专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种真空时防止尖端放电产生的加工工艺-CN202011412846.8在审
  • 王仁义;胡智清 - 海珀(滁州)材料科技有限公司
  • 2020-12-04 - 2021-03-30 - C23C14/34
  • 本发明涉及刀片真空领域,具体是一种真空时防止尖端放电产生的加工工艺,包括刀片表面处理、真空设备检测和刀片真空加工,刀片真空包括以下步骤:S1.放置:打开真空设备门,将表面处理好的刀片放置到真空设备的内部,通过真空设备的夹角进行对刀片进行夹持固定,之后关闭真空设备门;S2.启动真空泵:启动真空泵,将真空设备的空气进行抽出,降低真空设备的压强;S3.启动真空设备:当达到指定压强时本发明的有益效果在刀片真空时防止尖端放电,不仅提高刀片在真空的质量,同时提高刀片在真空加工时的安全性,能避免刀片上出现毛刺现象在真空时发生尖端放电现象。
  • 一种真空溅镀时防止尖端放电产生加工工艺
  • [发明专利]一种胶膜汽车装饰件的制造方法-CN202110252083.3在审
  • 余泽民;庄吴钏;李叔明 - 东莞广华汽车饰件科技有限公司
  • 2021-03-08 - 2021-06-15 - B29C51/36
  • 本发明涉及汽车装饰件技术领域,尤其公开了一种胶膜汽车装饰件的制造方法,设备将物料镀在透光胶膜件上形成透光镀层;将透明件设置在透光胶膜件上,利用透明件遮盖防护透光镀层,透明件用于显露透光镀层;发光件发出的光线依次穿透透光胶膜件、透光镀层及透明件射出;简化胶膜汽车装饰件的工艺流程,提升制造效率;汽车车辆白天行驶时,借助透光镀层对汽车车辆进行装饰,利用透明件遮盖防护透光镀层,避免透光镀层因外露磨损而使用不良,延长使用寿命;汽车车辆夜晚行驶时,发光件发出的光线依次穿透透光胶膜件、透光镀层及透明件射出,实现对汽车车辆的装饰,提升装饰的多样性,提升消费者体验度。
  • 一种内溅镀式胶膜汽车装饰制造方法
  • [实用新型]一种高精密度石英晶片装置-CN201420573418.7有效
  • 曾家骏 - 东晶锐康晶体(成都)有限公司
  • 2014-09-30 - 2015-01-28 - H03H3/02
  • 本实用新型公开了一种高精密度石英晶片装置,它包括两个相连的腔体A(1)和腔体B(2),腔体A(1)和腔体B(2)相连处设置有一隔板(3),隔板(3)上开设有一通孔(4),通孔(4)的大小允许夹具(5)通过,腔体A(1)和腔体B(2)均充满氩气,所述的腔体A(1)和腔体B(2)均设置有电场发生器(6)和磁场发生器(7),所述的腔体A(1)和腔体B(2)上均设置有靶材(本实用新型的有益效果是:通过调整在不同腔体的速度来控制镀层厚度,使石英晶体两面镀层厚度不同,从而达到经过后期离子蚀刻工艺后石英晶体两面镀层厚度一致的目的。
  • 一种精密度石英晶片装置
  • [发明专利]铝膜低温方法、铝导线层制造方法及具有其的结构-CN201810102548.5有效
  • 不公告发明人 - 长鑫存储技术有限公司
  • 2018-02-01 - 2021-06-04 - H01L21/768
  • 本发明至少提供一种铝膜的低温方法,包括:将晶圆置于真空的静电卡盘上;控制真空的温度低于铝的半熔点;注入气体至真空;控制电源的输出缓升至第一功率,使气体形成等离子体;控制电源的输出缓升至第二功率,使铝靶材被等离子体撞击而溅射出铝粒子,铝粒子溅射并沉积至晶圆表面形成铝膜,其中第二功率大于第一功率,并且二者之间呈现上升坡度;以及在控制电源的输出缓升至第一功率之前本发明的低温方法通过改善参数,可以降低铝膜挤压缺陷,以降低铝导线层的短路故障率,提高芯片生成的良率。
  • 低温方法导线制造具有结构
  • [发明专利]连续设备-CN201110402874.6无效
  • 张庆州 - 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司
  • 2011-12-07 - 2013-06-12 - C23C14/34
  • 一种连续设备,包括依次相邻设置的进料腔体、腔体及出料腔体,该腔体包括室及装设于该室内的靶材组件与若干电极,该室内设有一区,该若干电极相对装设于该室的侧壁上,设于同一侧的若干电极间隔设置,该靶材组件包括若干靶材,每一靶材装设于相应电极上并远离该区,同一侧相邻靶材之间形成间隙。该靶材组件还包括至少一遮蔽件,该至少一遮蔽件相对该间隙设置,并位于该若干靶材与该区之间,用以遮蔽挡设相邻靶材边缘原子的溅射。本发明提供的连续设备,遮蔽件能够减小靶材上端部的原子同时被撞击至基材上的几率,有效地提高了沉积至基材上的膜厚均匀性,能够适用于对外观性要求高的镀膜。
  • 连续式溅镀设备
  • [发明专利]一种方法及设备-CN200810097817.X无效
  • 范继良;杨明生;谢金桥;刘涛;王勇 - 东莞宏威数码机械有限公司
  • 2008-05-15 - 2008-09-10 - C23C14/34
  • 本发明提出一种方法及设备。包括:取来待的盘片并将其抽真空至预真空后,将所述盘片旋转传输到第一腔。通过第一腔在磁场的作用下进行,在达到预定设置的膜厚A时停止,并将已的盘片旋转传输到第二腔,在所述第一腔和第二盘片被抽真空至高真空。由所述第二腔在磁场的作用下将所述已的膜厚继续到膜厚B,所述膜厚B为预定设置的要的总膜厚,膜厚B≥膜厚A,且均为常数。本发明可以使后的光盘膜层厚度均匀,同时可以在较低功率、较短时间下薄膜,避免了盘片升温而变形,也降低了光盘生产周期。
  • 一种方法设备
  • [实用新型]连续设备-CN201220306687.8有效
  • 吴清沂;吴政道;简谷卫;黄有为;黄圣涵;辜建烨;沈俊宏 - 北儒精密股份有限公司
  • 2012-06-28 - 2013-02-06 - C23C14/34
  • 一种连续设备,以连续方式在一个基板上沉积一个薄膜单元,并包含:数个装置,每个装置都包括一个单元,以及一个电源供应系统,所述装置的单元相并接,且每个单元都具有一个腔体,以及一个安装在该腔体的一个腔室内并可与该基板相对设置的靶材,所述装置的电源供应系统都具有一个直流电源供应器、一个射频电源供应器,以及一个整合该直流电源供应器及该射频电源供应器的匹配器,该匹配器可提供该单元电源,并且在单元的腔室内形成电浆。前述设计可以连续方式在该基板上沉积薄膜,同时提供较佳的品质及效率。
  • 连续式溅镀设备
  • [实用新型]一种全自动装置-CN201920728459.1有效
  • 陈道理 - 盱眙新远光学科技有限公司
  • 2019-05-21 - 2020-04-14 - C23C14/34
  • 本实用新型提供一种全自动装置,包括:仓,所述仓上端设有上固定板、下端设有下固定板,下固定板安装在设备支架上,所述上固定板上设有阳极电极、所述下固定板上设有阴极电极,所述阳极电极通过阳极电极固定支架安装在上固定板,阴极电极通过阴极电极固定支架安装在下固定板上,所述仓一侧设有气体入口、另一侧设有抽真空排出口,所述仓内设有件固定支架,件固定支架一端安装在旋转电机上,所述旋转电机通过电机固定座安装在本实用新型,可以对件进行立体,大大提高了自动化程度,而且,特别适用于中空物件的,可以提高效率。
  • 一种全自动装置
  • [实用新型]真空磁控溅射镀膜机-CN201120575107.0有效
  • 唐翔;黄灏 - 浙江华虹光电集团有限公司
  • 2011-12-27 - 2012-09-26 - C23C14/35
  • 本实用新型公开了一种真空磁控溅射镀膜机,包括真空腔,所述真空腔中设有阳极和阴极,所述阳极、阴极和直流高压电源相连,其中,所述阴极外加装有电磁线圈,所述电磁线圈通过电磁驱动器和MCU本实用新型提供的真空磁控溅射镀膜机,通过加装电磁线圈,并在电磁线圈中通以受控的电流,采用可变的磁场进行厚度控制,提高光盘镀膜层的平整度。
  • 真空磁控溅射镀膜

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