专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]平板显示器件的制造方法-CN200510114723.5有效
  • 蔡基成;朴美暻 - LG.菲利浦LCD株式会社
  • 2005-10-25 - 2006-12-20 - H01L21/00
  • 本发明涉及一种制造基板上方具有薄膜图案的平板显示器件的方法。该制造方法包括步骤:在基板上沉积亲水性树脂并且对亲水性树脂构图以在基板上要形成薄膜图案的区域之外的区域形成亲水性树脂图案。该制造方法还包括在基板上方亲水性树脂图案之间沉积疏水性纳米粉末薄膜材料;去除亲水性树脂图案以形成位于基板上方的疏水性纳米粉末薄膜图案。而且,该制造方法包括处理疏水性纳米粉末薄膜材料以形成薄膜图案。
  • 平板显示器件制造方法
  • [发明专利]一种阵列基板的刻蚀方法-CN201711005865.7有效
  • 徐元权 - 武汉华星光电技术有限公司
  • 2017-10-25 - 2020-07-31 - H01L21/02
  • 本发明提供一种阵列基板的刻蚀方法,该方法包括下述步骤:通过超声波装置在刻蚀液中产生气泡,得到包含有气泡的刻蚀液,利用包含有气泡的刻蚀液给待刻蚀的阵列基板进行刻蚀,其中,待刻蚀的阵列基板包括依次层叠的承载基板本发明提供的阵列基板的刻蚀方法,可以保证不将线宽偏差变大的前提下,使得金属层的Taper角尽可能变小,从而保证刻蚀后的金属层上,后续镀膜没有膜层断裂的风险。
  • 一种阵列刻蚀方法
  • [发明专利]红外光源-CN201710348322.9有效
  • 左瑜 - 西安科锐盛创新科技有限公司
  • 2017-05-17 - 2019-07-16 - H01L33/34
  • 该红外光源15,包括基板151、红外LED153、金丝155、树脂材料157及透镜159;其中,所述红外LED153设置于所述基板151中间位置处;所述金丝155连接所述红外LED153的电极与设置于所述基板151上的金属连线;所述透镜159固接于所述基板151上;所述树脂材料157填充于所述基板151与所述透镜159形成的空间内。
  • 红外光源

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