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- [发明专利]SQL函数生成方法及装置-CN202010585018.8有效
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马金秀;陈玮;罗丹;谢朝杰
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中国银行股份有限公司
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2020-06-24
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2023-07-21
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G06F8/30
- 本发明公开了一种SQL函数生成方法及装置,该方法包括:根据目标数据库表的表名生成SQL函数名称;根据目标数据库表的字段的结构体确定SQL函数输入参数;根据目标数据库表的数据结构及对目标数据库表的操作类型确定SQL函数语句;根据预先配置的函数返回规则确定SQL函数返回方法;在满足生成SQL函数的触发条件时,根据SQL函数名称、SQL函数输入参数、SQL函数语句及SQL函数返回方法生成SQL函数。本发明能够基于目标数据库表的表名、字段的结构体以及数据结构分别确定SQL函数名称、函数输入参数及函数语句等,基于SQL函数名称、SQL函数语句等自动生成SQL函数,能够提高生成SQL函数的效率。
- sql函数生成方法装置
- [发明专利]半导体结构及其制造方法-CN202011009963.X在审
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黄竞加;廖伟明
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南亚科技股份有限公司
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2020-09-23
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2021-08-17
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H01L27/108
- 本发明公开了一种半导体结构及其制造方法,半导体结构包含基板、第一字线结构、第二字线结构、第三字线结构、以及第四字线结构。基板具有被隔离结构围绕的主动区。第一字线结构及第二字线结构设置在主动区中并彼此分离。第三字线结构及第四字线结构设置在隔离结构中,其中第三字线结构及第四字线结构分别包含底部功函数层、位于底部功函数层上的中间功函数层、以及位于中间功函数层上的顶部功函数层。中间功函数层具有功函数大于顶部功函数层的功函数及底部功函数层的功函数。本发明的半导体结构可实现较高的驱动电流与较低的阈值电压敏感度,且可以避免短通道效应。
- 半导体结构及其制造方法
- [发明专利]校正装置、校正系统、校正方法以及记录介质-CN202310263106.X在审
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吉元政嗣
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株式会社理学
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2023-03-17
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2023-09-19
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G01N23/20
- 提供一种能够校正根据总散射数据算出的结构因子的校正装置、校正系统、校正方法以及记录介质。校正结构因子的校正装置具备:结构因子取得部,其取得结构因子;对分布函数算出部,其根据取得的结构因子算出对分布函数;校正函数创建部,其创建包含对分布函数的数据和将对分布函数的长距离侧的数据截断的截断函数并在规定范围内进行了傅立叶变换的第1校正函数和包含截断函数并在规定范围内进行了傅立叶变换的第2校正函数;校正量算出部,其算出包含第1校正函数、第2校正函数以及比例因子的校正量;结构因子校正部,其使用校正量来校正结构因子;以及R值算出部,其算出包含第1校正函数和第2校正函数并表示校正的精度的R值。
- 校正装置系统方法以及记录介质
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