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- [发明专利]一种混合光源装置及投影系统-CN202111646605.4在审
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葛明星;刘金根;陈龙
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无锡羿飞教育科技有限公司
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2021-12-30
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2022-04-26
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G03B21/20
- 本发明提供一种混合光源装置及投影系统,混合光源装置包括第一光源组件、第二光源组件与光机系统;其中,第一光源组件包括第一会聚透镜;受激发光经第一会聚透镜会聚后,入射至光机系统;所述第二光源组件包括第二光源、第二分光元件以及第二会聚透镜;所述第二光源包括发光二极管,用于产生第二基色光;所述第二基色光经所述第二会聚透镜会聚后,入射至所述第二分光元件。本发明提供的混合光源装置,在受激发光与第二基色光进行合光之前,通过第一会聚透镜与第二会聚透镜分别对受激发光与第二基色光会聚,以使受激发光与第二基色光入射到光机系统的光分布角可独立设置,从而使得混合光源装置能够兼顾亮度与对比度
- 一种混合光源装置投影系统
- [发明专利]会聚离子束加工装置-CN202110302101.4在审
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大庭弘;杉山安彦;中川良知;永原幸儿
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日本株式会社日立高新技术科学
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2021-03-22
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2021-09-24
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H01J37/09
- 提供在利用会聚离子束进行截面加工时改善截面形状、并且提高作业效率的会聚离子束加工装置。会聚离子束加工装置(100)具有离子源(21)、保持试样(200)的试样载台(50)、会聚透镜(22)、具有一边(24t)呈直线状的狭缝(24s)的光圈(24)、以及配置于光圈与试样台之间的射束路径的投射透镜(28),在试样加工出截面,当基于柯拉照明法会聚离子束(20A)聚焦于投射透镜的主平面时会聚透镜的施加电压是100时,将施加电压设定为小于100且为80以上,设定光圈的位置,以使所述光圈在如下状态下遮挡该会聚离子束,该状态是,所述光圈的所述一边距所述会聚离子束的中心的距离大于0μm且为500μm以下的状态,构成将狭缝的形状转印到试样的转印模式。
- 会聚离子束加工装置
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