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[发明专利]光学组件-CN97104841.X无效
发明人：白崎正孝 -专利权人：富士通株式会社
申请日： 1997-03-21 - 公布日： 2002-03-27 - 主分类号： G02B6/14 文献下载
摘要：一个光波导，它有一光接收端和在使光进入光波导的光接收端上有一双峰形状光场分布的传播模式。入射到光接收端上的光通常具有单峰形状光场分布。入射光的光场分布和光波导传播模式的光场分布二者的重叠使光被光波导接收。或者是，光波导在光接收端可以有单峰形状光场分布的传播模式，而入射光在光接收端可以有双峰形状的光场分布。$#!
光学组件

[发明专利]可调变光场范围和具备高效能发射的通行传感器-CN202110902437.4在审
发明人：许俊甫 -专利权人：丰菱电机有限公司
申请日： 2021-08-06 - 公布日： 2023-02-17 - 主分类号： G01V8/20 文献下载
摘要：本发明公开一种可调变光场范围和具备高效能发射的通行传感器，包括一光场调变电路。光场调变电路包含光场开关，光场开关使电子开关组件开启或关闭光发射部位内个别的光发射单元，多个光发射单元能个别投射不同角度的光束到发射凸透镜片，凸透镜片再基于光学原理辐射不同角度的光场至自动通行门前，使光场开关可灵活调变自动通行门前光场的宽度和深度另外，光接收部位和相间隔的光发射部位朝同方向排列，通行范围的光场反射回来的光线经由光接收凸透镜聚焦到光接收单元，并将反射光转换成光电信号，经信号处理系统输出控制自动通行门开关的信号。
可调变光场范围具备高效能发射通行传感器

[发明专利]基于结构光相移的相位检测方法、电子装置及介质-CN202210396128.9在审
发明人：杜路平;杨爱萍;吴绵满;袁小聪 -专利权人：深圳大学
申请日： 2022-04-14 - 公布日： 2022-08-12 - 主分类号： G01N21/45 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于结构光相移的相位检测方法、电子装置和介质，方法包括：启动激光发射器，发射两束参考光在样品表面生成干涉场；控制两束参考光相位相等，扫描干涉场，得到第一个干涉场的强度信息；使两束参考光的初始相位向前移动π/2，扫描干涉场，得到第二个干涉场的强度信息；使两束参考光的初始相位再次向前移动π/2，扫描干涉场，得到第三个干涉场的强度信息；使两束参考光的相位再次向前移动π/2，扫描干涉场，得到第四个干涉场的强度信息；使用第一个、第二个、第三个、第四个干涉场的强度信息计算待测光场的相位分布；本发明的基于结构光相移的相位检测方法，具有功能更加丰富、测量系统更加简洁，相位恢复方法更加精确的优点。
基于结构相移相位检测方法电子装置介质

[实用新型]一种补光仪-CN202320241521.0有效
发明人：张剑;李广续 -专利权人：西安瑞丰仪器设备有限责任公司
申请日： 2023-02-17 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： G02B21/06 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种补光仪。包括暗场补光装置和明场补光装置；明场补光装置包括第一光源和明场光源辅助组件，明场光源辅助组件包覆在第一光源的外侧，第一光源发出的光线经过明场光源辅助组件的散射，从多个角度将光线照射标本；暗场补光装置包括第二光源和暗场光源辅助组件，暗场光源辅助组件位于所述第二光源的顶部，第二光源发出的光线通过暗场光源辅助组件以指定的角度折射，使光线以指定的角度照射标本。本申请设置明场补光装置和暗场补光装置实现对于透明或者不透明标本在拍摄时的辅助补光，暗场光源辅助组件使光线以指定的角度照射标本；明场光源辅助组件使发出的光线经过散射，从多个角度将光线照射标本从而提高拍摄质量
一种补光仪

[发明专利]掩模缺陷检测系统-CN202310208697.0在审
发明人：沙鹏飞;吴晓斌;王魁波;谢婉露;户权;韩晓泉;李慧;罗艳;马赫;谭芳蕊;尹皓玉 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2023-03-06 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： G01N21/956 文献下载
摘要：本发明提供一种掩模缺陷检测系统，包括：光源，所述光源用于发射入射光场；聚焦组件，所述聚焦组件用于所述入射光场聚焦；掩膜，所述掩膜的检测面位于所述入射光场的焦点上，所述检测面设有缺陷，所述入射光场经所述检测面反射并形成反射光场，所述入射光场经所述缺陷反射并形成散射光场；明场成像波带片、暗场成像波带片，所述明场成像波带片和所述暗场成像波带片中的其中一者设于所述反射光场和所述散射光场的照射路径上，以用于使所述反射光场和所述散射光场照射于所述明场成像波带片和所述暗场成像波带片中的其中一者
缺陷检测系统

[发明专利]一种测量光场分布的方法及装置-CN202010667605.1有效
发明人：傅振海;刘承;陈志明;陈杏藩;李楠;胡慧珠 -专利权人：之江实验室;浙江大学
申请日： 2020-07-13 - 公布日： 2020-10-30 - 主分类号： G01J1/42 文献下载
摘要：本发明公开了一种测量光场分布的方法及装置。利用光阱稳定悬浮微粒，移动光阱使微粒靠近待测光场，利用光电探测器收集微粒在待测光场的三维空间中不同位置的散射光信号，根据散射光强与该位置的光强成正比解算出待测光场的光场分布。测量光场分布的装置，包括激光器、捕获光路、微粒、光电探测器、控制系统和上位机；激光器出射激光，经过捕获光路，出射高度聚焦的捕获光B，形成光阱，捕获微粒；微粒在待测光场A中的某个位置，散射光C被光电探测器收集；光电探测器将散射光信号上传到上位机；上位机根据不同位置处获取的散射光信号解算出待测光场A的光场分布。本发明可精确获得光场的三维光强分布，将光场测量的空间分辨率提升到纳米量级。
一种测量分布方法装置

[发明专利]基于EPI的光场拼接装置及方法-CN201711263793.6有效
发明人：王庆;郭满堂;周果清 -专利权人：西北工业大学
申请日： 2017-12-05 - 公布日： 2021-11-02 - 主分类号： G06T5/50 文献下载
摘要：本发明提供了一种基于EPI的光场拼接装置及方法，将光场相机固定在电控平移台的台面上，且光场相机的镜头光轴与电控平移台导轨方向垂直；将电控平移台固定在光学平台的底板上，使电控平移台的导轨和光学平台底板平面平行或垂直；在计算机终端对运动控制器发出指令，控制光场相机在电控平移台导轨上平移；相机在平移运动的过程中采集光场，相邻光场经过注册和插值处理，渲染出比360°视场范围更大的光场。
基于 epi 拼接装置方法

[发明专利]一种透射式衍射光学元件的光学成像系统-CN201910899147.1在审
发明人：秦应雄;徐家明;张兰天;张怀智 -专利权人：华中科技大学
申请日： 2019-09-23 - 公布日： 2019-12-10 - 主分类号： G02B27/42 文献下载
摘要：本发明公开了一种透射式衍射光学元件及其光学系统，属于光场调控领域，包括：光源和透射式衍射光学元件；光源与衍射光学元件放置于同一光轴上，且透射式衍射光学元件位于光源出射光的方向；光源用于提供入射光；复合相位信息用于调节透射式衍射光学表面浮雕结构的高度和宽度以获取与零级光在光轴不同位置聚焦的目标光场；其中，复合相位信息包括调制相位信息和聚焦相位信息；调制相位信息用于使入射光通过透射式衍射光学元件后生成目标光场；聚焦相位信息用于使目标光场和零级光在光轴上不同位置聚焦。本发明采用聚焦相位使得目标光场和零级光在光轴不同位置聚焦，即使存在零级光也不影响目标光场的成像效果。
透射式衍射聚焦光学元件目标光场零级光光源光轴调制相位复合相位相位信息入射光光场衍射光学元件成像效果浮雕结构光学表面光学系统同一光轴影响目标出射光调控

[实用新型]一种透射式衍射光学元件的光学成像系统-CN201921591582.X有效
发明人：秦应雄;徐家明;张兰天;张怀智 -专利权人：华中科技大学
申请日： 2019-09-23 - 公布日： 2020-06-02 - 主分类号： G02B27/42 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种透射式衍射光学元件的光学成像系统，属于光场调控领域，包括：光源和透射式衍射光学元件；光源与衍射光学元件放置于同一光轴上，且透射式衍射光学元件位于光源出射光的方向；光源用于提供入射光；复合相位信息用于调节透射式衍射光学表面浮雕结构的高度和宽度以获取与零级光在光轴不同位置聚焦的目标光场；其中，复合相位信息包括调制相位信息和聚焦相位信息；调制相位信息用于使入射光通过透射式衍射光学元件后生成目标光场；聚焦相位信息用于使目标光场和零级光在光轴上不同位置聚焦。本实用新型采用聚焦相位使得目标光场和零级光在光轴不同位置聚焦，即使存在零级光也不影响目标光场的成像效果。
一种透射衍射光学元件成像系统

[发明专利]一种空间光场振幅及相位复合调制系统、方法及其检测系统-CN202110930694.9在审
发明人：赵圆圆;吴志财;陈经涛;段宣明 -专利权人：暨南大学
申请日： 2021-08-13 - 公布日： 2021-11-19 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明为克服空间光调制仅对光场的单一信息振幅或者相位进行空间调制，光刻分辨率较低的缺陷，提出一种空间光场振幅及相位复合调制系统、方法及其检测系统，其中空间光场振幅及相位复合调制系统包括振幅型空间光调制器、像元匹配光学系统和相位型空间光调制器，振幅型空间光调制器对输入光场进行像素化振幅调制，再通过像元匹配光学系统对图像光场进行位置调整，使图像光场与所述相位型空间光调制器中的空间像素位置一一对应，再输入所述相位型空间光调制器中，相位型空间光调制器对输入的经过振幅调制的图像光场中对应像素进行相位调制，输出光场为相位、振幅独立调制的图案化光场，实现空间光场振幅和相位信息像素化、多自由度、独立的调制。
一种空间振幅相位复合调制系统方法及其检测

[发明专利]用于显示立体光场的薄膜结构-CN201910505529.1有效
发明人：陈志强;惠新标 -专利权人：上海麦界信息技术有限公司
申请日： 2019-06-12 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G02B30/33 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于显示立体光场的薄膜结构。在该薄膜结构包括本体，光场图像层和点光源阵列层，光场图像层和点光源阵列层间隔地设在本体上，光场图像层位于点光源阵列层和立体光场的可视范围之间，光场图像层用于显示立体光场所对应的光场图像。点光源阵列层包括多个发光区，相邻发光区的间距随着远离可视范围在水平或垂直至少一个方向上单调递增，使得可视范围通过任意两相邻的发光区在光场图像层上的投影区域没有重叠。本发明提出了一种薄膜结构，可以三维立体显示二维图像，并且使人们通过裸眼即可从各个角度观看该三维立体图像。
用于显示立体薄膜结构

[发明专利]基于张量稀疏约束的光场填充方法及装置-CN202110063571.X在审
发明人：齐娜;王晨;朱青 -专利权人：北京工业大学
申请日： 2021-01-18 - 公布日： 2021-06-01 - 主分类号： G06T3/40 文献下载
摘要：基于张量稀疏约束的光场填充方法及装置，避免向量化、引入超分辨率重建技术使光场内部的相关特性被最大程度地利用，得到客观表现良好的填充光场，给用户更好的视觉体验。方法包括：(I)对丢失部分信息的光场进行滑窗采样、搜索相似块并堆叠，利用基于张量稀疏约束的光场填充模型填充得到的五维张量，再将其中的图像块分别置回光场原始索引处，得到填充的光场；(II)对(I)中得到的光场、与对前者进行超分辨率重建得到的高分辨率光场都进行滑窗采样；将后者得到的图像块投影为前者相同大小的块，相似度排序得到由两者组成的五维张量，对其使用基于张量稀疏约束的光场填充模型填充，将其中原始大小的图像块置回原始索引处，得到填充的光场。
基于张量稀疏约束填充方法装置

[发明专利]一种用于实现均匀无散斑照明的激光投影光源-CN201510304927.9有效
发明人：马晓辉;崔哲;王安廷;明海 -专利权人：中国科学技术大学
申请日： 2015-06-04 - 公布日： 2017-07-28 - 主分类号： G03B21/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于实现均匀无散斑照明的激光投影光源，包括激光器，用于产生激光；散射片，使光束发生散射，增大光束的发散角，扩大光源面积，降低光场相干性；光学积分棒，使光束在其内部发生多次反射，提高光场分布均匀度，降低光场相干性；反射碗，用于收集积分棒的出射光，减小光束发散角，让尽可能多的光线平行出射；双排复眼透镜阵列，收集反射碗的光线，减小光线发散角，提高光场分布的均匀性和平行度；场镜，光线汇聚，减小发散角，
一种用于实现均匀无散斑照明激光投影光源

[发明专利]一种基于衍射模糊成像原理的无串扰全息3D显示方法-CN202110930000.1有效
发明人：王迪;庞应飞;王琼华 -专利权人：北京航空航天大学
申请日： 2021-08-13 - 公布日： 2022-07-08 - 主分类号： G03H1/08 文献下载
摘要：该方法包括三个步骤：第一步，对于一个3D物体，根据阿贝二次成像理论和菲涅尔衍射原理计算出物体的模糊光场分布，并计算物体的二次衍射模糊成像条件；第二步，基于二次衍射模糊成像特点建立不同深度面光场的串扰关系，计算出串扰光场；第三步，对不同深度面之间的光场串扰，通过叠加光栅相位使串扰光场的空间频谱形成窗口矩阵的特点，使串扰光场以窗口矩阵的形式与目标光场分离，从而生成复振幅全息图，实现无串扰的全息3D显示效果
一种基于衍射模糊成像原理无串扰全息显示方法

[发明专利]一种光场调制组件、显示组件和显示装置-CN202011148298.2在审
发明人：邢汝博;刘如胜 -专利权人：云谷（固安）科技有限公司
申请日： 2020-10-23 - 公布日： 2021-02-05 - 主分类号： G09F9/30 文献下载
摘要：本申请公开了一种光场调制组件、显示组件和显示装置，属于显示技术领域。本申请公开的光场调制组件包括承载件和光场调制膜；其中，承载件包括层置的第一基板和第二基板；光场调制膜设置于第二基板。其中，第一基板位于光场调制膜入光侧，入光侧毗邻光场调制膜的介质的折射率低于光场调制膜的折射率，光线从入光侧穿过光场调制膜之后能够形成预设的第一衍射效应。光线通过显示面板的透光显示区时，由于像素单元的规则排布，将产生第二衍射效应，因为第一衍射效应和第二衍射效应至少部分相互抵消，因此使屏下拍摄时由于衍射效应引起的问题减弱或者消失，从而能够提高屏下拍摄的拍摄质量
一种调制组件显示显示装置

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