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[发明专利]一种成膜设备的靶材结构-CN201710615440.1有效
发明人：卢艳 -专利权人：北京芯微诺达科技有限公司
申请日： 2017-07-26 - 公布日： 2019-08-02 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明公开了一种成膜设备的靶材结构，包括成膜室，所述成膜室的内部一侧设有靶材，所述靶材包括内靶材和外靶材，所述内靶材和所述外靶材互不接触，所述外靶材套设在所述内靶材的外侧，所述内靶材和所述外靶材分别连接有一功率源本发明通过将靶材设计为内靶材和外靶材，使基板上沉积出的薄膜的厚度更加均匀一致了，提高了薄膜的物性，进一步提高了基板的性能。
一种设备结构

[发明专利]一种靶材加工装置和加工方法-CN201910923533.X在审
发明人：王传军;闻明;谭志龙;沈月;许彦亭;刘牛;管伟明 -专利权人：贵研铂业股份有限公司
申请日： 2019-09-27 - 公布日： 2019-12-20 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明公开了一种靶材的加工装置和加工方法。靶材的加工装置包括夹具、内固定件和外固定件。内固定件包括底板和内定位销，外固定件包括压板和外定位销。靶材加工方法包括：提供夹具，将靶材装夹于夹具上，加工靶材的溅射面；将靶材翻面，在靶材的装配面开设内固定孔；提供底板，在底板上开设内定位孔；采用固定件将靶材固定在底板上；将底板装夹于夹具上，加工靶材的装配面的外曲面；提供压板，在压板上加工配合曲面；在底板开设外固定孔，在压板开设第三固定孔；将靶材固定于底板和压板之间；加工靶材的内曲面和定位槽。本发明的优点是定位精度高，能保证靶材加工的尺寸和精度，同时效率高，成本低。
靶材底板压板夹具加工靶材加工加工装置内固定件外固定件定位销装夹定位精度高外固定孔定位槽定位孔固定件固定孔溅射面内固定内曲面外曲面装配面翻面装配配合保证

[发明专利]一种脉冲离子源镀膜引出装置-CN202110446190.X有效
发明人：郭春刚;程国安;郑瑞廷 -专利权人：北京师范大学
申请日： 2021-04-25 - 公布日： 2022-07-26 - 主分类号： C23C14/46 文献下载
摘要：本发明涉及一种脉冲离子源镀膜引出装置，包括脉冲电极，阴极靶材和阳极；阳极包括外筒体和内部的阳极环；阴极靶材与外筒体之间导通；所述阳极环与外筒体之间设置有绝缘材料；阴极靶材为柱状，插入外筒体内，并位于外筒体中的阳极环上方；阴极靶材中心线穿过阳极环的中心孔；阴极靶材与驱动电机传动连接，驱动阴极靶材向阳极环进给；阴极靶材的离子发射端外侧套设有脉冲电极，并且阴极靶材的裸露端伸出脉冲电极，阴极靶材与脉冲电极之间设置有绝缘套；阳极环连接电源的正极，阴极靶材连接电源的负极或接地，脉冲电极连接脉冲电源。
一种脉冲离子源镀膜引出装置

[发明专利]靶材组件的制作方法-CN200910140415.8无效
发明人：姚力军;王学泽;欧阳琳;刘庆 -专利权人：宁波江丰电子材料有限公司
申请日： 2009-05-08 - 公布日： 2010-02-17 - 主分类号： B23K1/08 文献下载
摘要：一种靶材组件的制作方法，包括：提供钛靶材坯料、背板和钎料，所述背板四周形成有侧壁；对钛靶材坯料进行预热，将钎料均匀分布在钛靶材坯料的结合面与坯料外周，使得钎料在钛靶材坯料的结合面和外周充分浸润，去除钛靶材坯料结合面和外周上的钎料；对背板的结合面进行打磨处理，对背板进行预热，将钎料均匀分布在背板的结合面和侧壁内侧，超声波处理添加钎料的背板；对钛靶材坯料和背板进行钎焊，将钛靶材坯料焊接至背板形成靶材组件；冷却靶材组件。本发明能够有效避免钛靶材坯料和背板在焊接过程中氧化以及钎料氧化，并且焊接的靶材组件结合强度高，产品加工周期短。
组件制作方法

[实用新型]半导体机台的改良结构-CN200720125505.6无效
发明人：刘相贤;郑启民 -专利权人：力鼎精密股份有限公司
申请日： 2007-08-17 - 公布日： 2008-07-23 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：此半导体机台包括一外盖、一背板、一靶材绝缘板、一靶材、以及一沉积物挡板。靶材绝缘板设置于外盖与背板之间。靶材通过靶材绝缘板连接于外盖上。沉积物挡板具有一顶面，此顶面邻接且不直接接触于靶材绝缘板。此半导体机台借助沉积物挡板达到吸附靶材污染物，以降低靶材污染物附着于靶材绝缘板的功能，以提高半导体机台操作与使用效率。
半导体机台改良结构

[发明专利]物理气相沉积靶材组件-CN202080009371.X在审
发明人：肖文;桑杰·巴特;刘树围;维布什·金达尔 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2020-01-24 - 公布日： 2021-08-31 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：披露了物理气相沉积靶材组件、包括靶材组件的PVD腔室和使用所述靶材组件制造EUV掩模坯料的方法。靶材组件包括：相邻于靶材并围绕靶材的周边边缘的靶材屏蔽件，靶材屏蔽件包括绝缘材料；和非绝缘外周边装置夹，用于将靶材屏蔽件固定至所述组件。
物理沉积组件

[发明专利]圆筒形溅镀靶及其制造方法-CN200980137565.1有效
发明人：伊藤谦一;玉野公章;户床茂久;渋田见哲夫 -专利权人：东曹株式会社
申请日： 2009-09-18 - 公布日： 2011-08-24 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：提供一种圆筒形溅镀靶，即使在利用由多个圆筒形靶材构成的长条状圆筒形溅镀靶来溅镀成膜时，成膜步骤的制造成品率也很高。其是利用接合材料将堆叠的多个圆筒形靶材接合在圆筒形基体材料的外周面而形成的，其中，相邻的圆筒形靶材间具有间隔并且配置有分割部，且位于分割部的相邻圆筒形靶材外周面的段差为0.5mm以下。此种靶材是通过以下方式制造而获得的：在以圆筒形基体材料作为基准来配置圆筒形靶材时，将圆筒形靶材的外周面作为基准来固定圆筒形靶材。
圆筒形溅镀靶及其制造方法

[发明专利]一种阴极磁控溅射靶装置-CN201710386405.7有效
发明人：毛朝斌;罗超;范江华;舒勇东;佘鹏程;胡凡;彭立波 -专利权人：中国电子科技集团公司第四十八研究所
申请日： 2017-05-26 - 公布日： 2019-08-16 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开了一种阴极磁控溅射靶装置，包括磁性靶材及设于磁性靶材背面的磁体，所述磁性靶材正面设有矩形环状凹槽，所述磁性靶材背面设有与所述矩形环状凹槽对应的矩形环状凸起，所述磁体包括极性相反的中心磁体及外磁体，所述中心磁体设于所述矩形环状凸起的中心，所述外磁体设有四块并分设于所述矩形环状凸起的外周。本发明具有可加强靶材表面的磁场强度、提高靶材溅射的均匀性、减少更换靶材的频率、降低生产成本等优点。
靶材矩形环状凸起阴极矩形环状凹槽磁控溅射靶中心磁体外磁体靶材背面靶材表面极性相反均匀性溅射外周磁场分设

[发明专利]可旋转溅射靶材支撑圆柱、可旋转溅射靶材、制造可旋转溅射靶材的方法以及涂覆设备-CN200980142266.7无效
发明人：迈克尔·舍弗尔;罗兰·特拉斯里;刘健 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2009-10-23 - 公布日： 2011-09-21 - 主分类号： H01J37/34 文献下载
摘要：一种溅射设备的可旋转靶材装置，该可旋转靶材装置包括：可旋转靶材基座(4)，用于托持固体靶材圆柱(5)，该固体靶材圆柱具有内轴向面(54)、外轴向面(55)以及至少一个前面(56)，该前面连接该内轴向面与该外轴向面；其中该可旋转靶材基座包括弹性组件(23；230)、第一面(3)以及第二面(250；81)，该第一面适合该固体靶材圆柱的该内轴向面的形状，该第二面用以托持该固体靶材圆柱外部的该弹性组件。
旋转溅射支撑圆柱制造方法以及设备

[发明专利]提高镀膜靶材利用率的方法-CN201610619556.8有效
发明人：徐旻生;庄炳河;张永胜;满小花;曹志刚;吴远法;张雨龙 -专利权人：爱发科豪威光电薄膜科技（深圳）有限公司
申请日： 2016-07-29 - 公布日： 2018-12-11 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明涉及一种提高镀膜靶材利用率的方法，包括：在靶材宽度方向上确定位于靶材上的控制节点，所述控制节点包括相对于靶材宽度方向上的中心线对称设置的第一内控制节点和第二内控制节点以及相对于靶材宽度方向上的中心线对称设置的第一外控制节点和第二外控制节点；控制磁条在靶材上方按照从第一内控制节点出发、依次以第二外控制节点、第一外控制节点、第二内控制节点为控制节点实现磁条的反向移动，并最终回到第一内控制节点的移动时序路径进行周期性摇摆变速移动。本发明通过选定磁条移动时的各控制节点位置，并合理地设计磁条周期性摇摆变速移动时序，从而可使得靶材各处的蚀刻深度相对均匀，延长靶材使用寿命，有效提升了靶材整体利用率。
提高镀膜利用率方法

[实用新型]一种大面积玻璃镀膜用铌平面靶材-CN202022398072.X有效
发明人：刘军社 -专利权人：宝鸡市佳军金属材料有限公司
申请日： 2020-10-26 - 公布日： 2021-06-08 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种大面积玻璃镀膜用铌平面靶材，包括靶材，所述靶材的两侧分别连接有外框，且外框的内部连接有可将靶材进行更换的更换机构，本实用新型通过增加了更换机构，解决了喷涂大面积玻璃时拼接大面积的靶材时不稳定的问题，实现了拼接大面积靶材时保证了靶材的稳定性，增加了分隔板，保证了大面积靶材在拼接时缝隙不会过大或者过小，同时在喷涂玻璃时，可能因为喷涂的面积导致有的靶材先使用完成，可以通过更换机构单独对其中用完的靶材进行更换，在外框附近增加了通风管，可以使靶材在镀膜时可以进行散热，避免拼接口温度过高造成靶材损坏。
一种大面积玻璃镀膜平面

[实用新型]多弧离子镀膜机的电弧靶结构-CN201220127214.1有效
发明人：赵铭 -专利权人：广东友通工业有限公司
申请日： 2012-03-30 - 公布日： 2012-12-12 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本实用新型涉及离子镀膜设备技术领域，尤其是涉及多弧离子镀膜机的电弧靶结构，包括有靶材、引弧针，靶材为圆柱靶，靶材外周组设有可调屏蔽罩，可调屏蔽罩上设有外螺纹，所述引弧针安装在一活动轴上，引弧针的针尖设置在靶材的前端方向；靶材通过可调屏蔽罩上的外螺纹组装到一固定的外屏蔽罩之中部，且在靶材的后端接触一内部设有冷却水的水套座。本实用新型通过螺纹旋进旋出即可实现靶材的位置调整，提升靶材的利用率，且靶材为圆柱靶，通用性强，可做成多种金属靶，满足各种生产需要；设有水冷却，达到降温功效，有效防止高温烧坏的现象，提升靶材的使用寿命。
离子镀膜电弧结构

[实用新型]靶材固定结构-CN201220082526.5有效
发明人：张元铭;廖泯谚 -专利权人：张元铭;廖泯谚
申请日： 2012-03-07 - 公布日： 2012-11-21 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本实用新型是有关于一种靶材固定结构，包括：一靶材壳体，包括一壳主体及至少一外盖，该壳主体内具有一容置空间，该外盖是配置于该容置空间的一侧并构成一开口；一靶材，是设置于该靶材壳体的壳主体的容置空间内；一靶材固定组件，是配置于该壳主体的该容置空间内并固定该靶材；以及一绝缘件，是配置于该壳主体的该容置空间内，并将该靶材固定组件与该靶材壳体的壳主体绝缘；其中，该构成开口的靶材壳体的外盖的边缘是呈下述形状中的其中一种：一斜切状
固定结构

[实用新型]溅镀机阴极靶源结构-CN200420066879.1无效
发明人：蔡俊毅 -专利权人：蔡俊毅
申请日： 2004-06-21 - 公布日： 2005-10-26 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本实用新型有关一种溅镀机阴极靶源结构，主要将靶材固定于靶源外框上，而对应组设于真空腔体内，且靶源外框与大小材积的被镀物间的距离，可藉由于靶源外框周围增减垫材，而使被镀物与靶材间的溅镀距离处于理想范围，进而使溅镀的薄膜达到最佳状态
溅镀机阴极结构

[发明专利]溅射成膜装置-CN201180027118.8有效
发明人：矶部辰德;大野哲宏;佐藤重光;须田具和 -专利权人：株式会社爱发科
申请日： 2011-06-02 - 公布日： 2013-01-30 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：提供一种对靶材的溅射面整体进行溅射而提高靶材的使用效率并不会产生发弧的溅射成膜装置。包围导电性的靶材（211）的溅射面（231）的外周的防附着部件（251）由绝缘性的陶瓷形成。一边令磁体装置（261）在外周磁体（27a1）的外周整体进入溅射面（231）的外周的内侧的位置、和外周磁体（27a1）的外周的一部分伸出到溅射面（231）的外周的外侧的位置之间移动，一边在反应气体环境中对靶材靶材（211）的溅射面（231）整体被溅射，所以不会在靶材（211）上堆积绝缘性的化合物，不会产生发弧。
溅射装置

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