“膜阻胶”专利关键词查询_检索下载_查询列表_检索列表_行业专利分布_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果1663481个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]减少晶片边缘颗粒缺陷的方法-CN201010507014.4无效
发明人：武咏琴 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2010-10-14 - 公布日： 2012-05-09 - 主分类号： H01L21/762 文献下载
摘要：本发明提供了一种减少晶片边缘颗粒缺陷的方法：在半导体衬底表面上依次涂布六甲基二硅氮烷HMDS、底部抗反射层、第一光阻胶层以及顶部涂层；其中，HMDS、底部抗反射层、第一光阻胶层以及顶部涂层还附着于晶片边缘的厚度方向上；对顶部涂层和第一光阻胶层进行浸没式光刻以及以所述浸没式光刻后的图案为掩膜进行半导体衬底的刻蚀之后，形成浅沟槽隔离区；在浅沟槽隔离区内填充氧化物之后，在半导体衬底表面沉积栅氧化层材料；在栅氧化层材料表面涂布第二光阻胶层；对所述第二光阻胶层进行光刻以及以所述光刻后的图案为掩膜进行栅氧化层材料的湿法刻蚀之后，形成栅氧化层。
减少晶片边缘颗粒缺陷方法

[发明专利]一种晶圆光阻涂布方法-CN202211578574.8在审
发明人：王晨星;杨云春;郭鹏飞;陆原;张栓 -专利权人：赛莱克斯微系统科技（北京）有限公司
申请日： 2022-12-09 - 公布日： 2023-06-09 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本发明提供了一种晶圆光阻涂布方法，涉及半导体技术制造领域，尤其涉及一种光阻涂布方法。该方法包括：获取待涂布晶圆；根据膜厚需求，制备基部光刻胶，基部光刻胶包括稀释剂和正性光刻胶，稀释剂与正性光刻胶的体积比大于或等于3且小于或等于10；对待涂布晶圆旋涂基部光刻胶，以使待涂布晶圆表面形成润湿层；在润湿层旋涂正性光刻胶，以使待涂布晶圆表面形成光刻胶膜。本发明提供的晶圆光阻涂布方法利用稀释剂和正性光刻胶形成的基部光刻胶来代替传统的润湿剂，避免了一些衬底无法喷涂润湿剂的问题，同时改善了目前主流的厚胶掩膜制备技术中光刻胶膜厚度不均匀，厚膜流动性差的问题，提升了光刻胶膜的厚度均匀性
一种圆光阻涂布方法

[发明专利]一种金属剥离方法及LED制备方法-CN202210819190.4在审
发明人：邓高杰 -专利权人：福建兆元光电有限公司
申请日： 2022-07-12 - 公布日： 2022-10-11 - 主分类号： H01L21/3213 文献下载
摘要：本发明公开了一种金属剥离方法及LED制备方法，在晶圆上制备图形化光刻胶并蒸镀金属膜层之后，将蒸镀后的晶圆浸没在显影液中，使用超声去除光刻胶上的金属膜层，因此通过超声湿法的方式去除光刻胶上的金属膜层，从而消除干法剥离产生的静电；将去除光刻胶上的金属膜层的晶圆浸没在光阻剥离液中，去除光刻胶。由此可见，通过超声湿法的方法进行金属剥离，再使用光阻剥离液去除光刻胶，即金属剥离与光刻胶去除是分开进行的，在金属剥离时保留完整的光刻胶能够对晶圆起保护作用，从而提高晶圆的IR良率和抗ESD能力。
一种金属剥离方法 led 制备

[发明专利]一种硅刻蚀工艺-CN201310082106.6无效
发明人：李芳;刘文燕;黄耀东 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2013-03-14 - 公布日： 2013-06-19 - 主分类号： H01L21/308 文献下载
摘要：本发明涉及一种硅刻蚀工艺，应用于一硅衬底上，所述硅衬底的上表面覆盖一层保护膜，包括如下步骤：旋涂光刻胶覆盖所述保护膜的上表面，经曝光、显影后去除多余的光刻胶，于所述保护膜的上表面形成具有刻蚀图形的光阻；以所述光阻为掩膜，刻蚀所述保护膜至所述硅衬底的上表面；继续离子注入工艺，于所述硅衬底中形成掺杂区；去除所述光阻后，以剩余的所述保护膜为掩膜刻蚀所述掺杂区，形成沟槽。
一种刻蚀工艺

[发明专利]存储单元区制作的方法-CN200910054546.4有效
发明人：刘艳;李勇;周儒领;黄淇生;詹奕鹏 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请日： 2009-07-09 - 公布日： 2011-01-12 - 主分类号： H01L21/8247 文献下载
摘要：本发明提供一种存储单元区制作的方法：在半导体衬底上依次形成FG氧化层、FG多晶硅层、ONO介质层、CG多晶硅层、CG氮化硅层、CG氧化硅层、CG氮化硅硬掩膜层；在所述CG氮化硅硬掩膜层上涂布光阻胶，并图案化该光阻胶，以该图案化的光阻胶为掩膜，依次刻蚀所述CG氮化硅硬掩膜层、CG氧化硅层、CG氮化硅层、CG多晶硅层和ONO介质层，形成CG；氮化所述FG多晶硅层后，在所形成的CG的两侧制成CG侧壁层；以CG侧壁层和CG为掩膜，刻蚀氮化的所述FG多晶硅层和FG氧化层，形成FG；在CG侧壁层和FG的外侧依次形成氧化层、沉积多晶硅膜，所述多晶硅膜最终将形成EG。
存储单元制作方法

[发明专利]油漆钣金件刮板测试平台用压力传感器的制造方法-CN201810572951.4有效
发明人：黄宇航;黄陶钧;李亮亮 -专利权人：常州信息职业技术学院
申请日： 2018-06-06 - 公布日： 2020-06-02 - 主分类号： G01L1/16 文献下载
摘要：本发明公开了油漆钣金件刮板测试平台的制造方法，包括以下步骤：步骤一：选用薄膜感应器作为压力传感器；步骤二：在上线路PET基材层上印刷高阻碳浆形成高阻碳膜层；步骤三：在高阻碳膜层上印刷异方性导电胶形成异方性导电胶膜层，得到上层线路层；步骤四：下线路PET基材层上印刷高导电性银膜层；步骤五：在高导电性银膜层表面印刷绝缘保护膜层，得到下层线路层；步骤六：在上线路PET基材层的非印刷面贴0.3mm厚的PET基材单面胶；步骤七、在绝缘保护膜层的印刷的一面贴0.23mm厚的PET基材双面胶；步骤八：用PET基材双面胶将上下线路层粘接在一起。
油漆钣金件刮板测试平台压力传感器制造方法

[发明专利]一种液晶显示屏、其制备方法与显示装置-CN201410283696.3在审
发明人：陈玉琼 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2014-06-23 - 公布日： 2014-09-17 - 主分类号： G02F1/1339 文献下载
摘要：本发明涉及液晶显示领域，具体一种液晶显示屏，包括彩膜基板、在彩膜基板上依次形成的黑矩阵、RGB色阻层、平坦层，以及TFT基板，所述彩膜基板和TFT基板对盒后经封框胶紫外固化。本发明所述的液晶显示屏，在形成平坦层的原料胶和/或RGB的色阻材料中加入了紫外线吸收剂。由于平坦层和RGB色阻材料均能够覆盖液晶面板的显示区域，因此，当采用紫外光对封框胶进行UV固化时，照射到显示区域的紫外光可以被平坦层和/或RGB色阻材料中的紫外线吸收剂吸收，有效避免对有效显示区域的显色异常，而不用传统曝光工艺需要使用的UV掩膜板。
一种液晶显示屏制备方法显示装置

[发明专利]一种晶圆级扇出型堆叠封装工艺方法-CN201710702492.2有效
发明人：姚大平;宋涛 -专利权人：华进半导体封装先导技术研发中心有限公司
申请日： 2017-08-16 - 公布日： 2019-08-20 - 主分类号： H01L21/56 文献下载
摘要：一种晶圆级扇出型堆叠封装工艺方法，包括如下步骤：在透光临时基板上的高温键合胶层上贴附一层干性光阻膜；在所述干性光阻膜上形成多个直通高温键合胶层的盲孔；在所述干性光阻膜固化后，在所述盲孔内植入导电金属柱；在所述干性光阻膜表面贴装裸芯片；整体注塑并对塑封体的表面进行磨削直至将所述裸芯片的焊垫完全暴露；在所述塑封体的磨削面上制作用于连接所述导电金属柱和裸芯片的重布线层，所述重布线层上设置有通过植球和回流焊得到微凸点；去除所述透光临时基板和高温键合胶层，得到封装单元；根据所述封装单元得到扇出型堆叠封装结构。
一种晶圆级扇出型堆叠封装工艺方法

[发明专利]柔性传感器制造设备和柔性传感器的制作方法-CN201911260090.7有效
发明人：郭师峰;冯伟;李振;张艳辉;张树潇;吴新宇 -专利权人：深圳先进技术研究院
申请日： 2019-12-10 - 公布日： 2021-07-13 - 主分类号： B05B16/20 文献下载
摘要：该柔性传感器制造设备包括：机械臂；喷涂枪，连接于机械臂的执行末端，用于喷涂液态基质于待喷涂工件的表面，以在待喷涂工件的表面形成一层压阻膜；极化枪，连接于机械臂的执行末端，用于电离空气以产生负离子并将含有负离子的空气喷向压阻膜，以对压阻膜进行极化；点胶枪，连接于机械臂的执行末端，用于在极化后的压阻膜上制作电极涂层；其中，机械臂的执行末端沿预设路径同步携带喷涂枪、极化枪和点胶枪在待喷涂工件的表面移动。通过在机械臂的执行末端同时装载喷涂枪、极化枪和点胶枪，本申请所提供的柔性传感器制造设备能够较好地解决复杂机械零件表面柔性传感器难以制作的问题。
柔性传感器制造设备制作方法

[实用新型]光伏电池气密封装结构-CN201920823886.8有效
发明人：陈耀宗;刘修铭;张裕洋;黄松建 -专利权人：位元奈米科技股份有限公司
申请日： 2019-06-03 - 公布日： 2019-12-20 - 主分类号： H01L31/048 文献下载
摘要：本实用新型公开一种光伏电池气密封装结构，包括：一下阻气膜、一光伏电池结构、一下电极导线、一上电极导线、一填补胶及一上阻气膜。该光伏电池结构设于该下阻气膜的一侧面上该光伏电池结构具有一基板，该基板一侧面具有一下导电层，该下导电层一侧面设有一光伏层，该光伏层的一侧面上具有一上导电层。该上阻气膜位于该上导电层的一侧面上。该填补胶设于该基板的周边垂直面与上、下阻气膜之间。本实用新型可以提高寿命。
阻气膜基板光伏电池电极导线光伏层本实用新型电性连结上导电层下导电层下电极气密封装结构填补侧面垂直面导电层

[实用新型]一种用于柔性电路板压合工艺的复合阻胶离型膜-CN201620937901.8有效
发明人：钟洪添 -专利权人：惠州市贝斯特膜业有限公司
申请日： 2016-08-24 - 公布日： 2017-02-22 - 主分类号： B32B27/06 文献下载
摘要：本实用新型提供一种用于柔性电路板压合工艺的复合阻胶离型膜，所述复合阻胶离型膜具有五层结构，从上至下依次为离型层、第一聚合物材料层、缓冲层、第二聚合物材料层、离型层，所述第一聚合物材料层和第二聚合物材料层的厚度互相独立地为本实用新型采用PET或PA、TPX、PE、PI、PVC、PBT薄膜结合耐高温亚克力胶胶水的组合结构，同时可达到不同条件下的压合工艺，在压合操作中，其体现了好的阻胶性能，且容易分离。
一种用于柔性电路板工艺复合阻胶离型膜

[发明专利]光罩的制作方法-CN200910055364.9无效
发明人：柳锋;朱振华 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请日： 2009-07-24 - 公布日： 2011-02-02 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种衰减式相位移光罩的制作方法，包括：提供透明基板，在基板上形成相位偏移层，在相位偏移层上形成光阻层；在光阻层上形成图案化的光刻胶层；以图案化的光刻胶层为掩膜，蚀刻光阻层，形成图案化的光阻层；以图案化的光阻层为掩膜，干法蚀刻相位偏移层；得到相位偏移层的特征尺寸，比较相位偏移层的特征尺寸值相比预定值的偏小量，采用湿法蚀刻法对相位偏移层进行再蚀刻；去除光阻层，加上透明的保护膜，完成制作。
制作方法

[发明专利]柔性电路板、显示面板及显示装置-CN202011181512.4有效
发明人：俞芳 -专利权人：昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司
申请日： 2020-10-29 - 公布日： 2022-09-06 - 主分类号： H05K1/02 文献下载
摘要：本发明提供一种柔性电路板、显示面板及显示装置，涉及显示技术领域，该柔性电路板包括柔性电路板主体以及与所述柔性电路板主体连接的第一绑定区；所述柔性电路板主体上设有覆盖膜以及与所述覆盖膜连接的阻焊油墨层，所述覆盖膜位于所述阻焊油墨层背离所述第一绑定区一侧上本发明利用阻焊油墨层将覆盖膜和第一绑定区分割开，这样当覆盖膜通过粘结胶设置在柔性电路板主体上时，粘结胶不会溢出到第一绑定区，可以提高第一绑定区与显示面板之间绑定效果，进而提高显示面板的显示效果。
柔性电路板显示面板显示装置

[发明专利]液晶显示面板-CN201911320160.3有效
发明人：廖东;白柏;赵国 -专利权人： TCL华星光电技术有限公司
申请日： 2019-12-19 - 公布日： 2021-02-02 - 主分类号： G02F1/1339 文献下载
摘要：本申请公开了一种液晶显示面板，包括：相对设置的阵列基板和彩膜基板以及夹设于所述阵列基板和所述彩膜基板的液晶层，所述阵列基板与所述彩膜基板通过封框胶粘合，所述液晶显示面板包括显示区域以及位于所述显示区域外侧的栅极驱动GOA电路，所述封框胶形成于设置有所述栅极驱动GOA电路的区域；其中，所述封框胶包括第一子封框胶和第二子封框胶，所述第一子封框胶相对于所述第二子封框胶的位置靠近所述显示区域；所述第一子封框胶的材料粘合力大于所述第二子封框胶的材料粘合力，且所述第一子封框胶的材料阻水率小于所述第二子封框胶的材料阻水率。
液晶显示面板

[发明专利]一种利用覆盖膜阻胶的刚挠结合板的制作方法-CN202010933374.4在审
发明人：吴军权;武守坤;李伟正;陈春;林映生;唐宏华;黄双双 -专利权人：惠州市金百泽电路科技有限公司
申请日： 2020-09-08 - 公布日： 2020-12-18 - 主分类号： H05K3/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种利用覆盖膜阻胶的刚挠结合板的制作方法，包括S1、工程文件制作，分别完成硬板、软板、半固化片覆盖膜、半固化片的制作；S2、贴半固化片覆盖膜，将半固化片覆盖膜粘贴于所述半固化片的上下两面；S3、层压，将硬板、半固化片、软板或半固化片、软板依次压合成型；S4、铣靶；S5、涨缩测量；S6、除胶渣；S7、钻孔；S8、沉铜；S9、VCP一铜；S10、外层线路制作；S11、酸性蚀刻；S12、阻焊；S13、字符；S14、表面处理；S15、激光揭盖；S16、外形CNC；S17、ET测试；S18、成检；上述刚挠结合板的制作方法，能有效阻值半固化片流胶污染挠性区域，远比现有的阻胶垫片方案更有效率。
一种利用覆盖膜阻胶结合制作方法