CN201821754806.X有效
发明人：不公告发明人 -专利权人：长沙埃福思科技有限公司
申请日： 2018-10-26 - 公布日： 2019-04-26 - 主分类号： H01J37/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种双真空室离子束修形加工系统，该加工系统包括可相互连通的主真空室和副真空室，主真空室中设有离子源以及用于带动离子源运动的离子源运动机构，副真空室中设置有工件的加工工位，加工工位上设置有在加工时用于固定工件的夹具；副真空室沿离子源的离子束照射方向布置且加工工位在离子源照射范围内。本实用新型不必配置专用的真空传送装置将工件传送到主真空室的加工工位上，节约了成本，提高了稳定性。
加工工位离子源副真空室主真空室离子束修形加工本实用新型双真空室夹具真空传送装置离子束照射离子源照射固定工件加工系统运动机构专用的连通节约配置加工

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