专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果260973个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [发明专利]一种扩散方法、P型电池制备方法及N型电池制备方法-CN201310263648.3有效
  • 王英超;熊景峰;胡志岩;李高非;赵文超 - 英利集团有限公司
  • 2013-06-27 - 2013-10-09 - H01L31/18
  • 本发明公开了一种扩散方法、P型电池制备方法以及N型电池制备方法,所述扩散方法包括:对扩散炉进行加热;当加热至三氯氧与氧气反应的温度后,通入设定流量的小氮以及氧气,并持续加热,其中,所述小氮为携带三氯氧的氮气,所述小氮的流量小于氧气的流量;当扩散内温度稳定在扩散要求的工艺温度后,使小氮的流量大于氧气的流量,开始扩散;预设时间的扩散后,进行退火处理。所述扩散方法在进行加热以及稳定炉温阶段,可去除硅片表面的金属离子,从而避免了进行扩散时,金属离子扩散入硅片内形成复合中心,采用所述扩散方法制备的P型电池以及N型电池具有较高的转换效率。
  • 一种扩散方法电池制备
  • [发明专利]扩散均匀性的修复方法-CN201711263983.8在审
  • 乐雄英;李静 - 苏州润阳光伏科技有限公司
  • 2017-12-05 - 2018-05-04 - H01L21/223
  • 本发明公开一种扩散均匀性的修复方法,包括氧化、第一次沉积、第二次沉积、第三次沉积、推结五个步骤,且五个步骤于不相同的温度条件下完成。通过将传统的单步扩散过程变为多步扩散过程,同时将传统的恒温扩散过程变成了变温扩散过程,克服了传统的扩散方法在界面区域容易扩散不均匀的弊端,增加多步变温扩散处理,可以使扩散沉积的界面的均匀性得到比较好的修复,提高扩散的均匀性的同时,提升晶硅电池的转换效率。
  • 扩散均匀修复方法
  • [发明专利]一种太阳能电池及其扩散方法-CN201210461743.X有效
  • 范志东;张小盼;赵学玲;李倩 - 英利能源(中国)有限公司
  • 2012-11-15 - 2013-02-13 - C30B31/08
  • 本发明公开了一种太阳能电池及其扩散方法,该方法包括:将硅片放入扩散炉中,将扩散炉内温度升温至750℃~800℃,包括端点值,向扩散炉内通源进行扩散,向硅片中扩散的量基本为,在当前扩散炉内温度下的在硅片中的最大固溶度;将扩散炉内温度升温至810℃~820℃,包括端点值,使向硅片内部扩散;将扩散炉内温度升温至840℃~850℃,包括端点值,升温过程中通源,以进行变温扩散;保持升温后的温度,通入氧气以进行高温推进,直至在硅片中的扩散量达到目标值,对扩散炉内进行降温后,打开扩散炉取出硅片。采用本方法生产的电池片,表面杂质浓度低,“死层”厚度小,浓度分布梯度大,转换效率提高。
  • 一种太阳能电池及其扩散方法
  • [发明专利]掺杂硅片、其制作方法、太阳能电池片及其制作方法-CN201310610878.2有效
  • 范志东;马继奎 - 英利集团有限公司
  • 2013-11-26 - 2014-02-26 - H01L31/18
  • 本发明公开了一种掺杂硅片、其制作方法、太阳能电池片及其制作方法。掺杂硅片的制作方法包括升温待掺杂硅片、前净化、沉积扩散以及降温的步骤,沉积扩散步骤采用POCl3作为源使其与O2反应分步沉积扩散,在分步沉积扩散步骤中POCl3与O2的体积比呈递减的方式进行。采用分步沉积扩散工艺在开始阶段扩散速度较快,随着硅片表面的向硅片衬底内部扩散,硅片表面浓度逐步降低,后续随着源浓度的降低沉积到硅片衬底表面的数量减少,在硅片衬底表面及内部的浓度分布相对于目前沉积扩散过程中不断有较大浓度的
  • 掺杂硅片制作方法太阳能电池及其
  • [发明专利]一种芯片的制造方法、制造设备和芯片-CN202110348496.1有效
  • 王超;任宏志 - 青岛惠科微电子有限公司;青岛惠芯微电子有限公司;北海惠科半导体科技有限公司
  • 2021-03-31 - 2022-12-23 - H01L21/228
  • 本申请公开了一种芯片的制造方法、制造设备和芯片,所述制造方法包括步骤:将源和硅片层叠放置,使扩散至硅片,在所述硅片的至少一面形成扩散结构层;去除经扩散后的所述硅片的其中一面上的所述扩散结构层;将镓源涂布在去除扩散结构层的所述硅片的一面上,以进行镓扩散,从而在所述硅片去除所述扩散结构层的一面形成有镓扩散结构层;将硼源涂布在所述硅片形成有镓扩散结构层的一面上,以进行硼扩散,从而在所述硅片去除所述扩散结构层的一面形成硼扩散结构层;将铂源涂布在所述硅片形成有硼扩散结构层的一面上,以进行铂扩散;在硼扩散前先进行镓扩,使得硼结形成的结深平缓,改善现有的芯片的电压离散性和压降特性。
  • 一种芯片制造方法设备
  • [发明专利]一种太阳能电池晶体硅片扩散方法-CN201710537036.7在审
  • 杨自芬 - 合肥市大卓电力有限责任公司
  • 2017-07-04 - 2017-11-07 - H01L31/18
  • 本发明公开了一种太阳能电池晶体硅片扩散方法,包括以下步骤1)将待处理的晶体硅片置于扩散炉中,升温通入携源氮气、干氧和大氮进行恒定源扩散;2)停止通入携源氮气,升温通入干氧和大氮进行推进;3)通入携源氮气及干氧,进行低温扩散;4)停止通入携源氮气,恒温推进;5)升温通入携源氮气和干氧进行恒定源扩散;6)停止通入携源氮气,进行有氧限定源扩散;7)降温通入携源氮气、干氧及大氮,进行降温扩散;8)降温出舟即可该种扩散方法简单易行,应用广泛,采用该种方法能有效提高硅片光电转换效率,改善太阳电池的电性能,适于推广应用。
  • 一种太阳能电池晶体硅片扩散方法
  • [发明专利]链式吸杂用源及其制备方法和应用-CN202210735102.2在审
  • 任常瑞;张佳舟;符黎明 - 常州时创能源股份有限公司
  • 2022-06-27 - 2022-10-04 - H01L31/18
  • 本发明公开了一种链式吸杂用源,其各组分的质量百分含量为:源前驱体2%~10%,聚乙二醇1%~20%,柠檬酸1%~5%,有机溶剂1%~10%,余量为水。本发明还提供上述链式吸杂用源的制备方法和应用。本发明的源能很好的匹配现有链式扩散吸杂设备,可避免或改善现有源链式高温扩散吸杂产生偏磷酸、焦磷酸残留的问题。本发明通过调整源配方,优化链式扩吸杂的温度、时间、氛围等参数,使扩扩散均匀性、结深等性质较常规磷酸混合液有所提升。采用本发明制备的源,结合链式设备进行快速扩散,可在较短的时间内达到与传统管式扩散一样的扩散水平,使链式扩散的工业化应用得以实现,解决了目前管式扩散设备及自动化昂贵的问题。
  • 链式杂用及其制备方法应用
  • [发明专利]一种PN结的扩散方法-CN201210143416.X无效
  • 马桂艳;宋连胜;田世雄;张东升 - 英利能源(中国)有限公司
  • 2012-05-10 - 2012-08-15 - H01L31/18
  • 本发明公开了一种PN结的扩散方法,包括:在硅片表面形成氧化层;提供原子,并使所述原子通过所述氧化层向所述硅片内部进行扩散。由于本发明所提供的PN结的扩散方法,首先在硅片表面形成氧化层;然后提供原子,并使所述原子通过所述氧化层向所述硅片内部进行扩散。如此原子透过氧化层向硅片内部扩散扩散方法,可以降低硅片表面杂质浓度,减少高浓度浅结扩散对硅片表面带来的晶格损伤,进而提高电池片的转换效率。
  • 一种pn扩散方法
  • [发明专利]一种扩散方法-CN201510162493.3有效
  • 司红康 - 安徽康力节能电器科技有限公司
  • 2015-04-08 - 2019-06-14 - H01L21/223
  • 本发明公开了一种扩散方法,用于PN制结,其步骤为:提供硅片于扩散炉内,通入20ml/min的大氮,升温至950摄氏度;向扩散炉内通入携三氯氧气体和氧气分六段三周期进行扩散工艺,扩散30分钟;关闭携三氯氧气体和氧气,在大氮的氛围中,降低扩散炉温度到800摄氏度,保温10分钟进行推进;最后降温出舟,取出硅片。采用本发明的扩散方法能够改善扩散吸杂,提高掺杂区方块电阻的均匀性,并且成本不高,以现有的设备能够完成。
  • 一种扩散方法

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top