专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种含氯硅烷废气的回收处理装置-CN201410166914.5有效
  • 张旭 - 新特能源股份有限公司
  • 2014-04-23 - 2018-02-09 - C01B33/107
  • 本发明提供一种含氯硅烷废气的回收处理装置,包括氯硅烷回收单元、氯硅烷淋洗单元和尾气放空单元,所述氯硅烷回收单元与氯硅烷淋洗单元相连,用于将含氯硅烷废气中的部分氯硅烷气体回收,并将剩余废气输送至氯硅烷淋洗单元;所述氯硅烷淋洗单元还与尾气放空单元相连,用于将所述剩余废气中的余下氯硅烷气体和氯化氢气体淋洗下来,以清除所述剩余废气中的氯硅烷气体和氯化氢气体,并将清除了氯硅烷气体和氯化氢气体的剩余废气输送至尾气放空单元;所述尾气放空单元用于将所述清除了氯硅烷气体和氯化氢气体的剩余废气放空。本发明所述回收处理装置既能充分回收废气中的氯硅烷资源,又能对废气中无法回收的氯硅烷进行无污染处理。
  • 一种硅烷废气回收处理装置
  • [发明专利]硅烷尾气处理装置以及方法-CN201110347328.7有效
  • 吴啸;冯金良;梁浩;范建超 - 无锡华润华晶微电子有限公司
  • 2011-10-28 - 2013-05-08 - F23G7/06
  • 本发明涉及硅烷尾气处理装置及其处理方法。该硅烷尾气处理装置具备燃烧筒,所述燃烧筒具备:进气口,用于通入以硅烷气体为主要成分的硅烷尾气;第一反应气体通入口,用于通入第一反应气体;第二反应气体通入口,用于通入第二反应气体;排气口,用于排出所述硅烷气体与所述第一反应气体和第二反应气体反应之后的气体,其中,上述第一反应气体通入口和上述第二反应气体通入口分开设置,并且上述第一反应气体通入口设置在比上述第二反应气体通入口更靠近进气口的位置。另外,还设置有气体流速降低装置。利用本发明的硅烷尾气处理装置及其方法能够对硅烷尾气进行完全地处理,提高工艺的安全性。
  • 硅烷尾气处理装置以及方法
  • [发明专利]锑掺杂的硅和硅锗膜的原位制备的方法-CN201910614722.9有效
  • S.B.赫纳;E.哈拉里 - 日升存储公司
  • 2019-07-09 - 2023-10-17 - H01L21/205
  • 一种用于形成锑掺杂的含硅层的工艺,包含:(a)使用锑源气体和硅源气体或硅源气体和锗源气体的组合,通过化学气相沉积在半导体结构上方沉积锑掺杂的含硅层;以及(b)在不大于800℃的温度下退火锑掺杂的含硅层。锑源气体可以包含以下中的一种或多种:三甲基锑(TMSb)和三乙基锑(TESb)。硅源气体包括以下中的一种或多种:硅烷、二硅烷、三氯硅烷(TCS)、二氯硅烷(DCS)、一氯硅烷(MCS)、甲基硅烷,以及四氯化硅。锗源气体包括锗烷。
  • 掺杂硅锗膜原位制备方法
  • [实用新型]一种检测硅烷气体的检测装置-CN202020852535.2有效
  • 徐俊瑞 - 徐俊瑞
  • 2020-05-20 - 2021-02-26 - G01N33/00
  • 本实用新型属于硅烷气体检测设备技术领域,具体涉及一种检测硅烷气体的检测装置,包括装置主体,所述转换管的一侧安装有流量计,所述输气管的一侧安装有分流管,所述固定槽的上方安装有检测仪,所述装置主体的上方安装有碱液箱,所述出气管的一侧安装有收集桶,分流管用于将输气管内的硅烷气体进行气体分流,不仅可以避免气体堆积在同一管道而发生燃烧和爆炸,而且分流后的硅烷气体会流进相应的检测仪进行检测,增加检测数据的多样性和精准性,碱液箱用来盛放低浓度的碱液,进而完成对硅烷气体的第一步水解,收集桶通过去离子水与硅烷气体的水解反应,完成对硅烷气体的第二步水解,避免硅烷气体因水解反应不完全,而排放到空气中对环境造成危害。
  • 一种检测硅烷气体装置
  • [实用新型]气体管线防堵塞装置-CN201720053313.2有效
  • 江敏 - 德山化工(浙江)有限公司
  • 2017-01-17 - 2017-09-08 - F16L55/24
  • 本实用新型公开乐了一种气体管线防堵塞装置,设置在排放含有氯硅烷气体和惰性气体的微量气体气体管线出口的管线防堵塞装置,包括以下几个部分气体管线的出口向上设计的气体出口(A);惰性气体保有室(B),其上端和气体管线的出口(A)有间隙,其下端设置在气体管线的出口(A)的下方,其内部为在氯硅烷和惰性气体氛围;气体防扩散室(C),从外部完全包覆惰性气体保有室(B),其上部和气体吸引管线(E)连接。通过使用本实用新型中的装置,在将含有氯硅烷以及氮气的氯硅烷密封气体作为流体的管线出口,可以防止因氯硅烷水解生成二氧化硅,而导致的管线堵塞。
  • 气体管线堵塞装置
  • [发明专利]排气处理系统-CN201180037681.3无效
  • 大内太;冈部隆志;朝野刚 - 吉坤日矿日石能源株式会社
  • 2011-07-29 - 2013-04-17 - B01D53/46
  • 从半导体制造装置(1)排出含有单硅烷的混合气体。泵部(2),抽吸从半导体制造装置(1)排出的混合气体,送向后级的硅烷气体处理部(20)。在泵部(2)中,作为吹扫用气体使用氩气。硅烷气体处理部(20),对从半导体制造装置(1)通过泵部(2)而排出的至少含有单硅烷和氩的混合气体进行处理,分离回收单硅烷而进行再利用。稀有气体处理部(30),从混合气体中分离回收氩进行再利用。经稀有气体处理部(30)回收的氩可作为泵部(2)的吹扫气体来使用。
  • 排气处理系统
  • [实用新型]气体供给装置-CN201320615768.0有效
  • 张海华;高椋敦嗣 - 德山化工(浙江)有限公司
  • 2013-09-30 - 2014-05-14 - B01J19/14
  • 本实用新型提供一种气体供给装置,该气体供给装置具有惰性气体配管、分支配管、硅烷传感器、第1阀门、第2阀门、第3阀门。上述惰性气体配管连接供液态氯硅烷流动的氯硅烷配管和惰性气体供给源。上述分支配管与上述惰性气体配管相连接。上述硅烷传感器设置在上述分支配管上。上述第1阀门设置在上述惰性气体配管上,且配置在上述氯硅烷配管和上述分支配管之间。上述第2阀门设置在上述惰性气体配管上,且配置在上述惰性气体供给源和上述分支配管之间。上述第3阀门设置在上述分支配管上,且配置在上述惰性气体配管和上述硅烷传感器之间。
  • 气体供给装置
  • [发明专利]甲基三氯硅烷气体的裂解状态模拟预测方法、设备及应用-CN202110724362.5在审
  • 汤哲鹏;谢宇辉 - 核工业第八研究所
  • 2021-06-29 - 2021-09-03 - G16C10/00
  • 本发明涉及一种甲基三氯硅烷(CH3SiCl3,MTS)气体的裂解状态模拟预测方法、设备及应用,该方法以简化的甲基三氯硅烷气体裂解反应动力学机理模拟所述甲基三氯硅烷气体在反应设备中的裂解过程,预测获得给定工艺条件下的裂解状态;构建甲基三氯硅烷气体裂解反应动力学机理初始数据库;对所述初始数据库进行偏差调试和灵敏度调试,获得所述简化的三氯甲基硅烷气体裂解反应动力学机理。与现有技术相比,本发明具有准确可靠等优点,可以通过甲基三氯硅烷气体的裂解状态模拟预测方法获得在反应设备中甲基三氯硅烷气体的裂解状态,基于所述裂解状态调控和优化碳化硅涂层制备过程的工艺参数。
  • 甲基硅烷气体裂解状态模拟预测方法设备应用

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