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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]基板清洗装置、基板清洗方法、基板处理装置以及基板干燥装置-CN201780016142.9在审
发明人：石桥知淳 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2017-02-28 - 公布日： 2018-11-09 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：提供更高性能的基板清洗装置、基板清洗方法、基板处理装置以及基板干燥装置。提供基板清洗装置，该基板清洗装置具有：基板保持旋转机构，该基板保持旋转机构保持基板并使该基板旋转；第一清洗机构，该第一清洗机构使清洗器具与所述基板接触而对所述基板进行清洗，或者通过双流体喷流对所述基板进行清洗，或者使用臭氧水对所述基板进行清洗；以及第二清洗机构，该第二清洗机构使用超声波清洗液对所述基板进行清洗。
基板基板清洗装置清洗机构清洗基板处理装置基板干燥装置基板保持基板清洗旋转机构超声波清洗液基板接触基板旋转清洗器具臭氧水双流体喷流

[发明专利]基板反转装置、基板处理装置以及基板夹持装置-CN201811107884.5有效
发明人：村元僚 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2018-09-21 - 公布日： 2023-07-04 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本发明提供一种基板反转装置、基板处理装置以及基板夹持装置。在基板反转装置中，多个下导向件使随着向基板的宽度方向内侧而向下方的下倾斜面与水平状态的基板的周缘部接触，并从下方支撑基板。多个上导向件使随着向宽度方向内侧而向上方的上倾斜面与基板的周缘部接触，在与多个下导向件之间夹持基板。各下导向件具备通过切换机构切换而选择性地成为下倾斜面的第一下接触区域以及第二下接触区域。由此，能够配合基板的状态切换上导向件以及下导向件中的与基板的接触区域。
反转装置处理以及夹持

[发明专利]基板校准装置，基板处理装置及基板搬运装置-CN200310102643.9无效
发明人：立山清久;元田公男;岩崎达也 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2003-10-27 - 公布日： 2004-05-26 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：在把基板(G)载置于工作台(100)上的状态下，通过经由气体供应管(118)和筒状支承体(114)内的通气路径(114a)、从气体喷出部(116)以规定的压力喷出从高压气体供应源来的高压空气，使基板(G由于气体喷出部(116)形成喇叭型，所以，与基板(G)下表面接触的空气不会产生涡流，顺滑地通过间隙(g)而排出到外部。借助这种结构，不会对被处理基板造成伤害及擦痕，不会产生污染，可以安全并且正确、进而高效率地进行基板的对位。
校准装置处理搬运

[发明专利]基板校准装置,基板处理装置及基板搬运装置-CN200610109166.2无效
发明人：立山清久;元田公男;岩崎达也 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2003-10-27 - 公布日： 2007-02-21 - 主分类号： G02F1/1333 文献下载
摘要：本发明的基板校准装置包括：为了基本上水平地载置支承被处理基板(G)而分散地配置在基本上水平的工作台(100)上的多个可在水平方向上位移的支承部(152)，将载置于前述支承部上的前述被处理基板在水平面内向规定的方向推压而进行定位的定位机构借助这种结构，不会对被处理基板造成伤害及擦痕，不会产生污染，可以安全并且正确、进而高效率地进行基板的对位。
校准装置处理搬运

[发明专利]基板、基板装置以及基板装置的制造方法-CN201510649547.9在审
发明人：疋田笃人 -专利权人：富士施乐株式会社
申请日： 2015-10-09 - 公布日： 2016-05-04 - 主分类号： H05K1/11 文献下载
摘要：本发明涉及基板、基板装置以及基板装置的制造方法，其目的在于提供一种基板，该基板与具备沿着直线方向排列的相同形状且相同面积的多个焊盘的基板相比，通过沿着直线方向输送基板的流水作业方式来将各端子锡焊到各焊盘时基板(30)中沿着直线方向(X)排列有多个焊盘(P1～12)，焊盘(P1～12)具有与部件(20)的端子(PN1～PN12)重叠的第1部位(F)以及未与端子(PN1～PN12)重叠的第2部位(S1～S12
基板装置以及制造方法

[发明专利]基板交接装置、基板处理装置、基板交接方法-CN200780001097.6有效
发明人：广木勤 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2007-08-20 - 公布日： 2009-01-21 - 主分类号： H01L21/68 文献下载
摘要：本发明提供一种基板交接装置、基板处理装置、基板交接方法。不使用搬运臂、而仅用基板交接装置来校正基板的水平方向位置偏移。该基板交接装置具有：多个支承销(132A～132C)，它们绕载置台(112)的支承轴(114)分离开地配置，在基板下表面支承基板例如晶圆(W)；基台(134)，其安装有支承销；上下驱动部件(Z方向驱动部件
交接装置处理方法

[发明专利]基板清洗装置、基板清洗方法、基板处理装置-CN200780000214.7无效
发明人：川村茂;林辉幸 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2007-04-04 - 公布日： 2008-11-26 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明涉及基板清洗装置、基板清洗方法、基板处理装置。根据本发明，无需研磨基板端部，无需发生等离子体，通过简单的控制即能一次清洗基板端部全周。
清洗装置方法处理

[发明专利]基板清洗装置、基板处理装置、基板清洗方法及基板处理方法-CN201710790418.0在审
发明人：村地弘美;吉田隆一;西山耕二;门间徹;寒河江力 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2017-09-05 - 公布日： 2018-03-20 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及一种基板清洗装置、基板处理装置、基板清洗方法及基板处理方法，在基板清洗装置，在使研磨头与利用旋转夹具旋转的基板的一面接触的状态下，使该研磨头至少在基板的中心和外周部之间移动。由此，基板的一面被研磨头研磨，从而去除存在于基板的一面上的污染。此时，根据基板的半径方向上的位置，使利用研磨头去除污染的去除能力发生变化。去除污染的去除能力是指，通过研磨擦掉附着于基板的一面的污染物、残留于基板的一面的吸附痕和接触痕等的能力。例如能够通过调整从研磨头作用于基板的一面的按压力，使去除污染的去除能力发生变化。
清洗装置处理方法

[发明专利]基板保持单元、基板保持构件、基板保持装置及基板处理装置-CN202011182426.5在审
发明人：大川显;锅岛健 -专利权人：佳能特机株式会社
申请日： 2020-10-29 - 公布日： 2021-05-04 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明涉及基板保持单元、基板保持构件、基板保持装置及基板处理装置，提供用于使用粘接构件而更良好地保持基板的技术。一种基板保持装置，其具有用于在保持面保持基板的多个基板保持单元，多个基板保持单元中的每一个使用基板保持装置，所述基板保持装置具有：粘接构件，所述粘接构件具有粘接面，所述粘接面设置有与基板粘接的粘接材料；
保持单元构件装置处理

[发明专利]基板处理装置、基板处理方法、基板制造装置及基板制造方法-CN201510240390.4有效
发明人：今冈裕一;矶明典 -专利权人：芝浦机械电子株式会社
申请日： 2015-05-13 - 公布日： 2018-09-21 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：提供能够良好地进行使用了处理液的针对基板的处理的基板处理装置及基板处理方法、基板制造装置及基板制造方法。作为实施方式所涉及的基板处理装置的洗净部20具有，针对被搬送的基板(W)的表面供给流体(例如洗净液L)的第1喷嘴(21)、及以夹着第1喷嘴(21)的方式在基板(W)的搬送方向上排列并相对于与基板(W)的表面垂直的面倾斜地喷出流体与喷嘴(21)相比位于下游侧的喷嘴(22B)朝向基板(W)搬送方向(A)的下游侧喷出流体，与喷嘴(21)相比位于上游侧的喷嘴(22A)朝向上游侧喷出流体。
处理装置方法制造

[发明专利]基板检查装置、基板处理装置、基板检查方法以及基板处理方法-CN201780047626.X有效
发明人：柏山真人;C·佩丘莱斯基;森田彰彦;松尾友宏 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2017-04-03 - 公布日： 2023-06-06 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明由旋转保持部以使基板能够旋转的方式保持该基板。在进行第一拍摄时，由拍摄部对由旋转保持部保持的基板进行拍摄，由此生成用于表示基板的图像的第一图像数据。在进行第一拍摄后，由旋转保持部使基板仅旋转预先规定的角度。在使基板旋转后进行第二拍摄时，由拍摄部对由旋转保持部保持的基板进行拍摄，由此生成用于表示基板的图像的第二图像数据。基于第一图像数据及第二图像数据，判定基板的表面状态有无缺陷。
检查装置处理方法以及

[发明专利]基板保持装置、基板处理装置和基板保持方法-CN201911086918.1在审
发明人：上野幸一 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2019-11-08 - 公布日： 2020-06-05 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本发明的课题在于在不产生起尘且不对基板导入损伤的情况下，确实地消除基板的翘曲而良好地保持基板的整个区域。一种基板保持装置，包括自下方支撑基板的平台、以及对支撑于平台的基板的翘曲进行矫正的矫正机构，所述基板保持装置利用平台来保持由矫正机构矫正了翘曲的基板，其中，矫正机构具有：矫正块，能够在基板的上表面的周缘部的上方沿上下方向移动；气体层形成部，自矫正块的下表面朝向基板的上表面喷出第一气体，在基板的上表面与矫正块的下表面之间形成气体层；以及移动部，使矫正块在与基板保持非接触状态的同时向下方移动，由此将气体层按压至周缘部来矫正基板的翘曲本发明还涉及一种基板处理装置和基板保持方法。
保持装置处理方法

[发明专利]基板清洗装置、基板清洗方法以及基板处理装置-CN202110147106.4在审
发明人：田中英明 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2016-02-16 - 公布日： 2021-06-04 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：公开一种基板清洗装置，该基板清洗装置使基板旋转，并使清洗部件与旋转的基板接触而清洗基板。基板清洗装置具有：自清洁部件，该自清洁部件设置于支承所述清洗部件的臂，与所述清洗部件接触而对清洗部件进行自我清洗；以及移动机构，该移动机构设置于支承所述清洗部件的臂，使所述自清洁部件在与所述清洗部件接触的位置和从所述清洗部件离开的位置之间移动
清洗装置方法以及处理

[发明专利]基板输送装置、基板处理装置以及基板处理方法-CN202110213053.1在审
发明人：古矢正明 -专利权人：芝浦机械电子株式会社
申请日： 2017-03-31 - 公布日： 2021-06-11 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本发明涉及基板输送装置、基板处理装置和基板处理方法，能够缩短基板输送时间。作为实施方式的基板输送装置发挥功能的第2输送机器人(14)具备：第1把持板(21)；第1爪部(21b)，被该第1把持板支撑，相对于第1把持板的表面在上下具有与基板(W)的外周面抵接的抵接面；第2把持板(22)，被设置成与第1把持板重叠；第2爪部(22b)，被该第2把持板支撑，相对于第1把持板的表面在上下具有与基板的外周面抵接的抵接面；和把持部(23)，以使第1爪部以及第2爪部在与基板的外周面相交的方向上接近或分离的方式
输送装置处理以及方法

[发明专利]基板清洗装置、基板处理装置及基板清洗方法-CN202010701619.0在审
发明人：中野央二郎 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2020-07-20 - 公布日： 2021-01-29 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及基板清洗装置、基板处理装置及基板清洗方法。基板清洗装置具备：保持基板的基板保持机构；使保持于基板保持机构的基板旋转的旋转机构；及清洗基板的清洗机构。清洗机构具备：支柱；从支柱伸出且其高度位置不变动的支臂；支撑于支臂且通过抵接于基板表面来清洗表面的清洗件；使清洗件在从基板离开的上升位置与抵接于基板的下降位置之间相对于支臂升降的升降机构；及至少控制清洗件下降时的速度的控制部
清洗装置处理方法

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