“光图案”专利关键词查询_检索下载_查询列表_检索列表_行业专利分布_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果2098370个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]光罩图案分析装置及光罩图案分析方法-CN201310234762.3有效
发明人：傅国贵 -专利权人：南亚科技股份有限公司
申请日： 2013-06-13 - 公布日： 2014-01-01 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：本发明公开了一种光罩图案分析装置及光罩图案分析方法，该方法包含以下步骤：群组一电路布局中多个多角形而形成多个多角形群；根据该电路布局的一虚像，找出任一多角形群的潜在缺陷区域；决定该任一多角形群潜在缺陷区域的代表点
图案分析装置方法

[实用新型]用于形成对焦图案的同轴光图案光结构-CN201721149430.5有效
发明人：周明勇;欧阳杨;邹建军 -专利权人：深圳市纳诺测量技术有限公司
申请日： 2017-09-08 - 公布日： 2018-04-20 - 主分类号： G01B11/00 文献下载
摘要：本实用新型的用于形成对焦图案的同轴光图案光结构，技术目的是提供一种在简化结构的同时提升光源亮度，进而提高了影像测量仪的测量性能的用于形成对焦图案的同轴光图案光结构。包括有一磁力座，所述磁力座上连接有弹簧的一端，所述弹簧的另一端连接有电磁体，所述电磁体连接有一滑动座，所述滑动座连接有一滑动杆，在所述滑动杆上设有凸透镜，所述凸透镜的上方设有图案片，所述图案片的上方设有照射光源本实用新型并且将原同轴光的亮度和图案光的亮度提升100%，从而减少光源强度造成的瓶颈。适用于光测量设备中应用。
用于形成对焦图案同轴结构

[发明专利]光图案生成装置-CN201980102344.4在审
发明人：吉岐航;宫城由香里;今城胜治;中野贵敬 -专利权人：三菱电机株式会社
申请日： 2019-11-28 - 公布日： 2022-07-08 - 主分类号： G02B27/06 文献下载
摘要：光图案生成装置(100)具有：激光光源(1)，其射出激光；光扫描仪(4)，其使激光光源(1)射出的激光偏转；以及衍射光学元件部(7)，其由多个衍射光学元件要素(10)构成，多个衍射光学元件要素(10)分别对由光扫描仪(4)偏转后的激光的相位分布和强度分布中的至少一方进行调制，以使通过后的激光在像面(9)上形成规定的光图案，光扫描仪(4)能够变更使激光光源(1)射出的激光偏转的偏转方向，以使激光光源(1)射出的激光朝向多个衍射光学元件要素
图案生成装置

[发明专利]光图案曝光方法-CN201210599085.0有效
发明人：吉川博树;稻月判臣;小板桥龙二;金子英雄;小岛洋介;原口崇;广濑智一 -专利权人：信越化学工业株式会社;凸版印刷株式会社
申请日： 2012-11-21 - 公布日： 2017-11-14 - 主分类号： G03F1/32 文献下载
摘要：本发明涉及一种光图案曝光方法，半色调相移掩模及半色调相移掩模坯料。光图案曝光方法是通过半色调相移掩模向抗蚀膜照射ArF准分子激光。该掩模包括透明衬底和包含过渡金属、硅、氮和氧的材料的半色调相移膜的图案，且所述材具有0.18‑0.25的原子比(Met/Si)，25‑50原子％的氮含量，以及5‑20原子％的氧含量。
图案曝光方法色调相移坯料

[发明专利]光图案生成装置-CN201780097804.X有效
发明人：高田由香里;广泽贤一;柳泽隆行 -专利权人：三菱电机株式会社
申请日： 2017-12-26 - 公布日： 2022-02-25 - 主分类号： G02B27/42 文献下载
摘要：本发明的目的在于，实现使用1片衍射光学元件生成多个种类的图案的光图案生成装置。本发明的光图案生成装置(100)的特征在于，具备：激光光源(1)，其输出激光；聚光用透镜(2)，其使从所述激光光源(1)输出的激光折射；掩模(3)，其吸收或反射由所述聚光用透镜(2)折射后的光的一部分，并且使与该一部分不同的所述折射后的光透过；以及衍射光学元件(4a)，其根据与透过了所述掩模(3)的透过光的行进方向垂直的平面上的位置，变更所述透过光的相位，输出具有形成光图案的相位分布的光，所述聚光用透镜
图案生成装置

[发明专利]光图案生成装置-CN201780090519.5有效
发明人：高田由香里;柳泽隆行 -专利权人：三菱电机株式会社
申请日： 2017-05-22 - 公布日： 2021-12-10 - 主分类号： G02B27/42 文献下载
摘要：本发明的光图案生成装置(100)的特征在于，该光图案生成装置(100)具备：第1激光光源(1)，其射出第1激光；第1衍射光学元件(2a)，其根据所述第1激光在与行进方向垂直的平面上的位置来变更所述第1激光的相位，射出具有相位分布的激光；第2衍射光学元件(2b)，其根据入射的激光在与行进方向垂直的平面上的位置来变更所述入射的激光的相位，射出形成光图案的激光；以及转变光学系统(3)，其配置在所述第1衍射光学元件与所述第通过该结构，能够无需考虑由第一个衍射光学元件(2a)的输出光的传播引起的波阵面变化，简单地设计第二个衍射光学元件(2b)。
图案生成装置

[发明专利]光感应图案-CN200980133660.4有效
发明人： M·马图索夫斯基;A·诺伊;M·菲纳罗夫;G·迪肖恩 -专利权人：实用光有限公司
申请日： 2009-06-18 - 公布日： 2011-07-20 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：一种在接受基板上沉积材料的方法，该方法包括：提供具有背面和正面的源基板，该背面载有至少一块涂层材料；提供接受基板，该接受基板位于邻近该源基板并面向该涂层材料；以及朝着该源基板的正面发射光，以便从源基板移除至少一块涂层材料
感应图案

[发明专利]图案化光控膜-CN201980082630.9在审
发明人：杰弗里·L·所罗门 -专利权人： 3M创新有限公司
申请日： 2019-12-11 - 公布日： 2021-08-10 - 主分类号： G02B5/00 文献下载
摘要：光控膜具有施加到其的图案。该光控膜在光学介质中具有多个间隔开的第一沟槽。每个第一沟槽具有封闭底部。这些第一沟槽中的一些第一沟槽部分地填充有吸光第一材料，该吸光第一材料吸收400nm至2000nm的预定波长范围的光。
图案光控

[发明专利]光图案发射装置-CN201310178946.2有效
发明人：周明杰;刘军 -专利权人：深圳市海洋王照明工程有限公司;海洋王照明科技股份有限公司
申请日： 2013-05-15 - 公布日： 2017-03-15 - 主分类号： F21V14/04 文献下载
摘要：本发明提供一种光图案发射装置，其特征在于，包括壳体以及一个或多个光图案发射模块。每个所述光图案发射模块包括透镜、反光镜旋转装置以及LED灯。所述反光镜旋转装置包括反光镜固定板、反光膜以及马达。其中，所述LED灯发出的光线经由所述反光膜反射并通过所述透镜射出，射出的光图案为与所述反光膜相适应的图案，所述反光膜通过所述马达旋转使照射出的光图案变化。
图案发射装置

[实用新型]结构光图案投射器-CN201821914047.9有效
发明人：蔡朝旭;朱秋兰 -专利权人：迪鹏光电科技股份有限公司
申请日： 2018-11-20 - 公布日： 2019-08-09 - 主分类号： G02B27/42 文献下载
摘要：本创作是一种结构光图案投射器，包括提供球面波形式的多个激光发光点的多点光源模块、透镜元件和绕射光学元件。多个激光发光点排列成一具有特定规则性的发光点排列图案，发光点排列图案经过透镜元件成像和绕射光学元件复制成多个后，在远处成像的相邻二发光点排列图案之间彼此部分重叠，特定规则性发光点排列图案使得重叠部分的光点具非规则性，且重叠程度不同时所产生的非规则图案也不同，藉由DOE的设计，各处相邻的重叠程度可以不同，因此可以产生不重复的非规则图案。
发光点排列图案非规则绕射光学元件结构光图案透镜元件规则性投射器成像激光图案多点光源球面波光点复制重复创作

[发明专利]用于光导的光转向特征图案-CN201280018006.0无效
发明人：王莱;马雷克·米恩克;约恩·比塔 -专利权人：高通MEMS科技公司
申请日： 2012-03-08 - 公布日： 2013-12-25 - 主分类号： G02B6/00 文献下载
摘要：本发明提供用于通过使用光导分布光来提供照明且用于确定所述光导中的光转向特征之间的间隔的系统、方法及设备。在一个方面中，确定沿第一轴线的光强度分布，且基于此分布而变化光转向特征沿彼第一轴线的间距，同时使沿第二相交轴线(例如，正交轴线)的间距及所述光转向特征的大小保持不变。在一些实施方案中，一种设备包含光导，所述光导具有经配置以使来自至少一个光发射器的光转向的光转向特征阵列。所述光转向特征可沿第一轴线非均匀地间隔开，使得间距非单调地变化，且沿与所述第一轴线相交的第二轴线，所述光转向特征以实质上相同的进展量间隔开。
用于转向特征图案

[发明专利]检测定义码字的光图案的失真的方法以及光图案-CN202110652419.5在审
发明人： K·奥特;M·齐姆普利奇;M·里齐特 -专利权人：锐多视觉系统工程有限公司
申请日： 2021-06-11 - 公布日： 2021-12-17 - 主分类号： G01B11/00 文献下载
摘要：一种检测定义码字的光图案的失真的方法，包括：借助光源投射光图案，其中参考到参考面的光图案表示参考光图案，其中，参考光图案包括彼此相距一距离并在第一延伸轴的方向上按多个连贯列来布置的各个体光图案元素，其中在参考光图案的每列中的至少一个光图案元素的数量和/或位置是编码特征，并且在预定数量的连贯列中的光图案元素序列定义了码字，以及借助光学传感器检测光图案，其特征在于，参考光图案的至少部分数量的光图案元素定义至少一个预定几何图案，在被检测光图案中检测该至少一个几何图案，并且通过比较被检测光图案的该至少一个几何图案和参考光图案的至少一个几何图案，来确定被检测光图案相对于参考光图案的失真。
检测定义码字图案失真方法以及

[发明专利]光图案曝光方法,光掩模及光掩模坯料-CN201210599017.4有效
发明人：吉川博树;稻月判臣;小板桥龙二;金子英雄;小岛洋介;原口崇;广濑智一 -专利权人：信越化学工业株式会社;凸版印刷株式会社
申请日： 2012-11-21 - 公布日： 2013-06-05 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种光图案曝光方法，光掩模及光掩模坯料。光图案曝光方法是通过光掩模向抗蚀膜照射ArF准分子激光。光掩模包括透明衬底和包含过渡金属、硅、氮和氧的材料的光学膜的图案，过渡金属、硅、氮和氧的含量在特定范围内。光掩模可被ArF准分子激光以至少10kJ/cm2的累积剂量照射过。
图案曝光方法光掩模坯料

[发明专利]光罩及图案化方法-CN201711456939.9在审
发明人：尹易彪 -专利权人：深圳市华星光电技术有限公司
申请日： 2017-12-27 - 公布日： 2018-06-12 - 主分类号： G03F1/38 文献下载
摘要：本发明提供一种光罩及图案化方法，通过在光罩的光罩主体上设置用于聚光的透镜，并使所述透镜遮盖所述光罩主体上的透光区。由于所述透镜具有聚光作用，使得通过所述光罩形成光阻层时，透过所述透镜的光线能够倾斜的照射于形成所述光阻层的光阻材料层上，从而使得得到的所述光阻层的光阻区的斜面与所述基板的夹角相对于现有技术中减小，进而使得沉积于所述基板上的待图案化膜层与所述光阻层的斜面形成的空隙增大，使得剥离图案化的所述光阻层的剥离液会容易的渗入所述空隙中，进而容易的通过所述空隙渗入所述光阻层与所述基板之间，从而提高所述光阻层从所述基板上剥离的效率。
光阻层光罩透镜基板图案化渗入光阻材料层图案化膜层剥离图案聚光作用斜面形成剥离液光阻区聚光的透光区沉积减小遮盖照射剥离

[发明专利]光图案化装置与车灯-CN201610860844.2在审
发明人：杨平武;王龙;罗辑;周海清;范磊 -专利权人：法雷奥照明湖北技术中心有限公司
申请日： 2016-09-28 - 公布日： 2018-07-20 - 主分类号： F21S41/20 文献下载
摘要：本发明的实施例提供了一种用于车灯的光图案化装置以及包括该光图案化装置的车灯。该光图案化装置包括：光源；和配光装置，所述配光装置具有彼此相对的光入射侧和光出射侧，在配光装置的所述光入射侧上设置有平行延伸的多个第一光偏折部，且在配光装置的所述光出射侧上设置有平行延伸的多个第二光偏折部，所述多个第一光偏折部分别用于接收来自光源的光束的不同部分并将其朝向第二光偏折部偏转，所述多个第二光偏折部将经过第一光偏折部偏转的各个光束部分进行偏折以形成灯光图案，所述第一光偏折部的延伸方向与第二光偏折部的延伸方向不平行
偏折光图案化配光装置车灯偏转平行延伸光出射光入射光源彼此相对灯光图案不平行延伸

1
2
3
4
5
6
7
8
9
10
11
12
13
14
15
16
17
18
19
20
下一页»
尾页
共 100000 条