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[发明专利]高效隔离离子阱内离子的操作方法-CN201511001138.4有效
发明人：熊行创;方向;江游;龚晓云;黄泽建;刘梅英 -专利权人：中国计量科学研究院
申请日： 2015-12-28 - 公布日： 2017-10-24 - 主分类号： H01J49/42 文献下载
摘要：本发明提出了一种高效隔离离子阱内离子的操作方法。高效隔离离子阱内离子的操作方法是先共振激发碎裂指定离子的周边的离子，再隔离指定离子，共振激发出其他离子的方法。如此，实现既不损失被指定隔离的离子，又能有效将其他离子逐出离子阱。
高效隔离离子操作方法

[发明专利]基于线性离子阱梯度隔离策略的离子构象分布表征方法-CN202010357040.7有效
发明人：龚晓云;李畅;江游;楚士颖;尹欣驰;方向;戴新华 -专利权人：中国计量科学研究院
申请日： 2020-04-29 - 公布日： 2022-09-27 - 主分类号： G01N27/622 文献下载
摘要：本发明涉及一种基于线性离子阱梯度隔离策略的离子构象分布表征方法，S1，产生目标物离子；S2，将离子隔离，设定线性离子阱的初始隔离宽度；S3，获得初始隔离宽度下的信号强度值；S4，缩小隔离宽度，再次检测，获得对应隔离宽度下的信号强度值；S5，多次重复步骤S4，直至隔离宽度缩小至定值或小于定值时停止重复；S6，获得相对信号强度；S7，对相对信号强度取对数值，并将所得的对数值对相应的隔离宽度作图，得到最终谱图该方法将目标离子隔离在线性离子阱中，通过改变隔离宽度，使具有不同构象的离子随着隔离宽度缩小顺次逐出离子阱，对在不同隔离宽度下留在阱中的离子数量进行测量汇总成谱图。由此，便获得了目标离子的构象分布图。
基于线性离子梯度隔离策略构象分布表征方法

[发明专利]一种抗爬电高能离子模块-CN202210251497.9在审
发明人：陈玉明 -专利权人：嘉兴本泰环保科技有限公司
申请日： 2022-03-15 - 公布日： 2022-05-17 - 主分类号： H01T23/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种抗爬电高能离子模块，属于离子净化器技术领域，旨在提供一种抗爬电且能自动消除凝露的高能离子模块，包括基座、安装板、离子管、隔离组件，隔离组件包括隔离管头、密封垫、隔离座及隔离垫片，隔离管头与离子管连接，隔离座插接于安装板上，且隔离座和隔离垫片分别置于安装板两侧，密封垫置于隔离管头和隔离座之间，隔离管头、隔离座及隔离垫片连接并固定于安装板上，隔离管头、隔离座及隔离垫片均由陶瓷构成。
一种抗爬电高能离子模块

[发明专利]离子阱质谱仪的离子隔离方法、系统及介质-CN202111573135.3在审
发明人：薛兵;孙露露;路同山;胡波;唐朝阳;王玉涵;罗勇;李飞;陈延龙 -专利权人：上海裕达实业有限公司
申请日： 2021-12-21 - 公布日： 2022-04-22 - 主分类号： H01J49/02 文献下载
摘要：本发明提供一种离子阱质谱仪的离子隔离方法、系统及介质，涉及质量分析技术领域，包括：离子引入步骤：打开离子阱的离子门，将质谱仪的后端盖置于预设电位，捕捉离子；离子囚禁步骤：关闭离子门，捕捉的离子稳定在离子阱中心区域；离子隔离步骤：根据正电压所占DDS数量和/或隔离时间，获取母离子质荷比m/z、隔离质量数范围以及母离子隔离效率值中的任一种或任多种；隔离冷却步骤：将离子置于预设值处，根据预设隔离冷却时间对离子进行冷却；离子清空步骤：在离子阱电极上施加预设占空比，完成离子清空。本发明硬件要求低，通过调节数字矩形波主射频的占空比，就可在离子阱中产生等效的“四极直流”，无需额外高精度高稳定性的硬件直流电路。
离子质谱仪隔离方法系统介质

[发明专利]一种显示器件的隔离子层的制作方法、彩膜基板和显示面板-CN201810528125.X在审
发明人：聂晓辉;张嘉伟 -专利权人：武汉华星光电技术有限公司
申请日： 2018-05-29 - 公布日： 2018-11-16 - 主分类号： G02F1/1362 文献下载
摘要：本发明提供一种显示器件的隔离子层的制作方法、彩膜基板和显示面板。其中，该隔离子层的制作方法包括：在显示器件的彩膜基板的玻璃基板的非显示区上制作多个第一隔离子和第二隔离子，所述第二隔离子所处区域与所述显示器件的阵列基板的静电释放器件所处区域相对顶；其中，使所述第二隔离子的高度小于所述第一隔离子的高度本发明通过使得第一隔离子的位置和高度保持不变，而改变第二隔离子的高度，使得第一隔离子和第二隔离子与阵列基板不同位置膜层之间的距离保持一致，降低了切割过程中基板形变时重掺杂多晶硅释放器件区域的应力，防止切割导致的膜裂
隔离子显示器件彩膜基板显示面板阵列基板制作切割静电释放器件重掺杂多晶硅玻璃基板非显示区高度保持基板形变距离保持器件区域切割过程良率膜层膜裂制程释放

[发明专利]一种等离子处理装置，处理方法-CN201810674391.3在审
发明人：不公告发明人 -专利权人：南通沃特光电科技有限公司
申请日： 2018-06-27 - 公布日： 2018-11-16 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供了一种等离子处理装置，等离子处理方法，所述等离子处理装置包括：等离子体发生腔、抽气腔、气体隔离腔，所述气体隔离腔分别与等离子体发生腔以及抽气腔均为同心筒状设置，气体隔离腔通过隔离气体进气口通入隔离气体；隔离气体喷出口，所述隔离气体喷出口的个数为多个，并均匀设置；隔离气体整流杯，用于控制隔离气体的喷出方向，所述处理气体喷出口设置在所述隔离气体整流杯内部；所述等离子处理方法能够在大气环境中进行等离子体处理，能够解决怕空气中氧气、水汽等对处理气体发生反应或对于有害的处理气体，需要对处理气体进行隔离，能够控制隔离气体的流向、喷出等离子体处理气体的流向，进一步提高对处理气体的隔离。
隔离气体处理气体等离子处理装置气体隔离喷出口等离子体处理等离子体发生等离子处理控制隔离抽气腔整流杯进气口隔离大气环境均匀设置喷出方向水汽同心筒喷出氧气

[实用新型]一种抗爬电高能离子模块-CN202220563735.5有效
发明人：陈玉明 -专利权人：嘉兴本泰环保科技有限公司
申请日： 2022-03-15 - 公布日： 2022-08-16 - 主分类号： H01T23/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种抗爬电高能离子模块，属于离子净化器技术领域，旨在提供一种抗爬电且能自动消除凝露的高能离子模块，包括基座、安装板、离子管、隔离组件，隔离组件包括隔离管头、密封垫、隔离座及隔离垫片，隔离管头与离子管连接，隔离座插接于安装板上，且隔离座和隔离垫片分别置于安装板两侧，密封垫置于隔离管头和隔离座之间，隔离管头、隔离座及隔离垫片连接并固定于安装板上，隔离管头、隔离座及隔离垫片均由陶瓷构成。
一种抗爬电高能离子模块

[发明专利]一种用于质谱仪的高分辨隔离目标离子的方法-CN202211120157.9在审
发明人：钱翔;丁欣悦;余泉;王晓浩 -专利权人：清华大学深圳国际研究生院
申请日： 2022-09-15 - 公布日： 2022-12-27 - 主分类号： H01J49/06 文献下载
摘要：一种用于质谱仪的高分辨隔离目标离子的方法，包括如下步骤：S1、根据被隔离离子的运动频率确定SWIFT波形；S2、在所述SWIFT波形上叠加正弦波形得到SWIFTSIN隔离波形，其中所述正弦波形的频率对应被隔离离子临近离子的运动频率；S3、在质谱仪上施加所述SWIFTSIN隔离波形，其中，通过所述SWIFTSIN隔离波形中的所述SWIFT波形完成粗隔离过程，将距离目标离子较远质荷比的离子激发掉而留下目标离子及邻近质荷比的离子，其中，通过所述SWIFTSIN隔离波形中的所述正弦波形完成对被隔离离子临近离子的激发。
一种用于质谱仪分辨隔离目标离子方法

[发明专利]一种用厚膜介质作为隔离子的场致发射显示结构-CN201210082091.9有效
发明人：张永爱;郭太良;周雄图;叶芸;胡利勤;曾祥耀 -专利权人：福州大学
申请日： 2012-03-27 - 公布日： 2012-07-25 - 主分类号： H01J29/02 文献下载
摘要：本发明提供了一种用厚膜介质作为隔离子的场致发射显示结构及其制作方法，场致发射显示结构由阴极基板和阳极基板组成，所述的阴极基板和阳极基板之间设有厚膜介质隔离子，隔离子设置于阴极基板的玻璃基底上，隔离子与玻璃基底牢固粘在一起成一整体隔离子在水平方向和竖直方向上均匀间隔排列，在水平和竖直方向上相邻隔离子之间的距离均为10-50mm。所述的场致发射显示结构有二极结构、三极结构和多极结构。本发明可以实现场致发射显示结构所用的隔离子图形化，避免了制作隔离子时的复杂安装工艺，解决了隔离子放置存在对位不准的问题，并且使原来分立的隔离子装配问题得到了解决，降低工艺难度，增加器件性能的稳定性。
一种用厚膜介质作为隔离发射显示结构

[发明专利]一种显示面板及其制备方法、显示装置-CN202010124599.5在审
发明人：陈善韬 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2020-02-27 - 公布日： 2020-06-23 - 主分类号： H01L51/52 文献下载
摘要：本申请实施例提供的一种显示面板，所述显示面板包括：衬底，位于所述衬底之上的像素定义层，位于所述像素定义层之上的阴极隔离结构；所述阴极隔离结构至少包括：第一隔离子层，以及位于所述像素定义层和所述第一隔离子层之间的第二隔离子层；所述第二隔离子层的横截面小于所述第一隔离子层的横截面，且所述第二隔离子层在所述衬底的正投影的边界落入所述第一隔离子层在所述衬底的正投影内。
一种显示面板及其制备方法显示装置

[发明专利]电感耦合等离子体装置及半导体薄膜设备-CN202210002453.2有效
发明人：余先炜;田才忠;林保璋 -专利权人：盛吉盛（宁波）半导体科技有限公司
申请日： 2022-01-05 - 公布日： 2022-04-08 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明公开了一种电感耦合等离子体装置及半导体薄膜设备，该电感耦合等离子体装置包括：等离子体装置本体和隔离盖板，隔离盖板盖设于等离子体装置本体上；隔离盖板包括：隔离盖板本体；凸起结构，设置于隔离盖板本体朝向电感耦合等离子体装置腔室内的内侧面上；凸起结构与隔离盖板本体同轴设置，以使得隔离盖板中心的厚度大于隔离盖板边缘的厚度。本发明通过在电感耦合等离子体装置的隔离盖板朝向腔室内侧的一面增加凸起结构，在不改变电感耦合等离子体装置的天线等装置的情况下，改变电感耦合等离子体装置腔室内的电场强度分布，进而通过磁场强度分布的调整来使得腔室内的等离子体径向分布的均匀性
电感耦合等离子体装置半导体薄膜设备

[发明专利]鳍式场效应晶体管的形成方法-CN201510532179.X有效
发明人：周飞 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
申请日： 2015-08-26 - 公布日： 2019-07-02 - 主分类号： H01L21/336 文献下载
摘要：一种鳍式场效应晶体管的形成方法，包括：提供有离子注入区和非离子注入区的半导体衬底，离子注入区的半导体衬底具有鳍部；形成位于鳍部两侧的半导体衬底表面的过渡隔离结构，过渡隔离结构的整个表面低于鳍部的顶部表面且高于待形成的目标隔离结构表面；形成过渡隔离结构后，形成覆盖非离子注入区的离子注入阻挡层，离子注入阻挡层暴露整个离子注入区；以离子注入阻挡层为掩膜，采用第二离子注入在离子注入区的过渡隔离结构中注入第二离子，且使得第二离子扩散进入过渡隔离结构侧部的鳍部中；然后去除离子注入阻挡层；去除离子注入阻挡层后，去除部分过渡隔离结构，形成目标隔离结构。
场效应晶体管形成方法

[发明专利]隔离结构的形成方法-CN201610536767.5有效
发明人：周飞 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
申请日： 2016-07-08 - 公布日： 2020-03-10 - 主分类号： H01L21/3105 文献下载
摘要：一种隔离结构的形成方法，包括：提供基底，基底包括衬底以及凸出于衬底的鳍部；在相邻鳍部之间的衬底上形成初始隔离层，初始隔离层覆盖鳍部；去除第一厚度的初始隔离层形成过渡隔离层；在凸出于过渡隔离层的鳍部侧壁上形成阻挡层；以阻挡层为掩膜对过渡隔离层进行离子掺杂工艺，掺杂离子为刻蚀抑制离子；去除阻挡层；去除阻挡层后，去除第二厚度的过渡隔离层形成隔离结构。本发明在凸出于过渡隔离层的鳍部侧壁上形成阻挡层后，以阻挡层为掩膜对过渡隔离层进行离子掺杂工艺，掺杂离子为刻蚀抑制离子，避免凸出于过渡隔离层的鳍部和过渡隔离层的拐角处，隔离结构具有足部，从而使隔离结构的顶部形貌趋于平面
隔离结构形成方法

[实用新型]炉头及电焰灶-CN201921200185.5有效
发明人：卢驭龙 -专利权人：深圳驭龙电焰科技有限公司
申请日： 2019-07-26 - 公布日： 2020-05-19 - 主分类号： F24C7/06 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种炉头，包括底座、安装于底座的离子针、与底座相连且环绕离子针设置的隔离罩，以及安装于隔离罩的顶部且用于与锅接触的支撑环；底座开设有适配于隔离罩的隔离槽，隔离罩安装于隔离槽内，隔离罩与隔离槽的内壁相抵接将隔离罩选为绝缘罩，底座选为绝缘座，因此离子针与隔离罩及底座之间均不易于产生高压拉弧，不会将离子针处的高压引导至底座及隔离罩处，也即不会将离子针处的高压引导至边缘处，进而有效避免了将离子针处的高压引导至炉头的外部，实现了对炉头内的高电压的初步隔离。隔离罩以嵌入的方式安装于隔离槽内，进而增加了炉头内的高压通过爬电的方式向外传播，进一步对炉头内的高压进行隔离。
电焰灶

[发明专利]用于等离子体室的隔离栅网-CN201780049926.1有效
发明人：维贾伊·M·瓦尼亚普拉;马绍铭;弗拉迪米尔·纳戈尔尼;赖恩·M·帕库尔斯基 -专利权人：玛特森技术公司;北京屹唐半导体科技股份有限公司
申请日： 2017-05-10 - 公布日： 2022-11-01 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：提供了用于等离子体处理装置的隔离栅网。在一些实施方案中，等离子体处理装置包括等离子体室。等离子体处理装置包括处理室。处理室可以与等离子体室隔开。该装置可以包括隔离栅网。隔离栅网可以将等离子体室与处理室隔开。该装置可以包括温度控制系统。温度控制系统可以配置成调节隔离栅网的温度以影响对基底的等离子体处理的均匀性。在一些实施方案中，隔离栅网可以在隔离栅网的整个截面上具有变化厚度的轮廓，以影响中性物质的通过隔离栅网的流动。
用于等离子体隔离

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