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[发明专利]真空沉积设备和用于真空沉积的方法-CN201410318375.2有效
发明人：韩政洹 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2014-07-04 - 公布日： 2018-06-19 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：公开了一种真空沉积设备和一种用于真空沉积的方法。所述真空沉积设备包括真空沉积装置、掩模、真空室和控制单元。真空沉积装置在基底上沉积薄膜层。掩模设置在基底和真空沉积装置之间，使用掩模在基底上选择性地沉积薄膜层。真空室围绕真空沉积装置和掩模。控制单元设置在真空室的外部，控制单元与真空沉积装置连接并控制施加在掩模上的拉力和压缩力。 1
真空沉积装置掩模真空沉积设备真空室基底沉积薄膜真空沉积压缩力施加外部

[发明专利]薄膜电池制备装置及方法-CN201910022823.7有效
发明人：李致朋;区定容 -专利权人：深圳市致远动力科技有限公司
申请日： 2019-01-10 - 公布日： 2021-04-13 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明提供了一种薄膜电池制备装置及方法，该装置包括薄膜沉积真空腔，用于在电池的衬底上沉积薄膜，薄膜沉积真空腔的数量至少为两个；真空连接腔，连接相邻两个薄膜沉积真空腔；真空阀，设于薄膜沉积真空腔和真空连接腔之间，用于控制薄膜沉积真空腔和真空连接腔的连通和关闭；传送机构，设于真空连接腔内，用于将电池从其中一个薄膜沉积真空腔内转移至相邻的薄膜沉积真空腔。本发明提供的薄膜电池制备装置，多个薄膜沉积真空腔通过真空阀及真空连接腔，并可通过传送机构将沉积后的衬底移送到相邻的薄膜沉积真空腔中，进行其他沉积，如此重复即可在不换靶材的情况下，保持电池生产的过程连续不断地进行
薄膜电池制备装置方法

[发明专利]线性串联的原子层沉积系统-CN202010348349.X在审
发明人：李哲峰;乌磊;聆领安辛 -专利权人：深圳市原速光电科技有限公司
申请日： 2020-04-27 - 公布日： 2021-11-12 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明公开一种线性串联的原子层沉积系统，其中，所述线性串联的原子层沉积系统包括真空放卷装置、真空收卷装置、至少一个真空沉积装置及至少一个真空卷料辅助装置，真空放卷装置套设有卷料，用于将卷料拉出；真空收卷装置与真空放卷装置间隔设置，真空收卷装置用于将拉出后的卷料回收；至少一个真空沉积装置设于真空放卷装置和真空收卷装置之间，并依次连接；真空沉积装置用于对卷料沉积处理；真空卷料辅助装置设于相邻两个真空沉积装置之间、和/或真空沉积装置与真空放卷装置之间、和/或真空沉积装置与真空收卷装置之间。本发明技术方案调整卷料在传送过程中的位置，以改善卷料表面的原子沉积效果。
线性串联原子沉积系统

[发明专利]一种真空状态碘蒸汽回收装置-CN202211322913.6在审
发明人：张振华;张兴华;蔡建;贾少霞;李龙;刘芳芳;杨景华;金婷;蔡勇 -专利权人：苏州纳飞卫星动力科技有限公司
申请日： 2022-10-27 - 公布日： 2022-12-30 - 主分类号： F04B37/14 文献下载
摘要：本发明公开一种真空状态碘蒸汽回收装置，涉及电推进技术领域，包括真空腔体、推力器、供气组件、沉积组件、真空泵和供冷组件，推力器内设于真空腔体，供气组件内设于真空腔体，供气组件与推力器连接，供气组件向推力器提供碘蒸汽，沉积组件包括沉积管，沉积管的进气端与真空腔体连通，真空泵一端与沉积管的出气端连通，真空泵另一端导通至大气环境，供冷组件朝沉积管外供应冷却用的流体介质。从真空腔体出来的气体经沉积组件的沉积管被抽至真空泵处，供冷组件使沉积管保持低温状态，高温碘蒸汽能够沉积在沉积管，有效避免碘蒸汽进入真空泵，有效保护了真空泵，节约了成本和避免了更换时存在的泄漏隐患，沉积在沉积管的固态碘可以回收利用
一种真空状态蒸汽回收装置

[实用新型]线性串联的原子层沉积系统-CN202020670207.0有效
发明人：李哲峰;乌磊;聆领安辛 -专利权人：深圳市原速光电科技有限公司
申请日： 2020-04-27 - 公布日： 2021-01-12 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本实用新型公开一种线性串联的原子层沉积系统，其中，所述线性串联的原子层沉积系统包括真空放卷装置、真空收卷装置、至少一个真空沉积装置及至少一个真空卷料辅助装置，真空放卷装置套设有卷料，用于将卷料拉出；真空收卷装置与真空放卷装置间隔设置，真空收卷装置用于将拉出后的卷料回收；至少一个真空沉积装置设于真空放卷装置和真空收卷装置之间，并依次连接；真空沉积装置用于对卷料沉积处理；真空卷料辅助装置设于相邻两个真空沉积装置之间、和/或真空沉积装置与真空放卷装置之间、和/或真空沉积装置与真空收卷装置之间。本实用新型技术方案调整卷料在传送过程中的位置，以改善卷料表面的原子沉积效果。
线性串联原子沉积系统

[发明专利]一种真空感应化学气相沉积炉-CN202110372054.0有效
发明人：于方;张建宏;周国达;王姗姗;郭秋艳;孟爽;刘铎;曹月 -专利权人：锦州同创真空冶金科技有限公司
申请日： 2021-04-07 - 公布日： 2022-07-26 - 主分类号： C23C16/54 文献下载
摘要：本发明公开了一种真空感应化学气相沉积炉，涉及化工设备技术领域，包括炉体、真空系统和充气系统，所述炉体内设置有加热室，所述加热室外侧设置有感应加热装置，所述加热室内设置有沉积室，所述沉积室与所述充气系统连通，所述加热室与所述炉体之间为真空室，所述加热室和所述真空室分别通过管路与所述真空系统连通。本发明将真空室和沉积室设置成两个相互独立的结构，真空室和沉积室不相通，沉积气体仅通入沉积室，不仅减少了沉积气体的浪费，还便于控制沉积室内沉积气体的压力和密度；真空系统分别对真空室和沉积室进行抽真空，沉积室内排出的污染性废气可以直接排出炉体之外，避免了对真空室的污染和损坏。
一种真空感应化学沉积

[发明专利]连续阴影掩模汽相沉积系统的阴影掩模的原位腐蚀方法-CN200810168296.2无效
发明人：托马斯·彼得·布罗迪;约瑟夫·A·马尔卡尼奥 -专利权人：阿德文泰克全球有限公司
申请日： 2008-10-15 - 公布日： 2009-04-22 - 主分类号： C23F1/12 文献下载
摘要：公开了一种连续阴影掩模汽相沉积系统的阴影掩模的原位腐蚀方法，其中将基板推进通过多个顺序连接的沉积真空腔。随着基板推进通过每个沉积真空腔，通过定位于沉积真空腔中的阴影掩模在基板上沉积来自定位于沉积真空腔中的材料沉积源的材料。该材料还被沉积在了阴影掩模朝向该材料沉积源的表面上。接着在至少一个沉积真空腔中的阴影掩模的表面上所进行的材料沉积之后，在该沉积真空腔中没有基板时将反应气体导入该沉积真空腔。随后使得反应气体电离以去除沉积在阴影掩模上的材料。
连续阴影掩模汽相沉积系统原位腐蚀方法

[发明专利]材料沉积系统和用于在材料沉积系统中沉积材料的方法-CN201480083861.9有效
发明人：乔斯·曼纽尔·迭格斯-坎波;斯蒂芬·班格特;奥利弗·海默尔;迪特尔·哈斯 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2014-12-05 - 公布日： 2019-11-05 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：描述一种用于将材料沉积在基板(121)上的真空沉积系统(300；400；500)。真空沉积系统(300；400；500)包括：真空腔室(110)，真空腔室(110)具有腔室容积；以及材料沉积布置(100)，材料沉积布置(100)用于提供将沉积的材料，材料沉积布置(100)在沉积期间位于真空腔室真空沉积系统进一步包括基板支撑件(126；600)，基板支撑件(126；600)用于在真空腔室(110)中支撑基板(121)，基板具有基板尺寸。腔室容积对基板尺寸比是15m或更少。另外，描述一种用于在真空沉积系统(300；400；500)中将材料沉积在基板(121)上的方法。
材料沉积基板真空沉积系统真空腔室材料沉积系统基板支撑件腔室沉积沉积材料方法描述尺寸比对基板中支撑

[发明专利]真空冷喷涂系统-CN202210078795.2在审
发明人：卢静;吴应东;解路;李挺;孙澄川;但幸东;汤烈明;路腾;陈东 -专利权人：季华实验室
申请日： 2022-01-24 - 公布日： 2022-05-13 - 主分类号： C23C24/04 文献下载
摘要：本发明提供一种真空冷喷涂系统，包括送粉器、连接于压缩气源的气体控制单元、连接于送粉器和气体控制单元的真空沉积室、设置于真空沉积室内的喷涂管以及连接于真空沉积室的真空排气单元。其中，气体控制单元用于调节进入真空沉积室的喷涂气体压力及流量，喷涂管用于在真空沉积室内进行真空喷涂作业，送粉器用于为真空喷涂作业提供喷涂粉末，真空排气单元用于抽取真空沉积室内真空喷涂作业后的喷涂气体，以使得真空沉积室以一定真空度维持动态真空状态，系统内喷涂用气流量和真空排气流量一致，从而使得真空冷喷涂系统在真空冷喷涂过程中始终维持真空动态平衡。
真空喷涂系统

[发明专利]一种可实现织物连续真空沉积图案膜层的生产线-CN201810177529.9在审
发明人：王银川;余荣沾;张欣;刘琼溪;尹华平;梁媛 -专利权人：广东欣丰科技有限公司
申请日： 2018-03-05 - 公布日： 2019-09-13 - 主分类号： D06M11/83 文献下载
摘要：一种可实现织物连续真空沉积图案膜层的生产线，按照工艺流程包括放卷室，真空沉积室和收卷室；其中，所述放卷室末端设有加热装置，实现对织物的除气，烘干除湿这一功能，使织物的含水含气量达到后期的真空沉积要求；所述真空沉积室包括至少一个真空沉积室，每个真空沉积室包括导辊，抽气口，驱动电机，真空沉积源，沉积靶材，冷却盘管，冷却辊，真空测量探头，观察窗和图案掩模板循环系统；所述收卷室包括可移动取出的收卷轴，驱动电机，导辊，抽气口，充气口，真空测量探头和观察窗本发明提供的生产线，解决了不能采用真空沉积方法在织物上沉积图案膜层的问题，可实现织物上沉积图案膜层的连续化大生产。
真空沉积室连续真空沉积沉积图案驱动电机真空测量真空沉积抽气口放卷室观察窗收卷室图案膜探头导辊膜层真空沉积源烘干除湿加热装置冷却盘管循环系统工艺流程沉积靶充气口大生产含气量可移动冷却辊连续化收卷轴掩模板除气含水取出图案

[发明专利]微晶硅薄膜太阳能电池的真空热退火处理背电极技术-CN201110287896.2无效
发明人：陈宏昌;刘幼海;刘吉人 -专利权人：吉富新能源科技(上海)有限公司
申请日： 2011-09-26 - 公布日： 2013-04-03 - 主分类号： H01L31/18 文献下载
摘要：本发明关于一种微晶硅薄膜太阳能电池的真空热退火处理背电极技术，此技术包括玻璃、真空溅镀沉积第一透明导电层薄膜、真空溅镀沉积第一金属层薄膜、真空溅镀沉积第二金属层薄膜、真空热退火处理、与真空溅镀沉积第二透明导电层薄膜先在玻璃上依序真空溅镀沉积第一透明导电层薄膜、真空溅镀沉积第一金属层薄膜、真空溅镀沉积第二金属层薄膜、以真空热退火处理第二金属层薄膜表面平整化后、最后真空溅镀沉积第二透明导电层薄膜。
微晶硅薄膜太阳能电池真空退火处理电极技术

[发明专利]一种原子层沉积设备-CN201910634402.X在审
发明人：张跃飞;屠金磊;唐亮;张宜旭;程晓鹏;张泽 -专利权人：浙江祺跃科技有限公司
申请日： 2019-07-15 - 公布日： 2019-09-03 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明公开一种原子层沉积设备。本发明提供的原子层沉积设备包括：真空反应室、载气瓶、载气管路、前驱体源瓶和前驱体管路。其中，真空反应室包括沉积室和真空室，沉积室设于真空室的腔体内，且沉积室与真空室可拆卸连接。载气瓶通过载气管路与沉积室连通，前驱体源瓶通过前驱体管路与沉积室连通。沉积室通过其内腔真空抽气口与抽真空设备连接，真空室通过其外腔真空抽气口与抽真空设备连接。本发明提供的原子层沉积设备，真空反应室采用可拆卸连接的内外双腔结构，设备体积小，便于清洗，通用性好，可以满足不同尺寸，不同形状半导体器件的镀膜工艺需求，能够满足工业化大规模生产的需求。
沉积室原子层沉积设备真空室真空反应室抽真空设备可拆卸连接真空抽气口前驱体源载气管路前驱体载气瓶连通内外双腔结构半导体器件镀膜工艺体积小清洗体内

[实用新型]一种原子层沉积设备-CN201921100086.X有效
发明人：张跃飞;屠金磊;唐亮;张宜旭;程晓鹏;张泽 -专利权人：浙江祺跃科技有限公司
申请日： 2019-07-15 - 公布日： 2020-05-26 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本实用新型公开一种原子层沉积设备。本实用新型提供的原子层沉积设备包括：真空反应室、载气瓶、载气管路、前驱体源瓶和前驱体管路。其中，真空反应室包括沉积室和真空室，沉积室设于真空室的腔体内，且沉积室与真空室可拆卸连接。载气瓶通过载气管路与沉积室连通，前驱体源瓶通过前驱体管路与沉积室连通。沉积室通过其内腔真空抽气口与抽真空设备连接，真空室通过其外腔真空抽气口与抽真空设备连接。本实用新型提供的原子层沉积设备，真空反应室采用可拆卸连接的内外双腔结构，设备体积小，便于清洗，通用性好，可以满足不同尺寸，不同形状半导体器件的镀膜工艺需求，能够满足工业化大规模生产的需求。
一种原子沉积设备

[发明专利]一种连续化薄膜真空沉积方法及装置-CN200910095388.7有效
发明人：夏申江;金炯;朱志强 -专利权人：浙江嘉远格隆能源股份有限公司
申请日： 2009-01-12 - 公布日： 2009-06-24 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明涉及一种连续化薄膜真空沉积方法及装置，它包括以下步骤：通过在真空沉积室的进口设置至少一级进口真空预抽室、在真空沉积室的出口设置至少一级出口真空保护室，以保持真空沉积室内的真空度；各级进口真空预抽室、真空沉积室、各级出口真空保护室之间由狭缝连通，并由设置在狭缝处的阀门密封，基底通过狭缝进入各室，阀门在基底通过时开启，在基底通过后关闭；基底在进入进口真空预抽室和离开出口真空保护室时，至少一个进口阀门和至少一个出口阀门是关闭的，以保持真空沉积室内的真空度不变。调整基底的传送速度使相邻二块基底之间的间距在到达沉积装置前缩小，并使基底在离开真空沉积室时，相邻两块基底之间的间距增大，从而实现薄膜沉积的连续化进行和原材料利用率的极大提高。
一种连续薄膜真空沉积方法装置

[发明专利]气相沉积设备和气相沉积方法-CN201010194165.9无效
发明人：阿部淳博 -专利权人：索尼公司
申请日： 2010-05-28 - 公布日： 2010-12-08 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明提供一种气相沉积设备，包括：真空罐；排气部，进行真空罐中的抽真空；气相沉积源，设置在真空罐中，以气化沉积材料；以及行进路径，允许其上沉积该沉积材料的狭长基板至少在相对于该气相沉积源的区域中相对于该气相沉积源沿着凹形路径行进
沉积设备和气方法

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