专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]铜铟镓薄膜的制备方法-CN201310687514.4有效
  • 熊治雨;肖旭东;杨春雷 - 深圳先进技术研究院;香港中文大学
  • 2013-12-12 - 2014-04-09 - C23C14/24
  • 本发明涉及一种铜铟镓薄膜的制备方法。该铜铟镓薄膜的制备方法包括步骤一为:在气氛中,共蒸镓和铟,使、镓和铟沉积于衬底上;步骤二为:提高衬底温度,在气氛中,蒸发铜,使和铜沉积于衬底上;步骤三为:保持衬底温度,在气氛中,共蒸镓和铟,形成铜铟镓薄膜。通过提高热镓和铟的蒸发温度加速薄膜沉积,设置步骤一和步骤三的蒸发量之间的配比关系,使铟更多地进入薄膜内部并增加薄膜表面的镓含量,显著地改善各元素的梯度分布,减少铜铟镓薄膜表面缺陷,提高铜铟镓薄膜的质量并降低能源消耗
  • 铜铟镓硒薄膜制备方法
  • [发明专利]一种用于化处理的高活性源的产生方法及装置和应用-CN200810053051.5有效
  • 孙云;于涛;李凤岩;李宝璋;李长健;何青 - 南开大学
  • 2008-05-09 - 2008-10-15 - C01B19/04
  • 一种用于化处理的高活性源的产生方法及装置和应用。本发明方法包括:将固态加热蒸发产生蒸汽;向上步产生的蒸汽中并入氢气,或氢气与氩气的混合气体;将上步混合气体进行等离子体辉光分解与合成,得到化氢及高活性的气氛源产生装置包括一个密闭反应罐,反应罐内的固态源、阳极和阴极辉光电极、化氢反应腔,以及反应罐外的加热装置和激励电源,同时在反应罐侧壁上设有气体输入端口,反应罐顶部设有用气体输出端口。本发明既保留了固态低价无毒、容易运输和保存的优点,又可在化过程中在线制备化氢及高活性气氛,使之具有化氢的高活性源的特性,还可节省大量的原料,降低成本,具有重要的实用价值。
  • 一种用于处理活性产生方法装置应用
  • [发明专利]化锂的制备方法-CN202110654303.5在审
  • 潘禹君;伽龙;杨莹;严超 - 南京同宁新材料研究院有限公司
  • 2021-06-11 - 2021-09-24 - C01B19/00
  • 本发明提供一种化锂的制备方法,属于锂电池技术领域,包括以下步骤:在惰性气氛下配制含锂还原性溶液;配制含溶液;在惰性气氛下,将含溶液和含锂还原性溶液混合,室温下搅拌反应4‑6h得到反应物料;反应结束后取反应物料中的不溶物即得到化锂本发明以含溶液与含锂还原性溶液为原料,在常温常压下进行反应,制备方法安全,且生产成本低、反应过程无有害副产物,得到的化锂粉体晶相完整。
  • 硒化锂制备方法
  • [发明专利]制备铜铟镓光吸收层的装置和方法-CN201210535592.8有效
  • 陈旺寿;肖旭东;张撷秋;刘壮;顾光一;杨春雷;宋秋明 - 深圳先进技术研究院;香港中文大学
  • 2012-12-12 - 2013-04-03 - H01L31/18
  • 一种制备铜铟镓光吸收层的装置,包括真空系统和衬底传动系统,由真空系统维持真空的进样室、镀膜室及出样室;衬底传动系统包括衬底传动装置和衬底装载装置;镀膜室包括第一镀膜室,用于在衬底上沉积铟、镓和,并维持衬底温度在350~400℃;第二镀膜室,用于在蒸汽的气氛下在衬底上沉积铜,并维持衬底温度在550~650℃;第三镀膜室,用于在蒸汽的气氛下在衬底上继续沉积铜,并维持衬底温度在550~650℃;蒸发监控装置,蒸发监控装置用于监测衬底表面温度、衬底在监测读数快速上升的时候离开第三镀膜室;第四镀膜室,用于在蒸汽的气氛下在衬底上沉积铟、镓和,并维持衬底温度在550~650℃。本发明还提供一种制备铜铟镓光吸收层的方法。
  • 制备铜铟镓硒光吸收装置方法
  • [发明专利]一种铁稳定富陶瓷材料及其制备方法-CN202010945876.9有效
  • 王莲花;邸明宇;刘冰心;崔斌;姚亚平;胡江波;彭瑶;刘韬;刘业明 - 陕西省现代农业科学研究院;西北大学
  • 2020-09-10 - 2022-03-15 - C04B33/04
  • 本发明属于陶瓷材料技术领域,具体公开了一种铁稳定富陶瓷材料及其制备方法,主要由高岭土、源和铁源组成,混合均匀后的富陶土材料通过常规的制陶工艺成型、烘干并在还原性气氛或其他惰性气氛下于800‑1200℃保温1‑6h后烧结制备得到富陶样品,对其含量及其在水种浸泡后的溶出量进行检测,得到铁稳定富陶瓷材料;其中铁含量为1wt%‑15wt%,含量为10‑200ppm。本发明的制备方法有利于富陶瓷在高温下烧结并且使稳定存在于陶瓷中,并且该富陶瓷在使用时能够在水或者含有食物的水中浸泡时溶出适量的。本发明的特点是通过加入铁源能够提高富陶瓷的烧结温度和稳定其中的含量,同时能够控制的释放量,从而达到安全、稳定和长期释放的作用。
  • 一种稳定陶瓷材料及其制备方法
  • [发明专利]一种半导体薄膜的制备方法-CN201911075887.X有效
  • 尹行天;文森;陈武磊;阙文修 - 西安交通大学
  • 2019-11-06 - 2020-09-22 - C23C14/06
  • 一种半导体薄膜的制备方法,首先清洗纯玻璃基片或ITO基片;其次将称量好的粉体的和基片放置在石英管的相应位置;然后对腔体抽真空,在较低温度下(接近室温)以一定升温速率给气氛炉升温,到达一定温度后,保温几分钟,保温结束立刻打开气氛炉上盖,使腔体快速降温冷却至室温后,将基片取出,完成薄膜沉积得到半导体薄膜,再将沉积得到的薄膜在空气气氛中一定温度下退火一定时间。本发明的优点是:(1)操作简单,重复性高,薄膜制备过程用时少、效率高,对实验设备及环境要求较低;(2)制备的半导体薄膜形貌规则、薄厚均匀。
  • 一种半导体薄膜制备方法
  • [发明专利]一种提纯的方法-CN201710306227.2有效
  • 刘晓智;任理维;刘大春;梅青松;刘舲航 - 辽宁大学
  • 2017-05-04 - 2018-09-21 - C01B19/02
  • 本发明公开一种提纯的方法,包括如下步骤:1)以工业为原料,在CO的气氛中,以N,N—二甲基甲酰胺(DMF)为溶剂,以无机碱为助溶剂,在0.1‑0.6MPa,10‑50℃下搅拌反应10min,反应完毕后,取出溶剂液,隔绝空气抽滤,将漏斗上的固体避光烘干,得除硫纯化粉;2)将除硫纯化粉置于CO气氛中,以DMF为溶剂,以有机碱为助溶剂,在0.1‑0.4MPa,25‑50℃下搅拌反应20min,反应完毕后,取出溶剂液,隔绝空气抽滤,取固体、洗涤、避光烘干,得纯粉。
  • 一种提纯方法

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