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[实用新型]一种原子层沉积设备-CN201921100086.X有效
发明人：张跃飞;屠金磊;唐亮;张宜旭;程晓鹏;张泽 -专利权人：浙江祺跃科技有限公司
申请日： 2019-07-15 - 公布日： 2020-05-26 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本实用新型提供的原子层沉积设备包括：真空反应室、载气瓶、载气管路、前驱体源瓶和前驱体管路。其中，真空反应室包括沉积室和真空室，沉积室设于真空室的腔体内，且沉积室与真空室可拆卸连接。载气瓶通过载气管路与沉积室连通，前驱体源瓶通过前驱体管路与沉积室连通。沉积室通过其内腔真空抽气口与抽真空设备连接，真空室通过其外腔真空抽气口与抽真空设备连接。本实用新型提供的原子层沉积设备，真空反应室采用可拆卸连接的内外双腔结构，设备体积小，便于清洗，通用性好，可以满足不同尺寸，不同形状半导体器件的镀膜工艺需求，能够满足工业化大规模生产的需求。
一种原子沉积设备

[实用新型]一种数码产品真空雾化镀膜装置-CN201420759651.4有效
发明人：冯迎春;戴亚文;邹倩 -专利权人：冯迎春
申请日： 2014-12-08 - 公布日： 2015-06-10 - 主分类号： B05B15/12 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种数码产品真空雾化镀膜装置，包括真空雾化镀膜系统，真空雾化镀膜系统包括真空室、真空泵、电磁阀以及雾化器，真空室一侧开口，且开口处设可闭合该开口的真空盖板，真空室内设有密封板，密封板中部设有夹持数码产品用的槽口，密封板将真空室分隔为真空室A、真空室B；真空室A内设有雾化器，雾化器通过雾化管与真空泵的出气口连接，真空泵的进气口与真空管一端连接，真空管上设有电磁阀，且真空管另一端设于真空室B内。本实用新型将雾化器中雾化后的纳米颗粒在压力差的作用下流经卡在真空室A、B腔室中间的手机，并对手机的完全披覆，处理后的手机具有优异的防水防潮抗腐蚀以及抗刮耐磨性能。
一种数码产品真空雾化镀膜装置

[发明专利]真空系统-CN201510904072.3有效
发明人： M·迪亚博格;M·库鲁门;R·西多夫;S·西多夫 -专利权人：塞莫费雪科学(不来梅)有限公司
申请日： 2015-12-09 - 公布日： 2018-11-16 - 主分类号： H01J49/24 文献下载
摘要：本发明涉及一种真空系统，该真空系统包括第一真空室和第二真空室，通过第一真空泵、特别是涡轮分子泵将该第一真空室抽真空，该第一真空室和该第二真空室通过通路连接，其中该通路被密封安排包围，该密封安排包括内部密封件和外部密封件，其中压力通风室位于该内部密封件与该外部密封件之间，该压力通风室通过辅助真空泵抽真空，并且其中该内部密封件的至少一个密封面由该第一或该第二真空室的壁材料组成，特别是该内部密封件通过该第一真空室的壁材料与该第二真空室的壁材料之间的直接接触形成
真空系统

[发明专利]磁控溅镀真空室及其控制方法-CN202111658487.9在审
发明人：陈立;薛闯;李俊杰;李新栓;寇立;黄乐;孙桂红;潘继峰 -专利权人：湘潭宏大真空技术股份有限公司
申请日： 2021-12-31 - 公布日： 2022-05-06 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明公开一种磁控溅镀真空室及其控制方法，磁控溅镀真空室包括真空室，所述真空室呈环形，所述真空室内为真空腔，沿所述真空室的周向间隔设置有多个靶位，其中一个所述靶位设有离子源用于离子源轰击，另外所述靶材设有NbOx靶材或In/Cr靶材，所述真空室上设置有抽气口，所述抽气口上连接有用于将所述真空腔抽取为真空的抽真空组件。本发明提供的磁控溅镀真空室及其控制方法确保整个系统内均处于真空，以保证磁控溅射时的真空程度。
磁控溅镀真空及其控制方法

[发明专利]送取样装置及方法-CN201911335221.3在审
发明人：向洪春;陈长荣 -专利权人：上海思擎企业管理合伙企业（有限合伙）
申请日： 2019-12-23 - 公布日： 2021-07-09 - 主分类号： C30B29/36 文献下载
摘要：本发明公开了一种送取样装置及方法，其中，送取样装置包括：反应室，用于衬底的外延生长；真空室，包括真空腔，所述真空腔被抽真空至设定的真空度，所述真空室通过第一密封门和所述反应室连接；预热室，用于对石墨托盘上的衬底预热，所述预热室通过第二密封门和所述真空室连接；送样室，用于送取石墨托盘，所述送样室通过第三密封门和所述真空室连接；机械手，设置在所述真空室内，用于在所述送样室、所述预热室和所述反应室之间搬运石墨托盘。
取样装置方法

[实用新型]叶片芯材的真空输送装置-CN201920196729.9有效
发明人：闫浩 -专利权人：杰思比复合材料（涿州）有限公司
申请日： 2019-02-14 - 公布日： 2019-10-18 - 主分类号： B65G15/58 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种叶片芯材的真空输送装置，包括真空室、分布在真空室上的若干个片基带和用来固定片基带及隔绝外界的定位柱，定位柱设置为若干个且均匀分布在相邻两片基带之间，相邻两个定位柱之间设置有透气孔；真空室包括真空室面板、真空室底板和传送带调整装置，真空室面板和真空室底板之间的两侧边缘处设置有真空室纵梁，两个真空室纵梁之间的两端设置有真空室横梁，真空室横梁的底部设置有真空室边底板；传送带调整装置固定在两个真空室纵梁的一端部
真空室定位柱片基带纵梁真空输送装置本实用新型真空室底板调整装置叶片芯材传送带横梁底板两侧边缘处固定片基两侧设置两端设置使用寿命平皮带透气孔开槽靠尺芯材便利加工应用

[发明专利]真空腔室及真空腔室加热系统-CN202310970625.X在审
发明人：罗先刚;龙云;汪孟珂;鲜汶秀 -专利权人：天府兴隆湖实验室
申请日： 2023-08-03 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G21K1/00 文献下载
摘要：本申请涉及冷原子技术领域，具体涉及一种真空腔室及真空腔室加热系统。真空腔室包括腔室侧壁和由腔室侧壁围成的真空腔，在腔室侧壁的外壁或内壁设有反射层，反射层对第一波段的光具有高反射率、低透过率，在反射层上设有通光区，通光区用于供第一波段的光通过，反射层可将射至反射层的第一波段的光反射回真空腔内本申请实施例的真空腔室和真空腔室加热系统，通过直接对真空腔室外侧壁照射第一波段的光来加热真空腔，不会引入电流，因此从根本上消除了磁场噪声的干扰，且加热均匀、加热稳定性高。
空腔加热系统

[发明专利]一种连续多真空室卷绕镀膜设备-CN201410166245.1无效
发明人：王振东;何万能 -专利权人：苏州诺耀光电科技有限公司
申请日： 2014-04-24 - 公布日： 2014-07-09 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明公开了一种连续多真空室卷绕镀膜设备，其特征在于：所述设备包括放卷机构、放卷室、隔离阀门、真空溅射室A、真空溅射机构A、隔离腔、真空溅射室B、真空溅射机构B、隔离腔、真空溅射室C、真空溅射机构C、导向轴、收卷室、收卷机构、隔离机构、沉积室A、沉积室B以及沉积室C。本发明提供一种连续多真空室卷绕镀膜设备，全部采用分子泵系统，各沉积室之间设有隔离腔，可以很好的避免气体间相互干扰，可以一次性沉积多种膜层，也可以实现多种工艺膜系一次完成。
一种连续真空卷绕镀膜设备

[实用新型]一种应用于玻璃制品的磁控镀膜生产线-CN201820138785.2有效
发明人：陈金成;刘俊;卿新卫 -专利权人：珠海市斗门区鸿茂玻璃有限公司
申请日： 2018-01-29 - 公布日： 2018-11-02 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种设计合理、可防止玻璃制品变形和真空环境稳定的应用于玻璃制品的磁控镀膜生产线。本实用新型包括输送装置，输送装置上设置有真空腔室，真空腔室内设置有四个隔离通道，隔离通道上均设置有玻璃输送通道，四个隔离通道将真空腔室依次分割成第一低真空室、第一高真空室、镀膜室、第二高真空室和第二低真空室，镀膜室内设置有磁控溅射靶，输送装置上的输送辊为陶瓷输送辊，第一低真空室和第二低真空室的两端分别设置有第一抽真空器和第一抽风器，第一高真空室和第二高真空室及镀膜室的两端分别设置有第二抽真空器和第二抽风器，第二抽真空器的下端设置有加热装置。
低真空室高真空室本实用新型玻璃制品抽真空器磁控镀膜隔离通道输送装置真空腔室抽风器镀膜室应用室内玻璃输送通道磁控溅射靶加热装置陶瓷输送真空环境输送辊真空腔镀膜下端变形分割

[实用新型]一种真空处理器-CN202121998426.2有效
发明人：杨立群;蔡远臻;左俊;夏国文;肖培;张伟洪 -专利权人：长沙仁毅机械制造有限公司
申请日： 2021-08-24 - 公布日： 2022-01-14 - 主分类号： B01J3/03 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种真空处理器，包括真空泵系统和真空管槽，所述真空管槽包括物料输送管和真空室，所述物料输送管为中间的管路，用于物料的进出，外层管内壁与中间管外壁形成真空室，真空室连接真空室外管，真空室外管与真空泵系统连接，真空室底部与物料出口连通，使物料得到连续的真空处理，物料从物料输送管进入，真空室通过真空室外管连接真空泵系统，进行抽真空，最后物料从真空室的底部排出，使物料得到连续的真空处理。
一种真空处理器

[实用新型]磁控溅射铝镜生产线前、后粗抽真空室-CN201320483258.2有效
发明人：郭玉芬;丁秀芳;赵彬;庄慧显;丁波;曹本伟;董磊;尹怀秀 -专利权人：青岛环球集团股份有限公司
申请日： 2013-08-08 - 公布日： 2014-02-19 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种磁控溅射铝镜生产线前、后粗抽真空室，包括真空室、上盖板、传动轴、外真空锁、内真空锁，其中，兼作玻璃板的进出通道的外真空锁设置在真空室左端的侧壁上，兼作真空室进出口的内真空锁设置在真空室右端侧壁上；上盖板呈凹形，其除外周密封用方框外，中间部份整体下凹，下凹部分的下表面与真空室左侧壁顶端的上密封法兰框底面平齐，上盖板与真空室左右侧壁之间通过真空室上密封法兰框连接；真空室右端部分的高度大于其左端部分的高度，在其右端的顶部设置有真空锁维修盖，真空室整体呈台阶式矩形结构，其底部每相邻两个传动轴之间设置有若干两端密闭的方钢。本实用新型最大限度地减少了真空室内非工艺必需的冗余空间。
磁控溅射生产线后粗抽真空

[实用新型]氨基模塑料真空脱水装置-CN201621455916.7有效
发明人：高峰;彭建军;许国青 -专利权人：山东高兴新材料股份有限公司
申请日： 2016-12-28 - 公布日： 2017-07-18 - 主分类号： F26B17/04 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种氨基模塑料真空脱水装置,属于氨基模塑料颗粒生产设备技术领域，包括进料斗、真空室，其特征在于，所述真空室包括第一真空室和第二真空室，所述第一真空室的输入端通过绞龙装置与进料斗相连，第一真空室的输出端通过三通结构的传输器与第二真空室相连，所述第一真空室上端与真空泵相连，第一真空室和真空泵之间设置有过滤装置，第一真空室内设置有输送带，所述输送带下侧设置有振动板，真空室内还设置有第一水分检测装置，所述第一水分检测装置与控制真空泵的控制器相连，真空室的出口处设置有第二水分检测装置；本实用新型干燥效果更好，缩短了其流程，提高了产能，降低能耗，对环境无污染。
氨基塑料真空脱水装置

[实用新型]一种T型真空感应熔炼浇铸炉-CN202021291274.8有效
发明人：朱兴发;周慧俊;陈睿;朱敏;陈紫瑶 -专利权人：苏州振湖电炉有限公司;苏州振吴电炉有限公司
申请日： 2020-07-02 - 公布日： 2021-03-16 - 主分类号： F27B14/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种T型真空感应熔炼浇铸炉，包括真空熔炼室、设置于所述真空熔炼室内部的熔炼炉和通过管道与所述真空熔炼室连接的真空阀，所述真空熔炼室的顶部设置有移动炉盖，所述移动炉盖上设置有上加料室、观察窗阀门、减速传动电机和传料装置，所述真空熔炼室设置有两个出口且在两个出口处分别设置有进模室和出模室，所述真空熔炼室的内部设置有传送装置，所述传送装置依次穿过进模室、真空熔炼室和出模室，所述真空熔炼炉的外部还设置有流槽室和侧加料室通过设置的进模室和出模室，大大降低了铸件流转的时间影响和真空度的频繁切换，节约了大量能源消耗，而且可以实现流水化浇铸生产，提高了铸件的浇铸效率。
一种真空感应熔炼浇铸

[实用新型]一种切换开关-CN201720733167.8有效
发明人：赵镭;吴耀辉;宋江保;常青娟 -专利权人：西安森宝电气工程有限公司
申请日： 2017-06-22 - 公布日： 2018-02-16 - 主分类号： H01H33/666 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种切换开关，包括第一真空灭弧室、第二真空灭弧室、第三真空灭弧室、第四真空灭弧室、第一输出端A、第二输出端B、输入端C,第一真空灭弧室、第二真空灭弧室、第三真空灭弧室、第四真空灭弧室均包括连杆、静触头和动触头，所述连杆上连接有弹簧机构，当给弹簧机构施加向下的压力时真空灭弧室导通，当撤掉给弹簧机构施加的向下的压力时真空灭弧室断开。
一种切换开关

[实用新型]真空室和真空室的一部分-CN201920140551.6有效
发明人：安德烈亚斯·穆勒;迈克尔·韦斯特里希;埃里克·安索奇 -专利权人：梅耶博格（德国）有限责任公司
申请日： 2019-01-25 - 公布日： 2020-04-28 - 主分类号： F16B11/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种真空室和真空室的一部分，其具有多个构成真空室的部件，特别是室壁和连接法兰。本实用新型所要解决的技术问题是示出一种能低成本制造的真空室。该技术问题通过一种真空室解决，该真空室具有连接真空室的至少两个部件的粘合部。
真空一部分