专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种晶圆减薄方法、装置和卸夹具-CN202011003935.7在审
  • 王广阳;熊帅 - 武汉电信器件有限公司
  • 2020-09-22 - 2021-01-08 - H01L21/02
  • 本申请实施例提供一种晶圆减薄方法、装置和卸夹具,将多个待减薄晶圆与基板进行处理,得到多个后晶圆;对所述多个后晶圆进行一次减薄处理,得到多个一次减薄后晶圆;对所述多个一次减薄后晶圆进行二次减薄处理,得到多个待解晶圆;对所述多个待解晶圆进行解处理,得到多个减薄后的晶圆;对所述多个待解晶圆进行解处理,得到多个减薄后的晶圆。这样,在第一设备对晶圆进行减薄后,再利用第二设备对晶圆进行减薄,能够去除一次减薄过程中所造成的放射纹和损伤层,有效避免了后续进行更加复杂的加工处理,从而降低了晶圆减薄的加工成本,同时提高了晶圆减薄的加工效率
  • 一种晶圆片减薄方法装置夹具
  • [发明专利]临时结构、临时载及临时方法-CN202211045916.X在审
  • 范增焰 - 长鑫存储技术有限公司
  • 2022-08-30 - 2022-11-01 - H01L21/683
  • 本公开涉及一种临时结构、临时载及临时方法。所述临时结构,包括:临时载、器件晶圆以及设置于所述临时载和所述器件晶圆之间的胶;所述器件晶圆靠近所述临时载的一侧设有边缘修剪区;所述临时载靠近所述器件晶圆的一侧设有蓄胶槽;其中,所述蓄胶槽在所述器件晶圆上的正投影至少部分位于所述边缘修剪区内,所述蓄胶槽用于蓄存所述器件晶圆与所述临时载合时所述胶的冗余量。本公开可以提高临时质量,并确保临时后晶圆减薄工艺及其他背面工艺的实施可靠性。
  • 临时结构方法
  • [发明专利]一种TSV多层芯片方法-CN201510114945.0在审
  • 吴道伟;李克中;张波 - 中国航天科技集团公司第九研究院第七七一研究所
  • 2015-03-16 - 2015-06-17 - H01L21/603
  • 本发明一种TSV多层芯片方法包括,一,将具备TSV及正面图形的第一晶圆的正面与支撑进行临时,形成第一晶圆合体;二,然后对其进行背面减薄,露出硅通孔,形成背面凸点;三,再对该合体划片,正面保留支撑,形成第一芯片;四,对具备正面凸点的第二晶圆进行划片形成第二芯片;五,将第一芯片与第二芯片进行凸点,去除支撑形成二层合体;六,将重复1-3形成的芯片依次按步骤5进行凸点,实现多层芯片的依次叠加或将重复1-3形成的多个芯片,两两分别进行凸点后形成两侧均有支撑的双层合体;将芯片和/或去除了一侧支撑的双层合体,后得到TSV多层芯片。
  • 一种tsv多层芯片方法
  • [实用新型]一种分离设备-CN201921815962.7有效
  • 安凯 - 沈阳硅基科技有限公司
  • 2019-10-28 - 2020-07-03 - H01L21/67
  • 本实用新型公开了一种分离设备,包括机台,所述机台内前部处安装有若干结构相同的可升降暗盒载台,所述上真空机械手与机台相连接,所述下真空机械手的左右两侧处安装有一对结构相同的红外扫描刀具,一对所述红外扫描刀具与机台相连接,一对所述红外扫描刀具与位置相对应,本实用新型涉及分离技术领域,该分离设备,本实用新型提供的是一种分离装置,它包括:用于放置暗盒的升降载台,可实现带动暗盒上下移动方便真空机械手臂吸取,采用上述结构,通过取的真空机械手并充当分离载台,带有红外线感应的双卡刀具并且可以通过调节装置来控制靠近或远离的运动。
  • 一种键合片分离设备
  • [发明专利]低温晶片的方法-CN200810222336.7有效
  • 彭红玲;陈良惠;郑婉华;石岩;渠红伟;杨国华;何国荣 - 中国科学院半导体研究所
  • 2008-09-17 - 2010-03-24 - H01L21/00
  • 一种低温晶片的方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤1:将单面抛光的Si外延和InGaAs外延用有机溶剂清洗,去除表面的有机物,该InGaAs外延的底层为InP衬底;步骤2:再分别对Si外延和InGaAs外延进行表面处理,以去除表面的杂质离子、除碳和亲水性处理;步骤3:将Si外延和InGaAs外延进行贴合,贴合后的晶片对置于真空机内,进行第一次热处理,以驱除界面的水气;步骤4:对后的晶片进行减薄;步骤5:再对减薄后的晶片进行第二次热处理;步骤6:最后腐蚀掉晶片的InP衬底,完成低温晶片的制作。
  • 低温晶片方法
  • [实用新型]一种微流控芯片-CN201521002786.7有效
  • 周武平;黎海文;蒋克明;张涛;刘聪 - 中国科学院苏州生物医学工程技术研究所
  • 2015-12-07 - 2016-06-29 - B01L3/00
  • 本实用新型提供了一种微流控芯片,包括:元件、用于此键元件溶液,以及用于辅助溶液注入孔、排气孔、辅助合流道、辅助毛细结构。本实用新型采用在微流控芯片两表面制作出一种特殊的辅助微结构,该微结构形成一系列闭合的回路;在合时,只有在这种特殊的辅助微结构内充满溶液;这样,在所有辅助微结构处,相邻两块微流控芯片基板都被牢固的合在一起;而其他位置则不会与溶液接触,进而保持原始形貌;由于此键方法可以采用接胶水和溶剂等作为溶液,因此可以实现高强度。
  • 一种微流控芯片
  • [发明专利]一种硅片的临时方法-CN201210258126.X无效
  • 郭晓波 - 上海华虹NEC电子有限公司
  • 2012-07-24 - 2013-04-10 - H01L23/00
  • 本发明公开了一种硅片的临时方法,包括步骤如下:1)将需要的硅片切割去除一外环,使其直径变小,2)在所述硅片的面或/和载面涂布粘合剂,并对其烘烤,3)将所述硅片和载进行临时,4)将所述硅片背面研磨减薄,5)进行硅片背面工艺,6)将减薄后的硅片从载上解离。本发明因使用了和硅片直径一样的载进行,使后的硅片在其背面进行传统的半导体工艺时,所使用的设备能和前的设备兼容,解决了传统/解离工艺中因必须使用较硅片直径更大的载而引起的设备兼容性问题
  • 一种硅片临时方法
  • [发明专利]一种垂直结构LED芯片的凸点结构及工艺-CN201310665416.0有效
  • 云峰;郭茂峰 - 西安交通大学
  • 2013-12-10 - 2014-04-02 - H01L33/48
  • 本发明公开了一种垂直结构LED芯片的凸点结构及工艺,凸点结构包括外延、衬底和凸点阵列结构;凸点阵列结构设置于外延和衬底之间;所述外延上设有一层金属镀层,所述凸点阵列结构一端与所述金属镀层,另一端连接所述衬底;或者,所述衬底上设有一层金属镀层,所述凸点阵列结构一端与所述金属镀层,另一端连接所述外延;凸点阵列结构中填充有丙烯酸类或环氧类树脂。本发明中衬底与外延后形成“占空比结构”层,填充层后形成稳定结构,从而降低外延层与衬底之间的应力。
  • 一种垂直结构led芯片凸点键合工艺
  • [发明专利]一种对GaAs与Si进行低温金属的方法-CN201010595700.1无效
  • 彭红玲;郑婉华;石岩;马绍栋 - 中国科学院半导体研究所
  • 2010-12-20 - 2011-06-29 - H01L21/02
  • 本发明公开了一种对GaAs与Si进行低温金属的方法,包括:清洗单面抛光的GaAs外延,去除表面的有机物;对该GaAs外延进行光刻腐蚀,得到带窄条的GaAs外延;在该GaAs外延上蒸镀金属层;采用剥离方法去胶,得到一定厚度的金属条;清洗Si外延,去除表面的有机物;采用H2SO4溶液及RCA1溶液对Si外延表面进行处理,将清洗干净的Si外延与GaAs外延进行贴合,得到贴合后的晶片;将该贴合后的晶片对置于真空机内进行,并进行热处理,以驱除界面的水汽;对后的晶片进行减薄,并腐蚀掉晶片的GaAs衬底。利用本发明,实现了GaAs与Si的低温金属,并可以推广到III-V族与III-V族(或IV族的Si、Ge等材料)的
  • 一种gaassi进行低温金属键方法
  • [发明专利]一种低温圆方法-CN200810047370.5无效
  • 陈明祥;刘文明;刘胜 - 华中科技大学
  • 2008-04-18 - 2008-09-10 - H01L21/00
  • 本发明提供了一种低温圆方法,分别在两圆区制作焊料层,在其中一圆的焊料层表面制作活性反应层,将两圆区对准,向区施加挤压力,同时向活性反应层提供一个能量激励,使其发生固相反应产生大量热量,从而熔化焊料层实现两圆。本发明满足热膨胀系数差较大的同质或异质材料间的要求,提高了电子器件的封装效率,同时降低过程中产生的热变形、残余热应力对器件性能的影响。
  • 一种低温圆片键合方法

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