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[发明专利]太阳能集热管连续自动溅射镀膜方法及装置-CN200710118524.0无效
发明人：殷志强;李云松;吕振华;李云程;秦克强 -专利权人：殷志强;李云程;吕振华;李云松
申请日： 2007-07-09 - 公布日： 2009-01-14 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：一种太阳能集热管连续自动溅射镀膜方法及装置，包括设置预真空室和末端真空室，在预真空室和末端真空室之间设置可以相对封闭不接触大气的溅射真空室，通过可变轨迹的传送轨道将各真空室相连接；当工件车进入预真空室后，对预真空室抽真空，使其真空度达到与溅射真空室的真空度相同；在相同的真空度下，工件车由预真空室进入溅射真空室，并对太阳能集热管的表面进行太阳能选择性吸收涂层的溅射沉积；完成全部溅射作业后，工件车进入与溅射室具有相近真空度的末端真空室；关闭溅射真空室后，使所述末端真空室达到常压状态，工件车移至末端真空室外部。本发明大大减少了因溅射室暴露大气污染溅射环境，提高了生产效率，提高了作业效率及镀膜质量。
太阳能热管连续自动溅射镀膜方法装置

[发明专利]球罩导电环加工方法-CN202310654642.2在审
发明人：戴辉;刘克武;王奎;王星星;尹士平 -专利权人：安徽光智科技有限公司
申请日： 2023-06-02 - 公布日： 2023-09-05 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：一种球罩导电环加工方法包括步骤：步骤一，在真空溅射镀膜机的真空室内，用球罩固定工装将球罩固定，以形成中空空间以及形成使球罩的内球面的一部分露出的镀膜间隙；步骤二，将溅射靶安装在真空溅射镀膜机的靶材基座上，溅射靶具有能够环形溅射的溅射面；步骤三，使球罩固定工装和溅射靶相对彼此运动，以使溅射靶的溅射部伸入球罩固定工装的中空空间中；步骤四，关闭真空室，对真空室抽真空；步骤五，启动溅射电源和溅射气体，溅射气体轰击溅射靶的溅射面以使从溅射面被轰击处的溅射靶的粒子在镀膜间隙进行沉积镀膜以形成导电环；步骤六，镀覆完成之后从真空室取出球罩固定工装且从球罩固定工装中取出已形成导电环的球罩。
导电加工方法

[实用新型]真空磁控溅射镀膜机-CN201720297494.3有效
发明人：朱国朝;袁安素;沈学忠;温振伟 -专利权人：纳狮新材料股份有限公司
申请日： 2017-03-24 - 公布日： 2017-12-01 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型是关于真空磁控溅射镀膜机。本实用新型一实施例提供一真空磁控溅射镀膜机，其包括真空抽气系统、真空室、真空室门、设置在真空室中用于放置镀膜产品的工件转架以及设置在真空室中的磁控溅射装置，其中磁控溅射装置包含与真空室固定连接的磁控靶法兰，其中真空磁控溅射镀膜机还包括设置于磁控溅射装置附近的纳米粉末导入装置。本实用新型实施例提供的真空磁控溅射镀膜机可制作具有高硬度、良好的耐磨损性能以及可包含多种其它性能的涂层。
真空磁控溅射镀膜

[发明专利]溅射室压力稳定方法、溅射镀膜方法和稳压溅射装置-CN201510002556.9有效
发明人：徐根;陈社诚;周志刚 -专利权人：湖南普照信息材料有限公司;湖南电子信息产业集团有限公司
申请日： 2015-01-05 - 公布日： 2017-03-29 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明公开了一种溅射室压力稳定方法、溅射镀膜方法和稳压溅射装，溅射室压力稳定方法包括以下步骤1)实时测量靶材溅射区域的真空值以得到实测值，实时测量靶材非溅射区域的真空值以得到参照值；2)调整抽取气体的速度使得所述实测值和所述参照值均处于预设压力范围内上述溅射室压力稳定方法测量了靶材溅射区域的真空值和靶材非溅射区域的真空值，反映了溅射室真空值的真实情况，通过调整抽取气体的速度，调节真空值达到预设值，并调整实测值和真空值的差值达到预设差值，使得溅射室压力稳定，制程气体的速度不变，保证溅射室内气体组分稳定。
溅射压力稳定方法镀膜稳压装置

[发明专利]一种具有三套溅射源的磁控溅射镀膜生产线-CN201510237296.3在审
发明人：魏永祥;魏长龙;马东 -专利权人：枣庄市锦华镀膜玻璃有限公司
申请日： 2015-05-12 - 公布日： 2017-01-04 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开了一种具有三套溅射源的磁控溅射镀膜生产线，包括真空预抽室、真空镀膜室、第一溅射源、第二溅射源、第三溅射源、过渡室，所述真空预抽室和真空镀膜室及过渡室依次连接，所述真空镀膜室内安装第一溅射源、第二溅射源、第三溅射源，所述第一溅射源、第二溅射源、第三溅射源依次平行设置。该生产线使产品膜层更均匀牢固，成膜书读快，生产效率高合格率高，生产出更丰富多样的产品种类，溅射源使用寿命长，膜层厚度易于控制，节约功耗，单位时间及电量能生产更多的优质产品。
一种具有溅射磁控溅射镀膜生产线

[实用新型]磁控阴极溅射镀膜工艺室-CN201320412833.X有效
发明人：陆仁立 -专利权人：重庆春江镀膜玻璃有限公司
申请日： 2013-07-11 - 公布日： 2014-01-29 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型涉及玻璃镀膜生产技术领域，公开一种磁控阴极溅射镀膜工艺室，包括依次连通的入口气锁室、入口真空缓冲腔室、磁控阴极溅射镀膜真空腔室、出口真空缓冲腔室和出口气锁室，所述入口真空缓冲腔室包括至少4个缓冲单元腔室，磁控阴极溅射镀膜真空腔室包括至少16个溅射单元腔室，所述出口真空缓冲腔室包括至少4个缓冲单元腔室；本实用新型的磁控阴极溅射镀膜工艺室，在磁控阴极溅射镀膜真空腔室两端设置真空缓冲室和锁定室，可有效降低玻璃基片进出磁控阴极溅射镀膜真空腔室造成的气体泄漏，提高磁控阴极溅射镀膜真空腔室的真空度，并使其维持在稳定的水平，从而提高镀膜质量。
阴极溅射镀膜工艺

[实用新型]磁控溅射纳米疏水膜制备装置-CN201920781324.1有效
发明人：钱锋 -专利权人：深圳市天星达真空镀膜设备有限公司
申请日： 2019-05-28 - 公布日： 2020-01-21 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种磁控溅射纳米疏水膜制备装置，包括真空室、蒸发室、真空获得系统、真空计、充气系统、磁控溅射系统、转架和加热丝，所述磁控溅射系统包括偏压电源和磁控溅射阴极，所述偏压电源分别与转架和磁控溅射阴极电连接，所述磁控溅射阴极和真空计安装在真空室上，所述转架和加热丝安装在真空室内，所述蒸发室位于真空室下方，并与真空室通过管道相连通，所述蒸发室内设有电阻蒸发器，所述转架位于磁控溅射阴极与蒸发室之间，所述充气系统和真空获得系统分别与真空室相连接本实用新型同时具备了磁控溅射镀膜和蒸发镀膜这两种工艺，避免了镀膜过程中基片和镀料需要频繁装卸的问题，提高了镀膜效率和膜层的牢固性。
真空室磁控溅射阴极转架蒸发室磁控溅射系统真空获得系统本实用新型充气系统偏压电源真空计磁控溅射镀膜室内加热丝安装磁控溅射镀膜过程镀膜效率蒸发镀膜制备装置电连接加热丝牢固性疏水膜蒸发器电阻镀料膜层蒸发装卸

[发明专利]一种掺杂铬的晶态钨薄膜及其制备方法-CN201310627059.9无效
发明人：朱开贵;刘方舒 -专利权人：北京航空航天大学
申请日： 2013-11-29 - 公布日： 2014-03-12 - 主分类号： C23C14/14 文献下载
摘要：发明公开了一种掺杂铬的晶态钨薄膜及其制备方法，是利用磁控溅射设备直接连续溅射制备出掺杂铬的晶态钨薄膜，省略了后缀的退火处理。具体制备步骤为：将钨靶材放置在磁控溅射设备真空室中的直流溅射台上，把铬靶材放置在钨靶的溅射区内，基片放置在样品台上；对真空室抽真空至背底真空，向真空室充入氩气，并调节氩气流量和溅射气压，调节溅射直流和空载比；沉积溅射前预溅射一段时间后，调节基片至溅射区域，在设置的溅射沉积时间里开始制备掺杂铬的晶态钨薄膜。磁控溅射得到的掺杂铬的晶态钨薄膜无需进行后续的热处理过程。
一种掺杂晶态薄膜及其制备方法

[实用新型]一种具有三套溅射源的磁控溅射镀膜生产线-CN201520301818.7有效
发明人：魏永祥;魏长龙;马东 -专利权人：枣庄市锦华镀膜玻璃有限公司
申请日： 2015-05-12 - 公布日： 2015-09-02 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种具有三套溅射源的磁控溅射镀膜生产线，包括真空预抽室、真空镀膜室、第一溅射源、第二溅射源、第三溅射源、过渡室，所述真空预抽室和真空镀膜室及过渡室依次连接，所述真空镀膜室内安装第一溅射源、第二溅射源、第三溅射源，所述第一溅射源、第二溅射源、第三溅射源依次平行设置。该生产线使产品膜层更均匀牢固，成膜书读快，生产效率高合格率高，生产出更丰富多样的产品种类，溅射源使用寿命长，膜层厚度易于控制，节约功耗，单位时间及电量能生产更多的优质产品。
一种具有溅射磁控溅射镀膜生产线

[其他]用于涂布基板的设备-CN201490001611.1有效
发明人：丹尼尔·塞韦林;马库斯·本德;马库斯·哈尼卡;拉尔夫·林登贝格 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2014-12-16 - 公布日： 2019-04-26 - 主分类号： C23C14/50 文献下载
摘要：根据实施方式，提供在真空处理腔室中涂布基板的设备。设备包含真空处理腔室。所述真空处理腔室包含溅射组件。所述溅射组件包含溅射源。所述溅射组件可以相对于所述真空处理腔室的平移运动的方式移动。设备包含功率源用于向所述溅射源施加功率。设备进一步包含控制器，用于依据所述真空处理腔室中的所述溅射组件或所述溅射源的当前位置，来控制从下述内容中的至少一个：由所述电源施加到所述溅射源的所述功率、由所述电源施加到所述溅射源的电压、以及由所述电源施加到所述溅射源的电流
溅射源真空处理腔室溅射施加电源涂布基板平移运动控制器功率源移动

[发明专利]一种连续多真空室卷绕镀膜设备-CN201410166245.1无效
发明人：王振东;何万能 -专利权人：苏州诺耀光电科技有限公司
申请日： 2014-04-24 - 公布日： 2014-07-09 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明公开了一种连续多真空室卷绕镀膜设备，其特征在于：所述设备包括放卷机构、放卷室、隔离阀门、真空溅射室A、真空溅射机构A、隔离腔、真空溅射室B、真空溅射机构B、隔离腔、真空溅射室C、真空溅射机构C、导向轴本发明提供一种连续多真空室卷绕镀膜设备，全部采用分子泵系统，各沉积室之间设有隔离腔，可以很好的避免气体间相互干扰，可以一次性沉积多种膜层，也可以实现多种工艺膜系一次完成。
一种连续真空卷绕镀膜设备

[实用新型]一种铌溅射泵及真空系统-CN201520719593.7有效
发明人：彭丽萍;吴卫东;王雪敏;樊龙;蒋涛;王新明;湛治强;沈昌乐;阎大伟;赵妍;黎维华;邓青华 -专利权人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请日： 2015-09-16 - 公布日： 2015-12-23 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种铌溅射泵及真空系统，属于真空技术领域，真空系统包括腔体、机械泵、分子泵、离子泵和铌溅射泵，铌溅射泵包括壳体、直流磁控溅射靶枪、惰性气体入口和挡板，直流磁控溅射靶枪为铌靶，壳体内设置有空腔，空腔与待抽真空的腔体连通；直流磁控溅射靶枪固定在壳体上且伸入壳体的内部；直流磁控溅射靶枪的工作材料为铌，惰性气体入口贯穿壳体且与空腔连通，惰性气体入口的出气口设置在腔体的靠近直流磁控溅射靶枪的一端；挡板设置在壳体的内部铌溅射泵采用磁控溅射原理，以铌为靶材，通过溅射活性的纳米铌膜，化学吸附真空腔体中的氧和氮等气体，有效提高腔体的真空度。
一种溅射真空系统

[实用新型]一种镀膜机的抽真空装置-CN201520553173.6有效
发明人：徐裕宏;廖贵军 -专利权人：松林光电科技(湖北)有限公司
申请日： 2015-07-20 - 公布日： 2015-12-09 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种镀膜机的抽真空装置，其特征在于：包括一个溅射室，溅射室、与溅射室相连通的抽真空机构以及调整机构，有益效果在于：通过在溅射室内设置调整机构，在镀膜时可以根据需求转动旋转平台，调整基板的角度，从而保证基材在镀膜的均匀性，配合设置在溅射室上方的热风机构，并配合旋转平台的设置，使得溅射室内形成中心扩散风流向，保证镀膜产品的干燥程度均一；设置抽真空机构，并利用抽真空泵，配合低真空规与高真空阀的设置，保证镀膜时方便调整溅射室内的真空度，从而获得高质量的镀膜产品；设置过滤器和电磁阀，通过抽真空泵对溅射室内空气进行抽取，经过过滤器进行过滤，电磁阀控制排气量，方便的控制溅射室内的真空度。
一种镀膜真空装置

[发明专利]一种汽车风窗玻璃真空连续磁控溅射镀膜装置-CN201810019624.6在审
发明人：崔岸;孙文龙;刘芳芳;张睿;程普;郝裕兴;陈宠 -专利权人：吉林大学
申请日： 2018-01-09 - 公布日： 2018-05-08 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明公开了一种汽车风窗玻璃真空连续磁控溅射镀膜装置，包括：装载区、镀膜区和卸载区；所述装载区、所述镀膜区和所述卸载区均设置在真空腔内；所述装载区和所述卸载区关于所述镀膜区对称设置；在镀膜区采用多个磁控溅射阴极结构，并布置多个真空激光测距仪，与多个溅射阴极相对应，通过真空激光测距仪测出镀膜表面与磁控溅射阴极的距离反馈给溅射阴极，控制溅射功率，从而控制不同位置溅射离子的量，以保证一次镀膜就可以达到膜厚均匀性要求。本发明提供了一种汽车风窗玻璃真空连续磁控溅射镀膜装置，不仅简化了真空镀膜设备，同时能够自动调节磁控溅射功率，保证带有曲率的玻璃表面镀膜厚度的均匀性。
一种汽车窗玻璃真空连续磁控溅射镀膜装置

[实用新型]一种连续多真空室卷绕镀膜设备-CN201420201591.4有效
发明人：王振东;何万能 -专利权人：苏州诺耀光电科技有限公司
申请日： 2014-04-24 - 公布日： 2014-09-03 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种连续多真空室卷绕镀膜设备，其特征在于：所述设备包括放卷机构、放卷室、隔离阀门、真空溅射室A、真空溅射机构A、隔离腔、真空溅射室B、真空溅射机构B、隔离腔、真空溅射室C、真空溅射机构C本实用新型提供一种连续多真空室卷绕镀膜设备，全部采用分子泵系统，各沉积室之间设有隔离腔，可以很好的避免气体间相互干扰，可以一次性沉积多种膜层，也可以实现多种工艺膜系一次完成。
一种连续真空卷绕镀膜设备

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