[发明专利]一种基于维恩分析器校正二阶像差的设计方法有效

专利信息
申请号: 202010717980.2 申请日: 2020-07-23
公开(公告)号: CN112071731B 公开(公告)日: 2021-11-19
发明(设计)人: 康永锋;常飞浩;胡航锋;赵静宜 申请(专利权)人: 西安交通大学
主分类号: H01J37/147 分类号: H01J37/147;H01J37/153;H01J37/28;H01L21/66
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 61200 代理人: 陈翠兰
地址: 710049 *** 国省代码: 陕西;61
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种基于维恩分析器校正二阶像差的设计方法,针对有偏转系统的存在时,此时沿着光轴附近将场函数做级数展开分析系统电子光学特性,能够分析因偏转带来的二阶像差。利用维恩分析器,通过给圆弧电极施加电压信号激励,让分析器产生所需的四极场,叠加在维恩分析器上。针对整个成像系统或检测系统,计算其光学特性,根据叠加四极场所计算的结果,控制调节加入四极场的方位角和激励强度,从而达到补偿系统因偏转带来的二阶像差。
搜索关键词: 一种 基于 分析器 校正 二阶像差 设计 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安交通大学,未经西安交通大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202010717980.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top