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专利名称
农业 化学；冶金 建筑 机械工程 区域搜索
主分类
A 农业
B 作业；运输
C 化学；冶金
D 纺织；造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种蒸镀设备-CN201620470106.2有效
  • 高昕伟 - 京东方科技集团股份有限公司
  • 2016-05-20 - 2016-09-21 - C23C14/04
  • 本实用新型提供一种蒸镀设备，包括蒸发源和设置于蒸发源上方、用于放置待蒸镀基板的基板承载机构，其中，所述蒸镀设备还包括：基片固定机构，至少一膜厚监控基片设置于所述基片固定机构上，与所述待蒸镀基板同平面设置，且与所述待蒸镀基板贴合；其中在所述待蒸镀基板的镀膜过程中，所述待蒸镀基板和所述膜厚监控基片均位于所述蒸发源的有效蒸镀区域内。所述蒸镀设备通过设置基片固定机构，使膜厚监控基片与待蒸镀基板均位于蒸发源的有效蒸镀区域内，当完成待蒸镀基板的一次镀膜时，监测膜厚监控基片上的膜厚，即能够达到监控蒸镀过程中的膜层厚度的目的。
  • 一种设备
  • [发明专利]一种蒸镀机台复机方法-CN202210881436.0在审
  • 洪加添;潘锴;杨德佑;刘印昂 - 福建兆元光电有限公司
  • 2022-07-26 - 2022-11-11 - C23C14/24
  • 本发明公开一种蒸镀机台复机方法，将蒸镀机台抽真空至第一预设真空度后，对所述蒸镀机台使用铬及铝铜合金进行覆盖，得到覆盖后的蒸镀机台，并对所述覆盖后的蒸镀机台进行质量验证，得到验证结果；若所述验证结果为正常，则执行量产操作，通过覆盖铬及铝铜合金能够将蒸镀机台的衬板可能存在的含水腐蚀物或脏污物隔离在铬及铝铜合金下面，避免蒸镀时与这些污染物反应，从而有效避免维护保养后出现金属铝分离现象，提高了产品质量。
  • 一种机台复机方法
  • [实用新型]一种蒸镀设备-CN202021521382.X有效
  • 乔小平 - 福建华佳彩有限公司
  • 2020-07-28 - 2021-04-02 - C23C14/54
  • 本实用新型涉及一种蒸镀设备，包括蒸镀装置、旋转机构、遮挡装置以及膜厚仪；所述旋转机构设置于所述蒸镀装置一侧，所述旋转机构与所述遮挡装置连接，所述膜厚仪设置于所述遮挡装置一侧；所述膜厚仪包括晶振片，所述晶振片设置于所述遮挡装置一侧；所述旋转机构用于旋转所述遮挡装置；所述蒸镀装置用于蒸镀蒸镀材料；所述遮挡装置用于调节遮挡蒸镀材料蒸汽到晶振片上的比例。本实用新型的蒸镀设备通过遮挡装置来调节遮挡蒸镀材料蒸汽到晶振片上的比例，以适应不同蒸镀材料镀率的需求，从而延长晶振片使用寿命，且实现对膜厚精确的控制。
  • 一种设备
  • [发明专利]石英振荡式膜厚计-CN201510244172.8有效
  • 田岛三之;田村博之 - 佳能特机株式会社
  • 2015-05-14 - 2019-06-07 - G01B17/02
  • 本发明提供一种优异的石英振荡式膜厚计，通过设定预先形成在石英振子(4)的蒸镀面侧的电极膜(5)上的基底膜，来抑制石英振子的等效串联电阻的上升，实现了长寿命化。石英振荡式膜厚计(M)用于进行真空蒸镀装置(D)中的膜厚控制，所述真空蒸镀装置(D)在真空槽(1)内使从蒸发源(2)蒸发出的蒸镀材料沉积在基板(3)表面而形成薄膜，该石英振荡式膜厚计以如下方式构成：预先通过蒸镀将由与所述蒸镀材料不同的且包含至少一个以上碳原子的有机物构成的有机材料覆盖到石英振子(4)的蒸镀面侧的电极膜(5)上而形成有机材料基底膜(6)，使所述蒸镀材料蒸镀到该有机材料基底膜(6)上，来计测该蒸镀材料的膜厚或者蒸镀速度。
  • 石英振荡式膜厚计
  • [发明专利]真空蒸镀装置-CN201380006704.3无效
  • 北村一树;宫川展幸 - 松下电器产业株式会社
  • 2013-01-25 - 2014-09-24 - C23C14/24
  • 真空蒸镀装置(1)具备：第1、第2蒸发源(3、4)，使蒸镀材料(30、40)蒸发；蒸镀速度控制部(81)，分别控制第1、第2蒸发源的动作；设定蒸镀速度存储部(82a、82b)，分别存储预先设定的第1、第2蒸发源的设定蒸镀速度(A1、A2)；第1、第2膜厚计(7a、7b)，计量各蒸镀材料的混合蒸镀速度(Y1、Y2)。计量部(85)根据第2膜厚计(7b)相对于第1膜厚计(7a)的一个蒸镀材料的到达量比(B1)、第1膜厚计(7a)相对于第2膜厚计(7b)的另一蒸镀材料的到达量比(B2)和混合蒸镀速度(Y1、Y2)，分别计算第1及第2蒸发源的蒸镀速度(X1、X2)，蒸镀速度控制部(81)控制第1、第2蒸发源(3、4)，以使计算值和设定值一致。
  • 真空装置
  • [发明专利]膜厚监控仪与蒸镀机-CN201710598206.2有效
  • 金贤权 - 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
  • 2017-07-20 - 2019-10-11 - H01L51/56
  • 本发明提供一种膜厚监控仪与蒸镀机。本发明的膜厚监控仪包括：壳体、设于所述壳体内的转盘、设于所述壳体内且固定于所述转盘上的数个膜厚监测传感器、设于所述壳体上的窗口、及安装于所述窗口上的风扇，所述转盘转动时带动所述数个膜厚监测传感器依次经过所述窗口通过在壳体的窗口上安装风扇，蒸镀过程中挥发至所述窗口处的有机小分子材料减少，降低沉积于膜厚监测传感器表面的膜厚，从而延长膜厚监测传感器的使用寿命，进而减少打开蒸镀机的腔体的次数，提高蒸镀机的稼动率及产能本发明的蒸镀机通过安装上述膜厚监控仪减少了使用过程中打开蒸镀机的腔体的次数，提高了蒸镀机的稼动率及产能。
  • 监控蒸镀机
  • [实用新型]一种蒸镀装置-CN202022714235.0有效
  • 黄稳;高永喜;虞强龙;陈奇;朱宏伟;张敬娣;武启飞;廖良生 - 江苏集萃有机光电技术研究所有限公司
  • 2020-11-20 - 2021-07-27 - C23C14/24
  • 本实用新型涉及蒸镀技术领域，公开一种蒸镀装置。其中蒸镀装置包括腔体、第一源挡板和第二源挡板，腔体内设置有多个坩埚及设置在各坩埚一侧的膜厚探头，各坩埚和待蒸镀的基片之间形成蒸镀通道，坩埚与膜厚探头之间形成检测通道；第一源挡板设置于坩埚和基片之间，能选择性遮挡蒸镀通道；第二源挡板设置于坩埚和膜厚探头之间，能选择性遮挡检测通道及蒸镀通道。本实用新型设置有多个坩埚，可以在一个坩埚进行蒸镀时对另一个坩埚进行预热，以实现连续蒸镀；第一源挡板可以在一个坩埚进行蒸镀的同时，遮挡住另外的坩埚与基片之间的蒸镀通道，有效地避免坩埚内的蒸镀材料在预蒸至蒸镀速率时外溢出坩埚，保证了蒸镀质量。
  • 一种装置
  • [发明专利]一种膜层厚度控制装置-CN202310404029.5在审
  • 张坤;卿万梅;陈林 - 重庆京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司
  • 2023-04-14 - 2023-06-30 - C23C14/24
  • 本发明提供一种膜层厚度控制装置，包括：蒸镀基板；至少一个蒸镀点源，用于对蒸镀材料进行加热蒸发，以使气化的蒸镀材料粒子在蒸镀基板面向蒸镀点源的一面形成蒸镀膜层；遮挡板，设置在蒸镀基板与蒸镀点源之间；其中，遮挡板与蒸镀基板之间具有间隔，遮挡板在蒸镀基板上的正投影位于蒸镀基板内，且覆盖蒸镀点源在蒸镀基板上的正投影；旋转机构，连接蒸镀基板，用于带动蒸镀基板旋转，蒸镀基板在旋转过程中，遮挡板遮挡靠近蒸镀点源的蒸镀材料粒子形成到遮挡板，以在蒸镀基板上形成膜厚均匀的蒸镀膜层。旨在提供一种控制蒸镀基板上蒸镀材料粒子量的沉积量，以使在蒸镀基板上形成膜厚均匀的蒸镀膜层的控制装置。
  • 一种厚度控制装置
  • [发明专利]薄膜的蒸镀监测装置和方法及薄膜蒸镀装置和方法-CN201510665382.4有效
  • 许名宏 - 京东方科技集团股份有限公司
  • 2015-10-15 - 2018-09-07 - C23C14/54
  • 本发明提供提高薄膜的蒸镀监控精度的薄膜的蒸镀监测装置、薄膜蒸镀装置和薄膜的蒸镀监测方法、薄膜蒸镀方法。根据一个实施方式的薄膜的蒸镀监测装置对利用至少两个蒸镀源的薄膜的蒸镀进行监测，包括：膜厚计，其对利用上述至少两个蒸镀源蒸镀得到的薄膜的厚度进行测量；电阻测量器，其对上述薄膜的电阻进行测量；以及计算单元，其基于上述薄膜的由上述膜厚计测量的厚度和由上述电阻测量器测量的电阻，计算上述薄膜中的来自上述至少两个蒸镀源中的一个蒸镀源的材料的浓度。
  • 薄膜监测装置方法
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