专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种晶体硅表面生物学改性的新方法-CN200910042587.1无效
  • 吴振军;李文生;袁剑民;王慧;任艳群;周小平 - 湖南大学
  • 2009-01-22 - 2010-07-28 - C30B33/00
  • 本发明公开了一种晶体硅表面生物学改性的新方法,即先将碱性试剂溶于水中配制碱性溶液,将晶体硅在所配制的碱性溶液中浸渍,致晶体硅表面形成硅酸胶体薄层;然后,将经过碱性溶液浸渍的晶体硅直接放入到事先配制好的模拟体液中浸泡,在硅酸胶体薄层表面诱导形成骨状磷灰石生物活性层;最后,将制得的同时附有硅酸胶体薄层和骨状磷灰石生物活性层的晶体硅用水反复淋洗后干燥,在晶体硅表面形成以硅酸为过渡层和以骨状磷灰石为外层构成的复合生物涂层,即最终形成硅基硅酸-骨状磷灰石复合生物涂层。
  • 一种晶体表面生物学改性新方法
  • [发明专利]一种研磨装置的清洗方法及系统-CN202110787793.6在审
  • 任林 - 西安奕斯伟硅片技术有限公司;西安奕斯伟材料科技有限公司
  • 2021-07-13 - 2021-10-15 - B24B37/34
  • 本发明实施例公开了一种研磨装置的清洗方法及系统,所述清洗方法包括:在设定数量的硅片完成化学机械研磨操作后,向研磨垫的研磨面喷射碱性液体以使得所述研磨面上的颗粒物在所述碱性液体的作用下形成硅酸;向所述研磨面喷射高压纯水以冲洗所述研磨面上残留的所述硅酸以及所述碱性液体;在向所述研磨面喷射所述碱性液体的过程中,利用修整器一端设置的清洁刷对所述研磨面进行刷洗以去除所述研磨面上形成的所述硅酸;和/或,在向所述研磨面喷射所述高压纯水的过程中,利用所述清洁刷对所述研磨面进行刷洗以去除所述研磨面上残留的所述硅酸以及所述碱性液体
  • 一种研磨装置清洗方法系统
  • [发明专利]一种净化材料及其制备方法和应用-CN202310712504.5有效
  • 戴恩平;乔南利;喻正保;刘莉;吴晔 - 格林斯达(北京)环保科技股份有限公司
  • 2023-06-16 - 2023-09-05 - B01J20/12
  • 本发明提供了一种净化材料及其制备方法和应用,属于碱性气体去除技术领域。本发明将硅酸矿粉进行球磨,得到硅酸细矿粉;将所述硅酸细矿粉置于稀酸溶液中浸泡,固液分离,将所得固体进行第一干燥,得到硅酸细矿粉原料;所述稀释溶液的浓度为0.1~1mg/L;将所述硅酸细矿粉原料与凝结剂溶液混合本发明以价格低廉、来源丰富易得的硅酸矿粉为原料,简化制备过程,充分利用矿粉材料表面的B酸和L酸性基团,采用酸碱中和、取代加成及化学吸附原理,合成了吸附容量大,吸附速度快,抗湿性能好,并且对NH3浓度、杂质气体、水蒸汽、温度等无影响的碱性干式净化材料。
  • 一种净化材料及其制备方法应用

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