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[发明专利]眼底摄像方法和眼底摄像设备-CN201110430451.5有效
发明人：野里宏治 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2011-12-20 - 公布日： 2012-07-11 - 主分类号： A61B3/14 文献下载
摘要：该眼底摄像设备包括：像差测量单元，用于测量通过利用测量光照射被检体所获得的反射光的像差；像差校正单元，用于根据测量出的像差来校正光的像差；控制单元，用于对像差测量单元和像差校正单元所进行的处理进行重复控制；以及改变单元，用于根据像差测量单元所获得的测量结果和控制单元所获得的控制结果的至少之一，将表示像差的预定阶次的第一函数改变为包括比预定阶次高的阶次的第二函数。像差校正单元校正由第二函数所表示的像差。
眼底摄像方法设备

[发明专利]带有同时变量的像差校正的光学器件-CN201080044115.0有效
发明人： A·N·西蒙诺夫;M·C·罗姆巴赫 -专利权人：爱克透镜国际公司
申请日： 2010-08-16 - 公布日： 2012-07-04 - 主分类号： G02B27/64 文献下载
摘要：本发明涉及一光学系统，包括至少两个光学元件，其中的至少一个相对于其他在垂直于该光学系统的光轴方向是可移动的，其中这些光学元件的组合适用于同时校正至少两个不同阶的可变像差，其校正程度取决于该些光学元件的相对位置这个光学系统适用于校正像差，像差是可变的和取决于透镜相对于主体/成像平面的位置。进一步，该光学系统适用于校正像差变化以及该系统的散焦。这些像差可以包括意味着散焦和像散的第二阶像差，意味着慧星形和和三叶形的第三阶像差，例如球形像差的第四阶像差和进一步更高阶像差项。
带有同时变量校正光学器件

[发明专利]六阶及以上校正STEM多极校正器-CN202011306965.5在审
发明人： A·亨斯特拉;P·C·泰梅杰尔;M·尼斯塔特 -专利权人： FEI公司
申请日： 2020-11-20 - 公布日： 2021-05-25 - 主分类号： H01J37/10 文献下载
摘要：六阶及以上校正STEM多极校正器。根据本公开，用于校正带电粒子显微镜系统中的粒子光学透镜的轴向像差的校正器包含：第一初级多极，当将第一激励施加到所述第一初级多极时，所述第一初级多极产生第一初级多极场；以及第二初级多极，当将第二激励施加到所述第二初级多极时所述第一初级多极并未被成像到所述第二初级多极上，从而产生了组合四阶像差。所述校正器进一步包含用于校正所述四阶像差和六阶像差的次级多极。此类校正器可以进一步包含用于校正八阶像差的三级多极。
以上校正 stem 多极

[发明专利]经过波前优化的渐进镜片-CN201080068080.4有效
发明人： R.S.施普拉特;D.迈斯特;T.克拉策尔 -专利权人：卡尔蔡斯光学公司;卡尔蔡斯光学国际有限公司
申请日： 2010-09-30 - 公布日： 2013-05-01 - 主分类号： G02C7/02 文献下载
摘要：一种用于设计渐进镜片的方法，所述方法包括：获得眼睛的波前测量结果，其中所述波前测量结果包括关于眼睛的二阶像差的信息以及关于眼睛的更高阶像差的信息；基于波前测量结果来确定针对渐进镜片的最初的设计，其中所述最初的设计针对镜片上的一个或多个点包括关于渐进镜片的二阶像差和渐进镜片的更高阶像差的信息，其中所述最初的设计在缺乏眼睛的更高阶像差的情况下提供针对眼睛的目标矫正；基于从波前测量结果推出的信息，确定关于眼睛的一个或多个更高阶像差的改变如何影响针对眼睛的像差的二阶矫正的信息；修改渐进镜片的最初的设计，以提供最终的渐进镜片设计，其中修改是矫正的由于最初的渐进镜片设计的一个或多个更高阶相差引起的期望的偏离目标矫正的原因，并且修改是关于眼睛的一个或多个更高阶像差的改变如何影响针对眼睛的像差的二阶矫正的信息的原因
经过优化渐进镜片

[发明专利]基于二阶像差模型的投影物镜波像差检测方法-CN201210253385.3有效
发明人：杨济硕;王向朝;闫观勇;徐东波 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2012-07-20 - 公布日： 2012-11-07 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种基于二阶像差模型的投影物镜波像差检测方法，该方法利用主成分分析和多元线性回归分析的方法，建立了空间像光强分布与泽尼克系数之间的二阶关系模型，并利用非线性最小二乘法，优化算得表征投影物镜成像质量的波像差值与基于空间像主成分分析的线性关系模型（AMAI-PCA）相比，本发明拓展了测量像差的幅值范围，当波像差幅值相等时，本发明拥有更高的测量精度。
基于二阶像差模型投影物镜波像差检测方法

[发明专利]与光学元件的光学区域相关的方法和设备-CN03801614.1无效
发明人：格里菲斯·E·阿尔特曼 -专利权人：博士伦公司
申请日： 2003-09-10 - 公布日： 2005-03-16 - 主分类号： A61B3/107 文献下载
摘要：本发明涉及在大于像差典型受限测量区域的光学区域中确定光学元件的高阶像差。其可以由本发明的设备、系统和方法实现，优选地，通过像差测量而获得的泽尼克多项式数据被拟合成圆锥函数。该圆锥函数在测量区域与光学区域之间平滑且连续地增加或减小，以使数据能够被外推，从而精确地确定光学区域的像差。根据本发明，多个呈方位角变化的独立圆锥加零阶圆柱形截面可以非常精确地描绘由散焦、散光、球面像差、二级散光和四叶草形像差构成的波前像差。对彗形像差项和三叶草形像差项所作描绘不是同样地好，因为它们以径向分量的三阶的形式变化。然而，描绘误差相对较小。一个倾斜项被加入，以计算彗形像差项和三叶草形像差项的倾斜分量。
光学元件区域相关方法设备

[发明专利]客观式显然验光-CN02808490.X有效
发明人：格哈德·优素非;弗里德里克·莫里茨 -专利权人：博士伦公司
申请日： 2002-03-18 - 公布日： 2004-07-28 - 主分类号： A61B3/103 文献下载
摘要：一种用于提供客观的患者眼睛的显然验光方法，包括获得至少四阶Zernike波前像差信息；仅用二阶多项式拟合所述至少四阶数据；并使用该信息，用逼近患者的主观式显然验光的精度来预测患者的显然验光。根据本发明的显示器包括更高阶波前像差，更低阶波前像差，预测显然验光的数字标记和定量评估患者视觉质量的图像。描述了一种用于获得客观式显然验光的装置。
客观显然验光

[发明专利]聚光光学系统、激光加工方法和装置以及脆性材料的制造方法-CN200780044321.X有效
发明人：绵谷研一;布施敬司;小林丰 -专利权人：住友电气工业株式会社;住友电工硬质合金株式会社
申请日： 2007-11-29 - 公布日： 2009-09-23 - 主分类号： B23K26/08 文献下载
摘要：该聚光光学系统以预定的焦距会聚由激光源生成的激光束并且设计成满足表达式(a)～(d)，由此产生第三阶和第五阶球面像差：(a)|Z₈|≥0.1λ或|Z₁₅|≥0.05λ8/Z₁₅＜1，(c)|Z₈|＜1.4λ，并且(d)|Z₁₅|＜0.5λ，其中，λ是波长，Z₈是波前像差的泽尼克条纹多项式系数中与第三阶球面像差对应的第八项系数，Z₁₅是波前像差的泽尼克条纹多项式系数中与第五阶球面像差对应的第十五项系数。
聚光光学系统激光加工方法装置以及脆性材料制造

[发明专利]拍摄装置、图像再现装置、图像打印装置、拍摄装置的控制方法、图像再现装置的图像校正方法、以及图像打印装置的图像校正方法-CN200780036914.1无效
发明人：小田守;西垣智夫 -专利权人：夏普株式会社
申请日： 2007-10-04 - 公布日： 2009-09-02 - 主分类号： H04N5/225 文献下载
摘要：在以往的技术中，在拍摄装置本身进行像差校正处理的情况下，拍摄装置本身需要高度的处理能力和大存储容量。此外，由于像差校正的对象为从模拟胶片通过扫描仪等而读取的图像数据，所以存在关于在模拟胶片上失去色阶的部分以失去其色阶的情况下执行校正的课题。为了解决以上的课题，本发明提供一种拍摄装置，其能够对通过数字拍摄元件拍摄的图像嵌入像差校正用的信息作为Exif格式的标识数据之后发送到图像再现装置，在图像再现装置中进行像差校正处理。具体地说，拍摄装置包括：拍摄图像的拍摄单元；保持单元，保持作为表示拍摄单元的透镜的像差的信息的像差信息；以及发送单元，将所保持的像差信息发送到拍摄的图像的再现装置。
拍摄装置图像再现打印控制方法校正以及

[发明专利]一种基于维恩分析器校正二阶像差的设计方法-CN202010717980.2有效
发明人：康永锋;常飞浩;胡航锋;赵静宜 -专利权人：西安交通大学
申请日： 2020-07-23 - 公布日： 2021-11-19 - 主分类号： H01J37/147 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于维恩分析器校正二阶像差的设计方法，针对有偏转系统的存在时，此时沿着光轴附近将场函数做级数展开分析系统电子光学特性，能够分析因偏转带来的二阶像差。针对整个成像系统或检测系统，计算其光学特性，根据叠加四极场所计算的结果，控制调节加入四极场的方位角和激励强度，从而达到补偿系统因偏转带来的二阶像差。
一种基于分析器校正二阶像差设计方法

[发明专利]一种高分辨大扫描场系统的二阶像差补偿方法-CN202010719387.1有效
发明人：康永锋;常飞浩;胡航锋;赵静宜 -专利权人：西安交通大学
申请日： 2020-07-23 - 公布日： 2021-11-19 - 主分类号： G01N23/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种高分辨大扫描场系统的二阶像差补偿方法，针对有偏转系统的存在时，此时沿着光轴附近将场函数做级数展开分析系统电子光学特性，能够分析因偏转带来的二阶像差。针对整个成像系统或检测系统，计算其光学特性，根据叠加四极场之后计算的结果，控制调节加入四极场的方位角和激励强度，从而达到补偿系统因偏转带来的二阶像差。
一种分辨扫描系统二阶像差补偿方法

[发明专利]一种构建Zernike多项式像差模式与Walsh函数像差模式之间系数转换矩阵的方法-CN201310048842.X有效
发明人：王帅;杨平;许冰;刘文劲;雷翔;晏虎;董理治;高源;程生毅 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2013-02-07 - 公布日： 2015-02-18 - 主分类号： G01J9/00 文献下载
摘要：一种构建Zernike多项式像差模式与Walsh函数像差模式之间系数转换矩阵的方法，根据Zernike多项式系数与各阶Walsh函数系数之间的线性关系，确定各项Zernike多项式用Walsh函数展开的系数矩阵，从而实现Zernike多项式像差模式系数与Walsh函数像差模式系数之间的相互转换，若选取其中系数绝对值较大的Walsh函数阶，重新构建转换矩阵，则能有效地减小系数转换矩阵的尺度，以最少和最优的Walsh函数阶的系数信息获得Zernike多项式系数信息；本发明在实际应用中只需测得其中一种像差模式系数，就能通过转换矩阵确定另一种像差模式对应的系数，因此用两种像差模式分别描述波前相位畸变，实现两种像差模式的优势互补
一种构建 zernike 多项式模式 walsh 函数之间系数转换矩阵方法

[发明专利]一种基于模式的同步无波前自适应光学系统-CN201611093372.9有效
发明人：文良华;杨平;王帅;陈善球;许冰 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2016-12-02 - 公布日： 2019-04-23 - 主分类号： G02B27/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种基于模式的同步无波前自适应光学系统，由焦平面光电探测相机、控制器、高压放大器和波前像差校正单元(变形镜)组成。对变形镜施加一次与像差模式相关的扰动电压，相机测量焦平面远场光强，控制器计算其二阶中心矩MDS，根据远场光强分布的二阶中心矩MDS与入射波前像差斜率平方的均值SM的近似线性关系，求解出波前畸变中含有的与扰动电压所对应的像差模式的系数；利用变形镜响应函数与像差模式的关系矩阵形成电压信号，经高压放大器放大后施加于变形镜，完成该模式像差的有效校正，实现一次扰动一次校正的系统同步校正迭代机制；本发明缩短相邻两次像差校正迭代的延时，提高系统对动态像差的校正能力
像差变形镜校正自适应光学系统高压放大器扰动电压焦平面相机施加近似线性关系远场光强分布二阶中心矩控制器计算波前畸变波前像差电压信号迭代机制动态像差关系矩阵光电探测系统同步响应函数像差校正校正单元远场光强控制器入射波中心矩扰动求解迭代延时测量放大

[发明专利]一种测量哈特曼波前传感器子孔径中倾斜像差的方法-CN201310030430.3有效
发明人：王帅;杨平;许冰;刘文劲;雷翔;晏虎;董理治;高源;程生毅 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2013-01-27 - 公布日： 2013-05-15 - 主分类号： G01J9/00 文献下载
摘要：一种测量哈特曼波前传感器子孔径中倾斜像差的方法，用相位调制器分别对子孔径范围内的子光波进行第1阶、第2阶Walsh函数形式二元相位调制，每次调制后的子光波被微透镜聚焦进入对应的单模光纤选模滤波，单敏探测器在光纤另一端接收无调制、第1阶调制和第2阶调制三种状态最终出射的三个光强数据，根据光强数据求得子波前中第1阶和第2阶Walsh函数系数，利用该两阶Walsh函数与倾斜像差的对应比例关系，得到子孔径内子波前中对应的两个方向倾斜像差系数
一种测量哈特曼波前传感器孔径倾斜方法

[发明专利]一种基于单视场的主次镜系统装配误差计算方法及系统-CN202110683348.5在审
发明人：尚建忠;吴伟;罗自荣;白向娟;曹俊宏;蒋涛;卢钟岳 -专利权人：中国人民解放军国防科技大学
申请日： 2021-06-21 - 公布日： 2021-08-13 - 主分类号： G02B27/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种基于单视场的主次镜系统装配误差计算方法，包括如下步骤：在单一视场下，获取处于不同失调状态的主次镜系统的三阶波像差系数测量值；随机生成测试装配状态种子；将测试装配状态种子输入至预设的主次镜系统仿真模型中进行数值模拟以获取三阶波像差系数模拟值；根据三阶波像差系数测量值与模拟值，计算优化评价函数值；若优化评价函数值小于预设优化评价阈值，则将测试装配状态种子的装配误差值输出为主次镜系统的装配误差值。针对主次镜系统因存在“零慧差自由点”P而导致计算装配误差时需要测量多个视场波像差的技术问题，本方法及系统无需反复测量多个视场，能节省大量的时间、人力和物力，具有更强的工程应用性和操作性。
一种基于视场主次系统装配误差计算方法

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