专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]基于薄膜的可调谐集成光生微波源芯片及系统-CN202111340205.0在审
  • 张云霄;孙文宝 - 天津津航技术物理研究所
  • 2021-11-12 - 2022-03-01 - H04B10/27
  • 本申请提供一种基于薄膜的可调谐集成光生微波源芯片及系统,包括自下而上依次层叠布置的基底晶片、下包层、薄膜以及上包层;薄膜上设有光波导;光波导包括依次连接的模斑转换波导、第一直波导、第一弯曲波导、第二直波导、第二弯曲波导、第三直波导和光学波导;上包层上与第一直波导相对应的位置设有第一金属电极;第一金属电极、模斑转换波导以及第一直波导共同形成相位调制器;上包层上与光学波导相对应的位置设有第二金属电极;第二金属电极、第三直波导以及光学波导共同形成高Q谐振器;薄膜上还设有与高Q谐振器输出端相连接的探测器。
  • 基于铌酸锂薄膜调谐集成微波芯片系统
  • [发明专利]一种薄膜表面制作光学纳图形的方法-CN201911192741.3有效
  • 曾嵘;庄池杰;马昕雨;沈瞿欢;王华磊;吴长春 - 清华大学;天通瑞宏科技有限公司
  • 2019-11-28 - 2021-02-26 - G03F7/20
  • 本发明涉及一种薄膜表面制作光学纳图形的方法,属于纳加工技术领域,包括:制作电子束曝光所需版图;对衬底进行清洗、烘干;在衬底上溅射金属导电层;在衬底上旋涂电子束胶;将衬底进行第一次电子束曝光制作标记;显影和定影;在衬底上磁控溅射金属制作金属标记;去胶剥离金属掩蔽的图形,制成带有金属突起标记的片;在片上旋涂电子束胶;将片进行第二次电子束曝光制作图形;显影和定影;进行图形转移,形成纳结构。通过本发明所述方法,可在不导电的材料上制作侧壁陡直的图形,且可制作尺寸900nm以下的纳图形,所制作的光波导折射率对比度大,可减小光器件尺寸,提高光器件性能。
  • 一种铌酸锂薄膜表面制作光学图形方法
  • [发明专利]混合集成型片上光频梳及其制备方法-CN202110360256.3有效
  • 王玲芳;时鑫 - 电子科技大学
  • 2021-04-02 - 2022-01-04 - G02F1/35
  • 本发明公开了一种混合集成型片上光频梳,包括依次相邻的硅基底、二氧化硅衬底和薄膜,薄膜上异质集成一层氮化硅波导;氮化硅波导包括横跨薄膜上表面的氮化硅直波导,以及位于氮化硅直波导一侧的氮化硅环;氮化硅环下方的薄膜为圆周极化薄膜。本发明的片上光频梳结合了周期极化与氮化硅波导的优良特性,避免了直接刻蚀的工艺要求,能够利用的高效非线性,简化工艺的同时保证了器件效能;圆周极化薄膜引入的准相位匹配与氮化硅波导的尺寸设计引入的色散波匹配技术相结合,使得对泵浦波的频率要求突破了单频率的限制,实现可调谐自由光谱范围的环。
  • 混合集成上光及其制备方法

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