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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]硬被膜覆盖部件-CN200610106047.1有效
发明人：石川刚史 -专利权人：日立工具股份有限公司
申请日： 2006-05-11 - 公布日： 2006-12-13 - 主分类号： B32B33/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种硬被膜覆盖部件，该硬被膜覆盖部件在基体上具有包括最下层、中间叠层部分和最上层的硬被膜，上述中间叠层部分是由组成不同的A层和B层交替叠层的部分，上述A层和B层是由选自具有用式：Al
硬被膜覆盖部件

[发明专利]用于排出硬膜下血肿的系统和方法-CN201880086685.2在审
发明人：亚历山大·帕帕纳斯塔西乌 -专利权人：德克萨斯大学体系董事会
申请日： 2018-12-14 - 公布日： 2020-08-28 - 主分类号： A61M1/38 文献下载
摘要：在一个实施例中，一种用于排出硬膜下血肿的系统包括：入口，其被配置为被放置成与硬膜下腔流体连通；冲洗贮存器，其与入口流体连通并被配置为向入口和硬膜下腔供应冲洗流体；出口，其与入口分开，并也被配置为被放置成与硬膜下腔流体连通；以及泵，其与出口流体连通并被配置为在硬膜下腔内产生负压，并从硬膜下腔排空流体。
用于排出硬膜下血肿系统方法

[发明专利]用于形成自对准通孔的T形金属硬掩膜-CN201110334644.0有效
发明人：张海洋;王新鹏;王冬江 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请日： 2011-10-31 - 公布日： 2013-05-08 - 主分类号： H01L21/768 文献下载
摘要：本发明提供一种用于形成自对准通孔的T形金属硬掩膜的制作方法，包括：提供半导体衬底，在所述半导体衬底上形成有绝缘层；在所述绝缘层上依次沉积第一金属硬掩膜层和第二金属硬掩膜层，所述第一金属硬掩膜层的被蚀刻率大于所述第二金属硬掩膜层的被蚀刻率；蚀刻所述第二金属硬掩膜层和所述第一金属硬掩膜层，以形成所述T形金属硬掩膜。根据本发明，在形成用于填充互连金属的通孔时，蚀刻所述金属硬掩膜层之后，所留下的所述金属硬掩膜层呈T型，从而可以更好地控制后续自对准通孔的形成。
用于形成对准金属硬掩膜

[发明专利]窗覆盖膜和包括其的柔性显示面板-CN202011055256.4在审
发明人：安钟南;金惠真 -专利权人： SK新技术株式会社;爱思开高新信息电子材料株式会社
申请日： 2020-09-30 - 公布日： 2021-03-30 - 主分类号： C08J7/044 文献下载
摘要：本发明涉及一种保护柔性显示面板的新型窗覆盖膜。具体地，提供一种保护显示装置的表面的窗覆盖膜，该窗覆盖膜包括形成在具有基底层和硬涂层的硬涂层膜上的基底层或硬涂层上的保护膜，并且不会出现由于以下原因而造成的该窗覆盖膜不能被用作显示窗覆盖膜的问题：当剥离保护膜时，由于在保护膜、基底层或硬涂层中产生静电而使保护膜的一部分未被剥离，且保护膜残留在基底层或硬涂层上，或者硬涂层被部分或全部剥离。
覆盖包括柔性显示面板

[发明专利]栅极制造方法-CN200910052545.6无效
发明人：齐龙茵;奚裴;石小兵;黄莉;杨昌辉;张振兴 -专利权人：上海宏力半导体制造有限公司
申请日： 2009-06-04 - 公布日： 2009-10-28 - 主分类号： H01L21/283 文献下载
摘要：本发明揭露了一种栅极制造方法，包括：提供一衬底；在所述衬底上依次形成栅氧化层、多晶硅层、硬掩膜层和图案化光阻层；以所述图案化光阻层为掩膜，刻蚀所述硬掩膜层，形成图案化硬掩膜层，同时所述图案化光阻层被部分移除；以剩余的图案化光阻层和所述图案化硬掩膜层为掩膜，刻蚀所述多晶硅层和栅氧化层，同时所述剩余的图案化光阻层被完全移除，所述图案化硬掩膜层被部分移除；移除剩余的图案化硬掩膜层，形成栅极。
栅极制造方法

[实用新型]工具机床使用的耐磨耗精密夹头-CN200620115836.7无效
发明人：林原禾 -专利权人：铨宝工业股份有限公司
申请日： 2006-05-18 - 公布日： 2007-08-08 - 主分类号： B23B31/02 文献下载
摘要：一种工具机床使用的耐磨耗精密夹头，该夹头表面包覆有一层镀钛硬膜或者氮化锆硬膜；该镀钛硬膜可为氮化钛(TiN)硬膜、碳化钛(TiC)硬膜、碳氮化钛(TiCN)硬膜、或氧化钛(TiO)硬膜；据以增加该夹爪的耐热性、抗磨性，也可使夹爪呈现不同于金属本体的表面色泽且不易被污损。
工具机床使用耐磨精密夹头

[发明专利]集成电路浅沟槽隔离方法-CN01815495.6无效
发明人：刘伟;S·威廉斯;S·然;D·梅 -专利权人：应用材料有限公司
申请日： 2001-08-13 - 公布日： 2003-11-12 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：一种加工被置于基片加工腔室内的硅基片的方法，其包括把该基片送入加工腔室。该基片上有硬掩膜和位于硬掩膜之上，成图案的光刻胶以暴露部分硬掩膜。该类型的腔室有电源系统和偏压源系统。该方法还包含蚀刻硬掩膜的暴露部分以暴露硬掩膜下面的部分硅基片。然后，成图案的光刻胶被暴露于由第一工作气体形成的第一等离子体中以除去硬掩膜上的光刻胶。然后，暴露的硅基片通过暴露于由第二工作气体形成的第二等离子体中，通过从电源系统施加RF能量并施加偏压使该等离子体偏向基片而被蚀刻。基片被送出基片加工腔室。
集成电路沟槽隔离方法

[发明专利]集成电路的制造方法-CN200910246511.0有效
发明人：蔡方文;叶明熙;王明俊;林舜武;陈启群;魏正泉;陈其贤 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2009-11-30 - 公布日： 2010-12-08 - 主分类号： H01L21/70 文献下载
摘要：此方法包含：提供一基材；形成一硬掩膜层于此基材上；形成此硬掩膜层的多个被保护的部分和多个未被保护的部分；进行一第一蚀刻制程、一第二蚀刻制程和一第三蚀刻制程于硬掩膜层的未被保护的部分上，其中第一蚀刻制程部分地去除硬掩膜层的未被保护的部分，第二蚀刻制程处理硬掩膜层的未被保护的部分，第三蚀刻制程去除硬掩膜层的其余的未被保护的部分；以及进行一第四蚀刻制程，以去除硬掩膜层的被保护的部分。
集成电路制造方法

[发明专利]用于制造半导体器件的方法-CN200710000860.5无效
发明人：金永俊;朴相昱 -专利权人：海力士半导体有限公司
申请日： 2007-01-12 - 公布日： 2007-09-05 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：一种用于制造半导体器件的方法，包括：在蚀刻目标层上形成多个蚀刻掩膜图案，每个所述蚀刻掩膜图案包括第一硬掩膜、第一垫层、以及第二垫层；在所述蚀刻掩膜图案的两个侧壁上形成间隔物，所述间隔物包括与所述第一垫层基本相同的材料；在所述结果衬底结构之上形成第二硬掩膜直到所述蚀刻掩膜图案之间的间隙被填充，所述第二硬掩膜包括与所述第一硬掩膜不同但与所述第二垫层基本相同的材料；平坦化所述第二硬掩膜直到所述第一垫层被暴露；去除所述第一垫层和所述间隔物；以及使用剩余的所述第一和第二硬掩膜作为蚀刻阻挡层来蚀刻所述蚀刻目标层。
用于制造半导体器件方法

[发明专利]一种改善沟槽刻蚀导致晶圆毛边的方法-CN202110447798.4有效
发明人：刘秀勇;陈正嵘;李志国;谭艳琼;彭笋娟 -专利权人：华虹半导体（无锡）有限公司
申请日： 2021-04-25 - 公布日： 2022-12-23 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明提供一种改善沟槽刻蚀导致晶圆毛边的方法，提供硅基底，在硅基底上形成硬掩膜层；对硬掩膜层进行研磨，使硬掩膜层上表面中心区域的高度低于边缘区域的高度；在硬掩膜层被研磨的中心区域形成光刻胶层；对光刻胶层进行曝光和显影，形成用于制作沟槽的光刻胶图形；按光刻胶图形刻蚀所述硬掩膜层，硬掩膜层的所述中心区域形成为多个硬掩膜沟槽；按照硬掩膜沟槽刻蚀所述硅基底，形成多个沟槽。本发明通过将现有技术中的硬掩膜层加厚，并在沟槽光刻前增加一步对硬掩膜的区域研磨，使晶圆边缘洗边处硬掩膜比面内厚，从而硬掩膜刻蚀后保留一定量的硬掩膜作为边缘沟槽刻蚀的阻挡层，达到消除晶圆硅基底毛边的目的。
一种改善沟槽刻蚀导致毛边方法

[发明专利]硬涂膜和树脂成型品-CN200980108174.7有效
发明人：斋藤正登 -专利权人：木本股份有限公司
申请日： 2009-02-16 - 公布日： 2011-02-02 - 主分类号： B32B7/02 文献下载
摘要：本发明提供具有足够的硬涂性和耐破裂性的硬涂膜。硬涂膜(10)具有层叠于基材膜(11)的一个面的硬涂层(12)。硬涂层(12)被调节成马氏硬度(HM)为250N/mm2以上，塑性硬度(Hupl)为800N/mm2以上，压痕弹性模量(EIT)为5000MPa以下。
硬涂膜树脂成型

[实用新型]一种防生锈吸油支架-CN201621489724.8有效
发明人：王心年 -专利权人：厦门精鸿鑫精密五金工业有限公司
申请日： 2016-12-30 - 公布日： 2017-07-18 - 主分类号： B25H3/04 文献下载
摘要：一种防生锈吸油支架，包括吸油支架本体、硬膜防锈油保护膜以及吸油棉；所述硬膜防锈油保护膜包覆于所述吸油支架本体的表面；所述吸油棉粘贴于所述硬膜防锈油保护膜的表面，所述硬膜防锈油保护膜的厚度为0.1毫米～3.0所述硬膜防锈油保护膜会与所述吸油棉形成良好的结合，不易脱落，从而使所述吸油支架本体不易被腐蚀而生锈。
一种生锈支架

[发明专利]层状硬膜和介电材料及其方法-CN02814275.6无效
发明人： L·福雷斯特 -专利权人：霍尼韦尔国际公司
申请日： 2002-05-17 - 公布日： 2006-03-29 - 主分类号： H01L21/768 文献下载
摘要：一种镶嵌结构包括以液相形式涂布在线路介电层上的硬膜层。预期的硬膜层包含Si－N键并被致密化使得该镶嵌结构中的硬膜层的耐蚀性大于线路介电层的耐蚀性和通孔介电层的耐蚀性。特别优选的硬膜层包含聚全氢硅氮烷。
层状材料及其方法

[发明专利]硬涂膜和包括该硬涂膜的图像显示装置-CN201880031232.X在审
发明人：林巨山;姜敏憼;金承熙 -专利权人：东友精细化工有限公司
申请日： 2018-05-15 - 公布日： 2019-12-27 - 主分类号： B32B7/02 文献下载
摘要：本发明涉及硬涂膜及包括该硬涂膜的图像显示装置，该硬涂膜具有在基于聚酰亚胺的基板的至少一个表面上形成的硬涂层，该硬涂层包含硬涂层组合物的固化产物，其中，该硬涂层组合物包含用于使基于聚酰亚胺的树脂溶胀的溶剂，并且该硬涂膜被配置为使得当在400nm至800nm的范围内测量其反射率时，反射率振荡的最大振幅差控制在小于或等于0.5％，因此可以防止干涉图案。
硬涂膜硬涂层组合物聚酰亚胺反射率硬涂层图像显示装置干涉图案固化产物树脂溶胀最大振幅溶剂振荡基板测量配置

[实用新型]硬压单版辊无缝雷射膜和硬压单版辊无缝雷射膜纸-CN201320577088.4有效
发明人：王信飞 -专利权人：无锡光群雷射科技有限公司
申请日： 2013-09-18 - 公布日： 2014-04-02 - 主分类号： B32B15/09 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种硬压单版辊无缝雷射膜和硬压单版辊无缝雷射膜纸。硬压单版辊无缝雷射膜，包括PET基膜，PET基膜设有涂布层，涂布层上经硬压单辊无缝雷射压印出一压印雷射信息层，压印雷射信息层上喷有铝层。硬压单版辊无缝雷射膜纸，包括原纸，原纸上设有贴合胶水层、贴合胶水层上贴合硬压单版辊无缝雷射膜，硬压单版辊无缝雷射膜上印一表面印刷层，所述硬压单版辊无缝雷射膜在粘合后被剥离PET基膜，所述硬压单版辊无缝雷射膜的铝层与贴合胶水层表面相贴合相比较普通雷射膜，其膜面的色差小，视觉效果好，展平度佳，符合高品质的要求。
硬压单版辊无缝雷射

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