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[发明专利]基片检查系统、基片检查方法和存储介质-CN202010484089.9在审
发明人：中村泰之;鹤田丰久;野田康朗 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-06-01 - 公布日： 2020-12-11 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种基片检查系统、基片检查方法和存储介质，其中，基片检查系统包括：拍摄部，其设置于基片处理装置中，拍摄在表面形成有膜的颜色信息用基片的表面来获取图像数据；膜厚测量部，其设置于基片处理装置中，测量以与颜色信息用基片相同的条件在表面形成了膜的膜厚测量用基片的膜厚；和模型制作部(107)，其制作膜厚模型，膜厚模型表示了基于图像数据获得的关于因膜的形成而引起的颜色信息用基片的表面的颜色变化的信息、与由膜厚测量部测量出的膜厚测量用基片的膜厚的对应关系。根据本发明，能够更简单地制作用于计算对象基片上所形成的膜的膜厚的模型。
检查系统方法存储介质

[发明专利]一种膜层混合防眩光镜片-CN202010532655.9在审
发明人：张荭 -专利权人：江苏鸿晨集团有限公司
申请日： 2020-06-12 - 公布日： 2020-08-14 - 主分类号： G02C7/12 文献下载
摘要：本发明公开了一种膜层混合防眩光镜片，其包括镜片基体，镜片基体具有前基片、中央基片、及后基片；设置于前基片与中央基片之间的防眩光膜层；设置于后基片与中央基片之间的减反射膜层；真空溅射于前基片、后基片外表面的加硬涂层；以及涂覆于前基片的加硬涂层外侧的变色涂层；其中前基片厚度为2.5mm，中央基片厚度为2mm，后基片厚度为3mm。本发明通过前基片与中央基片层合防眩光膜层，后基片与中央基片层合减反射膜层，实现高效的防眩光，避免以往防眩光功能性单一的麻烦。
一种混合眩光镜片

[发明专利]生长GaN晶体基片的方法和GaN晶体基片-CN02107886.6有效
发明人：柴田真佐知;黑田尚孝 -专利权人：日立电线株式会社;日本电气株式会社
申请日： 2002-03-26 - 公布日： 2002-11-06 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：在初始基片上沉积一层金属膜,初始基片可以是单晶蓝宝石基片、带有生长在蓝宝石基片上的单晶GaN膜的基片或单晶半导体基片中的任何一种。然后在金属膜上沉积一层GaN膜以形成层状基片。由于采用了以上这种结构,在生长了GaN膜之后,GaN膜可以很容易地和初始基片分开,并且,能够用简单的方式生产出来低缺陷浓度和没有被杂质严重污染的GaN晶体基片。
生长 gan 晶体方法

[实用新型]一种膜层混合防眩光镜片-CN202021075908.6有效
发明人：张荭 -专利权人：江苏鸿晨集团有限公司
申请日： 2020-06-12 - 公布日： 2020-12-11 - 主分类号： G02C7/12 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种膜层混合防眩光镜片，其包括镜片基体，镜片基体具有前基片、中央基片、及后基片；设置于前基片与中央基片之间的防眩光膜层；设置于后基片与中央基片之间的减反射膜层；真空溅射于前基片、后基片外表面的加硬涂层；以及涂覆于前基片的加硬涂层外侧的变色涂层；其中前基片厚度为2.5mm，中央基片厚度为2mm，后基片厚度为3mm。本实用新型通过前基片与中央基片层合防眩光膜层，后基片与中央基片层合减反射膜层，实现高效的防眩光，避免以往防眩光功能性单一的麻烦。
一种混合眩光镜片

[发明专利]成膜系统、成膜方法和计算机存储介质-CN201880009405.8有效
发明人：志村悟;榎本正志 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2018-01-04 - 公布日： 2023-06-16 - 主分类号： H01L21/312 文献下载
摘要：本发明提供一种成膜系统，在表面形成有图案的基片上形成有机膜，包括：对基片进行有机膜形成处理来在基片上形成有机膜的有机膜形成部；测量基片上的有机膜的膜厚的膜厚测量部；和对基片上的有机膜进行紫外线照射处理来除去该有机膜的表面的紫外线处理部在成膜系统中，有机膜形成部、膜厚测量部和紫外线处理部是沿基片的输送方向依次排列地设置。
系统方法计算机存储介质

[发明专利]涂敷膜形成方法、涂敷膜形成装置和程序-CN202310009218.2在审
发明人：桥本祐作;八木纲大;松竹勇贵 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2023-01-04 - 公布日： 2023-07-14 - 主分类号： B05D1/00 文献下载
摘要：本发明提供涂敷膜形成方法、涂敷膜形成装置和程序，提高基片面内的涂敷膜膜厚的控制性能。包括：涂敷工序，其对基片的正面的中心部供给涂敷液，使上述基片旋转以使上述涂敷液向该基片的周缘部扩展而形成涂敷膜；高温气体供给工序，其对旋转的该基片的背面的露出区域的一部分，供给温度比被供给了上述涂敷液的上述基片高的高温气体；膜厚分布调整工序，其使上述基片以第一转速旋转来调整上述基片的面内的上述涂敷膜的膜厚分布；和干燥工序，其在上述膜厚分布调整工序后，使该基片以与上述第一转速不同的第二转速旋转，来调整上述基片的整个面内的该涂敷膜的膜厚来使之干燥，其中，进行上述干燥工序的期间包含停止向上述基片供给上述高温气体的期间。
涂敷膜形成方法装置程序

[发明专利]基片检查方法、基片检查系统和控制装置-CN202010472660.5在审
发明人：鹤田丰久;富田浩 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-05-29 - 公布日： 2020-12-08 - 主分类号： G01B11/06 文献下载
摘要：本发明提供基片检查方法、基片检查系统和控制装置。基片检查方法包括：基于模型形成用基片的膜的特征量的测量结果，和拍摄模型形成用基片而生成的模型形成用拍摄图像，来构建表示基片的拍摄图像中的像素值与该基片的膜的特征量的关系的相关模型的步骤；拍摄特征量获取对象基片生成拍摄图像，基于该拍摄图像和相关模型，来计算特征量获取对象基片的膜的推算特征量的步骤；计算对多个特征量获取对象基片计算出的推算特征量的统计值的步骤；以及根据膜的特征量的测量结果和推算特征量的统计值，计算推算特征量的补偿量的步骤，其中膜是对补偿计算用基片进行与推算特征量被计算出的膜相同的处理的膜。本发明能够简单且准确地获取基片的膜的特征量。
检查方法系统控制装置

[发明专利]一种AR膜和AF膜及其制备方法和应用-CN202210303084.0在审
发明人：李青;李赫然;汪小云;李盛印;何根 -专利权人：四川虹基光玻新材料科技有限公司;北京远大信达科技有限公司
申请日： 2022-03-24 - 公布日： 2022-07-22 - 主分类号： C23C14/06 文献下载
摘要：本发明涉及镀膜技术领域，公开了一种AR膜和AF膜及其制备方法和应用，该方法包括：(1)将待镀膜的基片引入至第一加工室中进行预处理，得到预处理基片；(2)将预处理基片引入至AR室中形成AR膜，得到含有AR膜的基片；(3)将含有AR膜的基片引入至含有AF膜料的AF室中，并将AF膜料沉积于AR膜的表面，得到含有AR膜和AF膜的基片；(4)将含有AR膜和AF膜的基片在AF室中进行热压处理。采用本发明方法制备得到的AR膜和AF膜通具有表面硬度高、耐摩擦性能的特点。
一种 ar af 及其制备方法应用

[实用新型]一种防蓝防红防紫镜片-CN202021369872.2有效
发明人：王翔宇 -专利权人：视悦光学有限公司
申请日： 2020-07-14 - 公布日： 2021-05-25 - 主分类号： G02C7/10 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种防蓝防红防紫镜片，其包括第一树脂基片；真空溅射于第一树脂基片的防蓝光膜层；通过第一胶片层复合于防蓝光膜层的第二树脂基片；真空溅射于第二树脂基片的防红光膜层；通过第二胶片层复合于防红光膜层的第三树脂基片真空溅射于第三树脂基片的防紫外线膜层；以及离子交换于第一树脂基片与第三树脂基片外表面的抗菌层，抗菌层选自抗菌金属离子。本实用新型通过在第一树脂基片与第二树脂基片之间成型防蓝光膜层，第二树脂基片与第三树脂基片之间成型防红光膜层，再配合原料防紫外线的第三树脂基片，并配合外表面的防紫外线膜层，实现有害蓝光、红光、紫光的过滤防护
一种防蓝防红防紫镜片

[发明专利]基片处理装置和基片处理方法-CN202210196093.4在审
发明人：福冈哲夫 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2022-03-01 - 公布日： 2022-09-20 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明的基片处理装置和基片处理方法能够在基片形成膜厚均匀的处理膜。本发明的对基片的表面形成处理膜的基片处理装置包括：作为保持基片的基片保持部的旋转卡盘(21)，其中，该基片涂敷有用于形成处理膜的干燥前的处理液；和气体供给部(40)，其对由基片保持部保持的基片的表面的周缘部
处理装置方法

[发明专利]锇膜电阻型原子氧密度传感器芯片的制备方法-CN201610910439.7有效
发明人：周科朝;魏秋平;郭曜华;易忠;刘向鹏;马莉;余志明 -专利权人：中南大学
申请日： 2016-10-19 - 公布日： 2018-11-13 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开了一种锇膜电阻型原子氧密度传感器芯片的制备方法，包括以下步骤：(1)将基片、基片固定板、锇膜线掩膜板和电极掩膜板分别依次在丙酮、酒精和去离子水中超声振荡清洗；(2)将经清洗后的基片固定在清洗后的基片固定板上，将经清洗后的锇膜线掩膜板盖在基片上，通过磁控溅射在基片上沉积锇膜线；(3)取出锇膜线掩膜板并将经清洗后的电极掩膜板盖在沉积有锇膜线的基片上，通过磁控溅射在锇膜线的两端沉积铜膜或金膜；(4)对沉积有锇膜线并且沉积有铜膜或金膜的基片在真空条件下进行低温热处理该制备方法工艺简单，通过该方法制备得到的芯片中锇膜表面平整无微裂纹且厚度较大。
锇膜沉积清洗掩膜板制备密度传感器芯片电极掩膜板磁控溅射电阻型固定板原子氧金膜超声振荡清洗制备方法工艺芯片低温热处理表面平整沉积铜膜随炉冷却真空条件微裂纹丙酮水中铜膜离子酒精取出

[发明专利]基片处理方法和基片处理装置-CN202010546551.3在审
发明人：饭岛祐树;久松亨;熊谷圭惠 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-06-16 - 公布日： 2020-12-29 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：本发明提供基片处理方法和基片处理装置。基片处理方法包括提供基片的工序和第1工序。在提供基片的工序中提供具有第1膜和第2膜的基片，该第2膜形成在该第1膜上并且形成有图案。在第1工序中，一边将第1处理气体等离子体化以在进行第2膜的溅射的同时蚀刻第1膜，一边在第1膜的侧壁由通过上述溅射产生的生成物形成保护膜。本发明能够控制通过蚀刻在基片形成的图案形状。
处理方法装置

[发明专利]一种防蓝防红防紫镜片-CN202010671765.3在审
发明人：王翔宇 -专利权人：视悦光学有限公司
申请日： 2020-07-14 - 公布日： 2020-09-15 - 主分类号： G02C7/10 文献下载
摘要：本发明公开了一种防蓝防红防紫镜片，其包括第一树脂基片；真空溅射于第一树脂基片的防蓝光膜层；通过第一胶片层复合于防蓝光膜层的第二树脂基片；真空溅射于第二树脂基片的防红光膜层；通过第二胶片层复合于防红光膜层的第三树脂基片真空溅射于第三树脂基片的防紫外线膜层；以及离子交换于第一树脂基片与第三树脂基片外表面的抗菌层，抗菌层选自抗菌金属离子。本发明通过在第一树脂基片与第二树脂基片之间成型410纳米‑‑450纳米的防蓝光膜层，第二树脂基片与第三树脂基片之间成型防红光膜层，再配合原料防紫外线的第三树脂基片，并配合外表面的防紫外线膜层，实现有害蓝光
一种防蓝防红防紫镜片

[实用新型]一种双银可钢低辐射镀膜玻璃-CN201821098766.8有效
发明人：高富堂 -专利权人：定西中庆玄和玻璃科技有限公司
申请日： 2018-07-11 - 公布日： 2019-04-16 - 主分类号： C03C17/36 文献下载
摘要：本实用新型玻璃包括玻璃基片，所述玻璃基片分为上层真空玻璃基片、下层真空玻璃基片；所述下层真空玻璃基片位于所述上层真空玻璃基片的下方，在下层真空玻璃基片表面从底层向下依次镀有银膜层、氮化硅膜层、铬膜层、镍铬膜层；在上层真空玻璃基片表面从底层向上依次镀有银膜层、镍铬膜层、铬膜层以及氮化硅膜层。本实用新型采用新颖的膜系架构，具有辐射率低、耐磨性好，且降低了对于真空镀膜设备要求，产品的机械性能提高，产品的稳定性增强。
真空玻璃本实用新型下层低辐射镀膜玻璃氮化硅膜层玻璃基片基片表面镍铬膜层上层铬膜层银膜层双银机械性能真空镀膜设备稳定性增强耐磨性辐射率膜系架构玻璃

[发明专利]基片处理装置、基片处理方法和存储介质-CN202210439545.7在审
发明人：苗木俊树;山村健太郎 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2022-04-25 - 公布日： 2022-11-08 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供基片处理装置、基片处理方法和存储介质，其能够抑制基片的膜厚测量结果的偏差。基片处理装置对要由膜厚测量装置测量的基片进行处理，其包括：加热处理部，其对涂敷有涂敷膜的基片进行加热处理；和流体供给部，其对由上述加热处理部处理中或处理后的基片供给流体，其中，上述流体能够抑制至由上述膜厚测量装置进行膜厚测量为止的测量时间的差异引起的膜厚的偏差
处理装置方法存储介质

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