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- [发明专利]低倍缺陷冷蚀显示试剂-CN200910143475.5无效
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黄楠
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黄楠
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2009-05-27
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2009-11-25
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G01N1/32
- 本发明涉及一种钢铁生产企业对于钢坯低倍组织缺陷快速检验的低倍缺陷冷蚀显示试剂,解决目前检测钢坯的低倍组织及内部缺陷时所用试剂不易存放,不能够制成产品,危险性大,易爆炸;以及用热酸法酸蚀过程中排放有害气体~68.0%的分析纯硝酸5~30毫升,或在上述试剂中加入3~15克的无水亚硫酸钠或亚硫酸钠3~15克,本发明的使用方法之一是:将要检测的样坯加工到表面光洁度小于15μm,然后按照上述比例制成的混合液体浇蚀至样品表面,等待30秒左右然后用清水冲洗、吹干,如遇不易腐蚀的钢种时可反复上述浇蚀操作直至铸坯组织清晰显现为止。
- 缺陷显示试剂
- [发明专利]图形形成方法及曝光装置-CN03155716.3无效
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远藤政孝;笹子胜
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松下电器产业株式会社
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2003-08-29
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2004-11-24
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G03F7/00
- 一种图形形成方法,在形成由化学增幅型抗蚀材料构成的抗蚀膜(102)之后,以向抗蚀膜(102)上提供由含有消泡剂且边进行循环边暂时被贮存于溶液贮存部内的水(折射率n:1.44)组成的溶液(103)的状态,对抗蚀膜(102)照射曝光光(104),进行图形曝光。对已进行图形曝光的抗蚀膜(102)进行后烘之后,用碱性显影液进行显影,则可以得到由抗蚀膜(102)的未曝光部(102b)构成的具有良好截面形状的抗蚀图形(105)。根据本发明,通过减少用于浸渍光刻法的溶液中的气泡,可以使抗蚀图形的截面形状变得良好。
- 图形形成方法曝光装置
- [发明专利]图形形成方法及曝光装置-CN200510118182.3无效
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远藤政孝;笹子胜
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松下电器产业株式会社
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2003-08-29
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2006-04-26
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G03F7/00
- 一种图形形成方法,在形成由化学增幅型抗蚀材料构成的抗蚀膜(102)之后,以向抗蚀膜(102)上提供由含有消泡剂且边进行循环边暂时被贮存于溶液贮存部内的水(折射率n:1.44)组成的溶液(103)的状态,对抗蚀膜(102)照射曝光光(104),进行图形曝光。对已进行图形曝光的抗蚀膜(102)进行后烘之后,用碱性显影液进行显影,则可以得到由抗蚀膜(102)的未曝光部(102b)构成的具有良好截面形状的抗蚀图形(105)。根据本发明,通过减少用于浸渍光刻法的溶液中的气泡,可以使抗蚀图形的截面形状变得良好。
- 图形形成方法曝光装置
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