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[发明专利]基于超材料的光忆阻片-CN201410852437.8在审
发明人：周济;吴红亚 -专利权人：清华大学
申请日： 2014-12-31 - 公布日： 2015-06-03 - 主分类号： H01L45/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于超材料的波导式光忆阻片。该光忆阻片，包括光忆阻和填充介质；其中，所述光忆阻位于所述填充介质内；所述光忆阻的个数至少为一个。该波导式光忆阻片的透射率在电磁场的加载下表现出有高低透射率的变化，并具有记忆效应。该波导式光忆阻片可以用作一种光学元器件，使现有的光路设计更富有功能性，能使光学产品，如矢量网络分析仪等，向功能更丰富的方向发展，且便于插取。该波导式光忆阻片的制造方法简单，成本低，具有重要的应用价值。
基于材料光忆阻片

[实用新型]一种新型漂浮式光伏背板及光伏组件-CN202220737055.0有效
发明人：林建伟;张付特;曾金栋;李胜 -专利权人：苏州中来光伏新材股份有限公司
申请日： 2022-03-31 - 公布日： 2022-08-23 - 主分类号： H01L31/049 文献下载
摘要：本实用新型涉及光伏背板技术领域，提供一种新型漂浮式光伏背板及光伏组件，该新型漂浮式光伏背板，包括阻水基层；阻水基层的表面固定连接有泡棉层，用于使新型漂浮式光伏背板漂浮于水面；阻水基层为聚丙烯阻水基层。该新型漂浮式光伏背板，在阻水基层的表面固定连接有泡棉层，因此无需额外设置其他复杂的辅助设备，即能使该漂浮式光伏背板及光伏组件在水面上实现漂浮，能简化漂浮式光伏电站的结构，大大降低漂浮式光伏电站的安装成本和投入成本；而且，该聚丙烯阻水基层的重量轻、绝缘、且能隔绝水和水蒸气；因此通过聚丙烯阻水基层与泡棉层的协同配合，能使采用该漂浮式光伏背板的光伏组件很好的漂浮于水面上，有利于促进漂浮式光伏电站的发展。
一种新型漂浮式光伏背板组件

[实用新型]COF Film生产用狭缝式挤压光阻涂布结构-CN201921722612.6有效
发明人：薛红伟;陈杰 -专利权人：合肥奕斯伟材料技术有限公司
申请日： 2019-10-15 - 公布日： 2020-04-17 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种COF Film生产用狭缝式挤压光阻涂布结构，属于COF Film生产领域，包括滚筒(4)，所述COF Film生产用狭缝式挤压光阻涂布结构还包括光阻挤出结构(2)，该光阻挤出结构(2)包括光阻挤出通道(3)，该光阻挤出通道(3)一端为光阻挤出口(6)，光阻挤出口(6)与滚筒(4)的边缘之间形成间隙(7)。本实用新型的COF Film生产用狭缝式挤压光阻涂布结构有效避免光阻厚度周期性波动的状况，从而减少对后续显影工序和刻蚀工序的影响，不但降低了线粗线细导致的报废率，还杜绝了断胶，以及提高了涂布精度，减少了光阻消耗
cof film 生产狭缝压光阻涂布结构

[实用新型]全干式阻水型抗侧压防鼠咬光缆-CN201921931789.7有效
发明人：吴卓君 -专利权人：江苏宏图高科技股份有限公司
申请日： 2019-11-11 - 公布日： 2020-08-18 - 主分类号： G02B6/44 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种全干式阻水型抗侧压防鼠咬光缆，包括：中心加强件；若干个全干式光单元，各全干式光单元分别依次周向均匀绕设在中心加强件的外部；阻水层，阻水层包裹在所有全干式光单元的外侧；综合内护层，综合内护层包裹在阻水层的外侧；防鼠外护层，防鼠外护层包裹在综合内护层的外侧；阻水填充件，阻水填充件均匀填充在各全干式光单元与阻水层之间的间隙内。本实用新型提供的全干式阻水型防鼠光缆更加环保、具有纵向阻水功能、具有良好的径向阻水和抗侧压功能，可以有效的防止老鼠持续啃咬，可以防止因为老鼠的啃咬造成水汽浸入的破坏。
全干式阻水型抗侧压防鼠咬光缆

[发明专利]晶圆转速的确定方法-CN201810840379.5有效
发明人：卞玉洋;官锡俊;杨正凯 -专利权人：上海华力集成电路制造有限公司
申请日： 2018-07-27 - 公布日： 2020-07-31 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明涉及一种晶圆转速的确定方法，涉及半导体集成电路制造技术，在不同的晶圆转速下进行光阻涂覆，选择晶圆上的多个量测点，并分别量测所述多个量测点在所述不同晶圆转速下的光阻厚度，得到在所述不同晶圆转速下所述多个量测点处的光阻厚度的实验数据，根据上述实验数据得到得到所述多个量测点处的光阻厚度与每一晶圆转速下光阻厚度最小值的差值与晶圆转速的变化曲线，进而建立光阻厚度与光阻厚度最小值的差值与晶圆转速的函数关系式，根据光阻厚度与光阻厚度最小值的差值与晶圆转速的函数关系式式及实际中对晶圆上光阻厚度的要求得到较佳的晶圆转速，不需要重复试验，节省光阻，缩短了喷涂程式指定的周期。
转速确定方法

[发明专利]一种基于超材料的波导式光忆阻器-CN201410850612.X在审
发明人：周济;吴红亚 -专利权人：清华大学
申请日： 2014-12-31 - 公布日： 2015-05-06 - 主分类号： G02B6/122 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于超材料的波导式光忆阻器。该光忆阻器，包括光忆阻、波导、传输线和填充介质；其中，所述光忆阻位于所述波导内，所述波导内的剩余空间填充所述填充介质；所述传输线位于所述波导外，且分别与所述波导的两端相连；所述光忆阻的个数至少为一个。该波导式光忆阻器的透射率在电磁场的加载下表现出有高低透射率的变化，并具有记忆效应。该波导式光忆阻器可以用作一种光学元器件，使现有的光路设计更富有功能性，能使光学产品，如矢量网络分析仪等，向功能更丰富的方向发展。
一种基于材料波导式光忆阻器

[发明专利]光阻剥离液组成物及使用其剥离光阻的方法-CN201080034160.8有效
发明人：朴勉奎;金泰熙;金正铉;李承傭;金炳默 -专利权人：东友FINE-CHEM股份有限公司
申请日： 2010-08-10 - 公布日： 2012-05-23 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明涉及一种光阻剥离液组成物及使用其剥离光阻的方法。该光阻剥离液组成物具有很好的移除光阻图案及干式蚀刻和湿式蚀刻残渣的能力，并且，由于该光阻剥离液组成物含有特定的多元醇化合物，其对包括铝及/或铜的金属配线具有优异的抗蚀性。另外，该光阻剥离液组成物，由于含有特定的酰胺化合物，可处理许多的基板，因此非常有助于降低成本。
剥离组成使用方法

[发明专利]多阶段烘烤光阻以改善光刻品质的方法-CN02121962.1有效
发明人：蔡文彬 -专利权人：旺宏电子股份有限公司
申请日： 2002-05-29 - 公布日： 2003-12-24 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：一种多阶段烘烤光阻以改善光刻品质的方法，先涂布光阻于晶片上，再进行曝光前烘烤光阻，然后曝光图案于光阻之上，再进行多阶段式烘烤光阻，显影光阻及显影后的烘烤光阻。本发明亦可使用于光阻的曝光前烘烤或光阻显影后的烘烤，对光阻进行多阶段式烘烤，使光阻逐步达到预定的硬化程度。其中上述的多阶段式烘烤光阻包含至少二阶段式烘烤光阻或连续升温烘烤光阻的方式。本发明利用多阶段的烘烤方式，可改善烘烤的裕度及较佳的光阻轮廓，使工艺的良率提升。
阶段烘烤改善光刻品质方法

[发明专利]双层光阻的形成方法及其应用-CN03107298.4无效
发明人：张庆裕 -专利权人：旺宏电子股份有限公司
申请日： 2003-03-21 - 公布日： 2004-09-29 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种双层光阻的形成方法及其应用；双层光阻的形成方法是首先在一基体上，形成图案化的一第一光阻层；接着，固化该第一光阻层，使该第一光阻层不溶于光阻溶剂；最后，在被固化的该第一光阻层上，形成图案化的一第二光阻层；此双层光阻的形成方法还可以应用于罩幕式只读存储器的编码、孔洞的形成、以及双镶嵌结构。
双层形成方法及其应用

[实用新型]一种光阻瓶更换装置-CN201320109794.6有效
发明人：岳力挽;邢滨 -专利权人：中芯国际集成电路制造（北京）有限公司
申请日： 2013-03-11 - 公布日： 2013-07-31 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本实用新型提供一种光阻瓶更换装置，该更换装置至少包括：主架和用于辅助更换光阻瓶的抽屉式侧架；所述主架包括主架底板、位于主架底板边缘上的主架侧壁和一个活动挡板；所述主架底板设置有空心层，所述空心层侧面具有一个入口；所述抽屉式侧架包括侧架底板和位于侧架底板边缘上的侧架侧壁，所述侧架底板从空心层的入口推入；藉由所述抽屉式侧架将光阻瓶推到主架上。本实用新型提供的光阻瓶更换装置，通过在主架上设计一抽屉式的侧架，可方便地进行光阻瓶的更换，避免操作员搬运光阻瓶时失误导致泵管脱落而使光阻受到污染。
一种光阻瓶更换装置

[实用新型]浸润式光阻涂布装置-CN201922183973.4有效
发明人：林刘恭 -专利权人：光群雷射科技股份有限公司
申请日： 2019-12-09 - 公布日： 2020-08-04 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本实用新型有关于一种浸润式光阻涂布装置，用于将一全像图图案转移至一饰材，浸润式光阻涂布装置包括：一基座、装有光阻材料的一容器及一圆柱形滚轮。其中第一致动构件能使圆柱形滚轮与容器产生一相对位移，且在光阻材料以浸润式涂布于圆柱形滚轮后的状态下，第一致动构件能于容器中或容器外旋转圆柱形滚轮，以将光阻材料均匀涂布至圆柱形滚轮上。本实用新型的浸润式光阻涂布装置，可使光阻材料涂布地更均匀且缩短制作时间。
浸润式光阻涂布装置

[发明专利]碟片原版制作方法-CN200510005232.7无效
发明人：蔡正原 -专利权人：精碟科技股份有限公司
申请日： 2005-02-01 - 公布日： 2006-08-09 - 主分类号： G11B7/26 文献下载
摘要：本发明是关于一种碟片原版制作方法，其是包括在一基板上进行干式清洗、涂布一光阻层在基板之上、激光刻版并显影光阻层、以及形成一金属层于光阻层。因依本发明的碟片原版制作方法，是在光阻涂布前进行干式清洗基板。利用电浆进行基板的干式清洗，不需要利用大量的水资源来进行清洗，即可使得原来附着在基板上的污染物被清除，以利光阻层的涂布，故能节省宝贵的水资源。而且，利用干式清洗并不会使得基板的表面带电荷，故可减少基板再次吸附污染物质。除了污染物质被去除可提升基板与光阻层之间的接合能力之外，利用电浆干式清洗也可使基板的表面稍微变得粗糙，故也能提升基板与光阻层之间的接着(adhesion)能力。
碟片原版制作方法

[发明专利]表面起伏式绕射光学元件及其制作方法-CN97103984.4无效
发明人：蔡忠杰 -专利权人：财团法人工业技术研究院
申请日： 1997-04-11 - 公布日： 2000-11-08 - 主分类号： G02B3/08 文献下载
摘要：一种表面起伏式绕射光学元件及其制作方法包括下列步骤（１）利用一种渐进式（或多层次）光折射率系数分布镀膜技术，在基板上镀上一层渐进光折射率系数分布膜，使光束经过时产生光程差，再以光阻涂布，然后以光罩制版或以激光直接干涉的方式，直接在光阻上拍摄出所需之绕射条纹；（２）经显影、定影而将所需之绕射条纹形成于光阻上；（３）利用前述光阻做为光罩，对渐进式（或多层次）光折射率系数分布膜进行蚀刻，借以在前述的分布膜上形成绕射条纹，最后去除光阻
表面起伏式绕射光学元件及其制作方法

[发明专利]无膜式干式光阻曝光制程-CN202210218916.9在审
发明人：李家铭 -专利权人：广州君杰电子科技有限公司;李家铭
申请日： 2022-03-04 - 公布日： 2023-09-12 - 主分类号： H05K3/06 文献下载
摘要：本申请提供一种无膜式干式光阻曝光制程，包括：在一电路基板的一铜箔层上形成至少一镀铜层；在该镀铜层表面形成一光阻层，该光阻层被形成于该镀铜层表面前是被涂布于一PET膜；移除该PET膜；对该光阻层进行曝光处理，使该光阻层一部份成为保留区且另一部份成为待移除区；将该待移除区的光阻层移除而裸露其原先覆盖的所述镀铜层；以蚀刻液移除裸露的所述镀铜层及所述裸露的镀铜层原先覆盖的所述铜箔层；以及移除该保留区的光阻层。
无膜式干式光阻曝光

[发明专利]浸没式微影制程以及应用于浸没式微影制程的结构-CN200310121326.1有效
发明人：张尚文;刘家助;陈家桢 -专利权人：联华电子股份有限公司
申请日： 2003-12-11 - 公布日： 2005-06-15 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明涉及一种浸没式微影制程，首先在材料层上形成有光阻层，并且在光阻层上形成有阻隔层。接着，进行浸没式曝光步骤，以在光阻层中形成有曝光区以及未曝光区。之后，进行处理步骤，以改变光阻层曝光区上方的阻隔层的性质。随后，进行显影步骤，以移除光阻层曝光区及其上方的阻隔层。由于本发明在光阻层顶部覆盖有阻隔层，因此在进行浸泡式曝光步骤时，光阻层中物质就不会扩散至浸没液中而造成污染。而且，上述阻隔层可以在进行显影步骤中一并图案化，因此可以省去移除阻隔层的步骤，进而简化制程。
浸没式微影制程以及应用于结构

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