|
|
钻瓜专利网为您找到相关结果 4516762个，建议您 升级VIP下载更多相关专利
- [发明专利]曝光装置-CN01101347.8无效
-
二階堂胜;石野智明;田所彻也
-
东芝株式会社
-
2001-01-10
-
2001-08-01
-
G03F7/20
- 一种曝光装置,具有掩模支承部,该掩模支承部支承已形成曝光图形的光掩模,使之在与被曝光物接触的曝光位置和离开被曝光物的离开位置之间移动。设有曝光光源,该曝光光源在光掩模移至曝光位置的状态下,穿过光掩模而对被曝光物曝光。净化气体供给器在光掩模移至离开位置时由第1供给部向被曝光物和光掩模之间提供净化气体以防止异物进入,在光掩模移至曝光位置时,由第2供给部向光掩模的外侧面提供净化气体以使光掩模冷却。
- 曝光装置
- [实用新型]光量分布均匀式曝光灯结构-CN201420718218.6有效
-
范金刚;蓝学军
-
深圳市博宇佳瑞光电科技有限公司
-
2014-11-26
-
2015-03-11
-
G03F7/20
- 本实用新型公开了一种光量分布均匀式曝光灯结构，该结构包括机台、置于机台上且用于放置被曝光物的玻璃曝光台面和置于玻璃曝光台面下方的直线传动装置；直线传动装置上活动安设有沿该直线传动装置做直线匀速运动的灯箱，灯箱内置有长度与玻璃曝光台面的宽度相同且接近玻璃曝光台面下方分布的曝光灯；灯箱沿着该直线传动装置做直线匀速运动时，曝光灯与被曝光物形成相对运动且被曝光物感光。本实用新型曝光灯与被曝光物做相对运动而使曝光台面上的受光量分布均匀，有效解决了光量的分布不均匀的问题；同时，光源与曝光台面的距离最大限度的靠近，光源离曝光台面越近，被曝光物在同样的时间内接收到的曝光能量越强
- 分布均匀曝光结构
- [发明专利]直描式曝光装置-CN202010331754.0在审
-
渡边健二
-
株式会社阿迪泰克工程
-
2020-04-24
-
2020-10-30
-
G03F7/20
- 本发明提供一种能够以简单的构造实现低成本化并且能够以高生产率执行曝光工艺的直描式曝光装置。作为工件载置部的载物台(3)连结有多个，通过转圈机构(21)沿着环状的环绕路转圈。在到达载置作业位置的载物台(3)上装载机(4)载置未曝光的工件W，在通过载物台(3)的移动使工件W通过曝光区域时，曝光头(1)向曝光区域照射曝光图案的光，工件W被曝光。工件W被吸附机构(7)吸附在载物台(3)上，并利用对准单元对曝光图案的照射位置进行校正。曝光完成的工件W由卸载机(5)回收。
- 直描式曝光装置
- [发明专利]曝光机的曝光方法-CN200910148715.0有效
-
徐福润
-
景兴精密机械有限公司
-
2009-06-30
-
2011-01-05
-
G03F7/20
- 本发明曝光机的曝光方法，曝光机具有一曝光平台供承载被加工物及原稿，另于曝光平台上方处设有至少一光源组用以产生朝向曝光平台照射曝光光源，再以该光源组依照预设路径位移的方式，让曝光光源到达曝光平台的预定区域，而对曝光平台上的被加工物进行曝光显影；俾可大幅减少灯泡数量，相对缩减整体曝光机的体积，降低设备成本，以及降低曝光机的聚热现象；尤其，光源组仅通过曝光平台需要被曝光光源照射的区域，因此不会浪费不必要的加工成本
- 曝光方法
- [发明专利]曝光装置及被曝光体-CN200680028831.3有效
-
梶山康一;渡边由雄
-
株式会社V技术
-
2006-07-24
-
2008-08-06
-
G03F9/00
- 本发明提供一种曝光装置及被曝光体，承载在设定于表面的图案区域的一个边缘的规定位置形成有对准标记的彩色滤光基板6，并通过输送装置1，以形成有对准标记的一侧为最前侧，输送该彩色滤光基板6，通过拍摄装置3拍摄对准标记和像素，通过控制装置4，根据拍摄装置3所取得的对准标记的检测输出，计算出彩色滤光基板6上的基准位置和预先设定在曝光光学系统2的光掩模17上的基准位置的偏差，并使拍摄装置3和曝光光学系统2一体地在与彩色滤光基板的承载面平行的面内移动，从而修正该偏差，将从曝光光源12发射的曝光用的光经由光掩模17照射到彩色滤光基板6上。
- 曝光装置
- [发明专利]成像设备和控制方法-CN201410137409.8有效
-
福田晃
-
索尼公司
-
2014-04-08
-
2018-10-23
-
H04N5/235
- 一种成像设备，包括：被配置为对被摄物成像的成像单元、测光单元、曝光补偿单元、被配置为控制所拍摄的图像的曝光的曝光控制单元以及被配置为控制所拍摄的图像在显示单元上的显示的显示控制单元。测光单元被配置为基于所述成像单元的输出执行测光，以获得曝光值。曝光补偿单元被配置为如果测光单元的测光不固定，则将已经由测光获得的曝光值补偿为将用于曝光控制的曝光值。曝光控制单元被配置为如果测光单元的测光固定，则允许以在以下范围内的曝光值进行的曝光控制，该范围比在所述测光单元的测光不固定的情况下的可用曝光值范围更大。
- 成像设备控制方法
- [发明专利]曝光装置的除尘装置和除尘方法-CN201380040503.5有效
-
松田政昭;森田亮
-
株式会社ORC制作所
-
2013-09-05
-
2015-04-08
-
G03F7/20
- 得到一种曝光装置的除尘装置和除尘方法，该曝光装置的除尘装置和除尘方法使得在除尘中暂时附着于除尘辊而被去除的灰尘、污物或异物等不会再次附着到除尘对象物上。一种曝光装置的除尘装置，所述曝光装置在感光性基板上曝光出图案，其特征在于，所述曝光装置的除尘装置具有：除尘辊，其能够通过周面与所述曝光装置内的除尘对象物的除尘表面接触/分离；以及移动机构，其以在使所述除尘辊的周面与所述除尘对象物的除尘表面接触的同时使所述除尘辊旋转的方式，使所述除尘辊与除尘对象物相对移动，所述除尘辊的周长被设定为比由所述移动机构控制的、所述除尘辊的周面与所述除尘对象物的除尘表面的接触移动距离长。
- 曝光装置除尘方法
|
