专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种发射模组及激光雷达-CN202111007390.1在审
  • 罗珂珂;高子英;孙笑晨 - 杭州洛微科技有限公司
  • 2021-08-30 - 2021-12-03 - G01S17/10
  • 本发明公开一种发射模组,还公开一种包含所述发射模组的激光雷达,所述发射模组包括依次设置的光源件、光压缩件和光扩散件;所述光源件,用于发射第一光束;所述光压缩件,用于缩小所述第一光束在第一方向上的发散角,本发明通过对光压缩件和光扩散件的设计,在第一方向上对发散角进行压缩,使得光能更集中,在第二方向上对发散角进行扩大,使得照亮范围更广,从而有效提高所在激光雷达的测距性能。
  • 一种发射模组激光雷达
  • [发明专利]一种带真空吸盘的抛光头-CN201410535599.9有效
  • 魏昕;袁文强;谢小柱;胡伟;钟静 - 广东工业大学
  • 2014-09-27 - 2017-10-24 - B24B41/04
  • 本发明是一种带真空吸盘的抛光头,抛光头能够快速稳定吸附工件,能独立旋转并且转速可由抛光机调节,能改变抛光压力。抛光头由吸盘、高速旋转接头、真空软管、真空发生器按顺序串联组成,其中所述吸盘有两种方案1.吸盘包括盘面、盘底、真空管、连接盘面和盘底的螺栓、不同质量的压块,使用不同质量压块组合调节工件上的抛光压力;2.吸盘包括盘面、盘底、定位轴、真空管、定位筒、弹簧、调压螺母、保持架、限位架、保持架端面环,通过调压螺母压缩弹簧改变作用于工件上的抛光压力。
  • 一种真空吸盘抛光
  • [发明专利]生产半导体晶片的方法-CN201010193354.4有效
  • J·施万德纳 - 硅电子股份公司
  • 2010-05-27 - 2010-12-29 - H01L21/02
  • c)抛光半导体晶片的正面和背面,正面抛光包含使用不含固定在抛光垫上的磨料的抛光垫的化学-机械抛光;半导体晶片的背面抛光进行三步,每种情况下使用含有结合在抛光垫上的磨料物质的抛光垫,并用抛光压压在半导体晶片的背面上,在第一步中将不含固体的抛光剂引入到抛光垫和半导体晶片的背面之间,而在第二和第三步骤中引入含有磨料物质的抛光剂,在第一步和第二步中使用8-15psi的抛光压,在第三步中抛光压降至0.5-5psi。
  • 生产半导体晶片方法
  • [实用新型]一种带真空吸盘的抛光头-CN201420589811.5有效
  • 魏昕;袁文强;谢小柱;胡伟;钟静 - 广东工业大学
  • 2014-09-27 - 2015-02-04 - B24B41/04
  • 本实用新型是一种带真空吸盘的抛光头,抛光头能够快速稳定吸附工件,能独立旋转并且转速可由抛光机调节,能改变抛光压力。抛光头由吸盘、高速旋转接头、真空软管、真空发生器按顺序串联组成,其中所述吸盘有两种方案:1.吸盘包括盘面、盘底、真空管、连接盘面和盘底的螺栓、不同质量的压块,使用不同质量压块组合调节工件上的抛光压力;2.吸盘包括盘面、盘底、定位轴、真空管、定位筒、弹簧、调压螺母、保持架、限位架、保持架端面环,通过调压螺母压缩弹簧改变作用于工件上的抛光压力。
  • 一种真空吸盘抛光

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